【技术实现步骤摘要】
本申请涉及显示，尤其涉及一种显示面板及其制备方法和显示设备。
技术介绍
1、阵列基板(thin film transistor，tft)制作过程一般采用五道光罩(5mask)，过多的光罩次数会增加制程成本，同时也会增大生产节拍时间，使生产效率大大降低。为了达到缩减光罩数量的目的，很多公司纷纷发展四道光罩(4mask)技术，将有源半导体层和源极、漏极用一道半色调(half tone，htm)或灰色调(gray tone，gtm)光罩同时形成。htm或gtm光罩可以使光阻得到两种不同的膜厚，这两种膜厚分别可以用来定义有源半导体层和源极、漏极的图案。
2、为了进一步缩减光罩数量，3mask技术将钝化层及ito层用一张htm或gtm光罩形成，使像素区的ito既能形成断裂图形，又能形成在钝化层的过孔中。3mask技术难点在于光阻被ito覆盖后难以被剥离，剥离效果差，效率低。通过植绒的方法可以解决此问题，高强度的灰化处理可在光阻表面形成绒状，利用绒毛结构高低起伏的表面特征，可使覆盖在其表面的薄膜ito断裂，从而利用剥离液接触，提高剥离效率。
3、但是通过植绒方法来形成像素电极图案，也会存在光阻和ito剥离不净的问题。
技术实现思路
1、本申请的目的在于提供一种显示面板及其制备方法和显示设备，旨在改善显示面板整面剥离效果。
2、一方面，本申请提供一种显示面板，包括：
3、基板；
4、栅绝缘层，设置于所述基板上；
5、钝化层，
6、像素电极，设置于所述第一凹槽内。
7、在一些实施例中，所述栅绝缘层背离所述基板的表面具有对应所述第一凹槽的第二凹槽，所述钝化层厚度均匀地覆盖在所述栅绝缘层的表面。
8、在一些实施例中，所述像素电极在所述基板上的正投影与所述第一凹槽在所述基板上的正投影重叠。
9、在一些实施例中，所述第一凹槽包括底面和侧壁，所述像素电极包括覆盖所述底面的第一部分和覆盖所述侧壁的第二部分，所述第二部分在垂直所述侧壁方向的厚度小于所述第一部分在垂直于所述基板所在平面方向的厚度。
10、在一些实施例中，相邻所述第二凹槽之间形成凸起，所述显示面板还包括：
11、半导体层，覆盖所述凸起远离所述基板的一侧表面。
12、在一些实施例中，所述显示面板还包括：
13、第一金属层，位于所述基板和所述栅绝缘层之间；
14、有源层，位于所述栅绝缘层远离所述第一金属层的一侧，且与所述半导体层同层设置；以及
15、第二金属层，位于所述有源层和所述钝化层之间。
16、另一方面，本申请还提供一种显示面板得制备方法，所述显示面板的制备方法包括：
17、提供基板；
18、在所述基板上形成栅绝缘层；
19、在所述栅绝缘层远离所述基板的一侧形成钝化层，所述钝化层背离所述栅绝缘层的表面设有多个第一凹槽；
20、在所述第一凹槽内形成像素电极。
21、在一些实施例中，所述基板包括像素区和与所述像素区相邻的晶体管区，所述在所述基板上形成栅绝缘层的步骤，包括：
22、在所述基板上依次形成初始栅绝缘层、初始半导体层、第二初始金属层和第一光阻层；
23、利用第一掩模板依次对所述第一光阻层、所述第二初始金属层、所述初始半导体层和部分所述初始栅绝缘层进行刻蚀，以将所述第一光阻层图案化形成第一光阻图案和位于所述第一光阻图案之间的第一开口，将所述第二初始金属层图案化形成第二金属层，将所述初始栅绝缘层图案化形成栅绝缘层和位于所述栅绝缘层上的与所述第一开口对应的第二凹槽，其中，所述第二凹槽的深度小于所述栅绝缘层的厚度；
24、去除所述第一光阻图案；以及
25、去除所述第二金属层与所述像素电极对应的部分。
26、在一些实施例中，相邻所述第一凹槽之间形成凸起，所述在所述第一凹槽内形成像素电极的步骤，包括：
27、在所述钝化层上形成第二光阻层；
28、利用第二半色调掩模板对所述第二光阻层进行图案化形成第二光阻图案层，所述第二光阻图案层包括位于所述凸起上的第一初始光阻部和位于所述第一凹槽上的第二初始光阻部；
29、对所述第二光阻图案层进行灰化处理，以去除所述第二初始光阻部，并减薄所述第一初始光阻部形成位于所述凸起上的第一光阻部；
30、对所述第一光阻部的表面进行植绒处理；
31、在所述钝化层和所述第一光阻部的表面形成像素电极材料层；
32、剥离所述第一光阻部，以去除所述第一光阻部上的所述像素电极材料层，并保留位于所述第一凹槽内的所述像素电极材料层形成像素电极。
33、再一方面，本申请还提供一种显示设备，所述显示设备包括上述任一实施例中的显示面板。
34、本申请提供一种显示面板及其制备方法和显示设备，该显示面板包括基板、栅绝缘层、钝化层和像素电极。栅绝缘层设置于所述基板上，钝化层设置于所述栅绝缘层远离所述基板的一侧，所述钝化层背离所述栅绝缘层的表面设有多个第一凹槽，像素电极设置于所述第一凹槽内。因此可以通过剥离其他位置绒状光阻的方式使覆盖其表面的像素电极材料断裂形成像素电极的图案。由于钝化层的表面设有多个第一凹槽，因此钝化层在第一凹槽之间的地势抬高，可以增大第一凹槽之间光阻的高度，这样在通过剥离液剥离第一凹槽之间光阻而形成图案化的像素电极的过程中，剥离液受阻截面积增大，因此可以促进剥离液对光阻的浸入和冲刷，改善整面剥离效果。
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1.一种显示面板，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述栅绝缘层背离所述基板的表面具有对应所述第一凹槽的第二凹槽，所述钝化层厚度均匀地覆盖在所述栅绝缘层的表面。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素电极在所述基板上的正投影与所述第一凹槽在所述基板上的正投影重叠。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一凹槽包括底面和侧壁，所述像素电极包括覆盖所述底面的第一部分和覆盖所述侧壁的第二部分，所述第二部分在垂直所述侧壁方向的厚度小于所述第一部分在垂直于所述基板所在平面方向的厚度。
5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，相邻所述第二凹槽之间形成凸起，所述显示面板还包括：
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：
7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板的制备方法包括：
8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述基板上形成栅绝缘层的步骤，包括：
9.根据权利要求8所
10.一种显示设备，其特征在于，所述显示设备包括权利要求1-6任一项所述的显示面板。
...【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述栅绝缘层背离所述基板的表面具有对应所述第一凹槽的第二凹槽，所述钝化层厚度均匀地覆盖在所述栅绝缘层的表面。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素电极在所述基板上的正投影与所述第一凹槽在所述基板上的正投影重叠。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一凹槽包括底面和侧壁，所述像素电极包括覆盖所述底面的第一部分和覆盖所述侧壁的第二部分，所述第二部分在垂直所述侧壁方向的厚度小于所述第一部分在垂直于所述基板所在平面方向的厚度。
5.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：张子豪，王赫，李子然，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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