阵列射流离子暴发生器及焕肤罩制造技术

技术编号:41068763 阅读:18 留言:0更新日期:2024-04-24 11:23
本发明专利技术提供一种阵列射流离子暴发生器及焕肤罩,该阵列射流离子暴发生器包括沿厚度方向依次设置的阳极、厚膜介质和阴极;所述阵列射流离子暴发生器在厚度方向开设多个贯穿的微型通孔,所述微型通孔具有梯度结构,所述梯度结构靠近所述阳极一端的截面积大于靠近所述阴极一端的截面积;所述微型通孔利用空气的压差形成单向阀结构,在施加工作电压后形成定向的高速射流离子暴。本发明专利技术具备消杀、焕肤功能,且具备轻、小、柔、薄的特质,同时具有功耗低、集成度高的特点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及医美设备,具体地,涉及一种阵列射流离子暴发生器及焕肤罩


技术介绍

1、随着科技的进步和社会的发展,人们对面部皮肤的护理需求越来越高,影响美容的皮肤问题如粉刺、各类色素沉着、浅表瘢痕、皮肤粗糙老化等各类影响美容的皮肤病,由此,用于美容的焕肤仪得到广大消费者的青睐。焕肤仪能够有效祛除皮肤深层痤疮菌,祛痘印、痤疮、粉刺等,并防止复发,起到消炎作用,对于净化皮肤组织的代谢环境,祛除痤疮等具有较好的临床效果。

2、但现有的护肤设备实际护肤效果却并不理想,且护肤设备的体积一般较大,给使用者带来极大的不便。


技术实现思路

1、针对现有技术中的缺陷,本专利技术的目的是提供一种阵列射流离子暴发生器及焕肤罩。

2、根据本专利技术的一个方面,提供一种阵列射流离子暴发生器,包括沿厚度方向依次设置的阳极、厚膜介质和阴极;当施加工作电压时,所述阴极向所述阳极发射高速电子,所述高速电子碰撞空气形成离子暴,所述厚膜介质用于阻隔所述阳极和所述阴极以防止电击穿;所述阵列射流离子暴发生器在厚度方向开设多个贯本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种阵列射流离子暴发生器,其特征在于,包括沿厚度方向依次设置的阳极、厚膜介质和阴极;当施加工作电压时,所述阴极向所述阳极发射高速电子,所述高速电子碰撞空气形成离子暴,所述厚膜介质用于阻隔所述阳极和所述阴极以防止电击穿;

2.一种阵列射流离子暴焕肤罩,其特征在于,包括:

3.根据权利要求2所述的阵列射流离子暴焕肤罩,其特征在于,所述陶瓷基底为在陶瓷层嵌入加热丝的陶瓷基底。

4.根据权利要求2所述的阵列射流离子暴焕肤罩,其特征在于,所述基底采用相变自发热薄膜,所述相变自发热薄膜反射皮肤发出的红外线,并吸收内外热辐射的热能在低温时进行释放,以确保罩腔内温...

【技术特征摘要】

1.一种阵列射流离子暴发生器,其特征在于,包括沿厚度方向依次设置的阳极、厚膜介质和阴极;当施加工作电压时,所述阴极向所述阳极发射高速电子,所述高速电子碰撞空气形成离子暴,所述厚膜介质用于阻隔所述阳极和所述阴极以防止电击穿;

2.一种阵列射流离子暴焕肤罩,其特征在于,包括:

3.根据权利要求2所述的阵列射流离子暴焕肤罩,其特征在于,所述陶瓷基底为在陶瓷层嵌入加热丝的陶瓷基底。

4.根据权利要求2所述的阵列射流离子暴焕肤罩,其特征在于,所述基底采用相变自发热薄膜,所述相变自发热薄膜反射皮肤发出的红外线,并吸收内外热辐射的热能在低温时进行释放,以确保罩腔内温度恒定。

5.根据权利要求2所述的阵列射流离子暴焕肤罩,其特征在于,还包括设于所述基底内侧的药物空化器,所述药物空化器通过超声波空爆效应将药物粉碎成微纳微粒,所述微纳微粒经所述阵列射流离子暴发生器离化加速后射入机体内部。

6.根据权利要求5所述的阵列射流离子暴焕肤罩,其特征在于,还包括设于所述基底...

【专利技术属性】
技术研发人员:姚锦元汤惠敏张智天宋嘉诚朱洪良何云帆姚茗方寿芳仪孙久文方宇红
申请(专利权)人:上海惠浦机电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1