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透光膜片及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

技术编号:41066587 阅读:2 留言:0更新日期:2024-04-24 11:20
本公开提供了透光膜片及其制备方法、显示装置,用以提高透光膜片贴付的设备表面的抗菌、抗病毒性能。显示面板包括:显示基板;透光膜片,位于显示基板的出光侧;透光膜片包括:基底,位于基底背离显示基板一侧的抗菌层,位于抗菌层背离基底的一侧的抗指纹层,以及位于基底朝向显示基板的一侧的偏光功能层;抗菌层包括透光基材以及抗菌金属络合物;透光基材包括亲水基团;抗指纹层的接触角大于100°且小于或等于150°。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及显示,尤其涉及透光膜片及其制备方法、显示装置


技术介绍

1、随着显示技术的不断发展,智能终端的人机交互需求越来越多。因此,显示屏表面无法避免与用户接触,用户触摸容易在显示屏表面生长和繁殖细菌、真菌、病毒等;且这些细菌、病毒可能会通过与用户的接触形成传播,容易形成病菌污染源,在不同的操作者之间形成接触传播。


技术实现思路

1、本公开实施例提供了透光膜片及其制备方法、显示装置,用以提高透光膜片贴付的设备表面的抗菌、抗病毒性能。

2、本公开实施例提供的一种显示面板,显示面板包括:

3、显示基板;

4、透光膜片,位于显示基板的出光侧;透光膜片包括:基底,位于基底背离显示基板一侧的抗菌层,位于抗菌层背离基底的一侧的抗指纹层,以及位于基底朝向显示基板的一侧的偏光功能层;抗菌层包括透光基材以及抗菌金属络合物;透光基材包括亲水基团;抗指纹层的接触角大于100°且小于或等于150°。

5、在一些实施例中,抗菌层还包括散射粒子。

6、在一些实施例中,抗菌层的雾度大于或等于1%且小于或等于50%。

7、在一些实施例中,偏光功能层包括:偏光层以及至少一层保护层;

8、保护层位于偏光层与基底之间,和/或,保护层位于偏光层背离基底的一侧。

9、在一些实施例中,基底复用为保护层。

10、在一些实施例中,基底的厚度大于位于偏光层与基底之间的保护层的厚度,和/或,基底的厚度大于位于偏光层背离基底的一侧的保护层的厚度。

11、在一些实施例中,还包括:

12、压敏胶,位于透光膜片与显示基板之间,压敏胶包括:胶材,以及与胶材混合的导电材料。

13、在一些实施例中,导电材料的质量分数大于0且小于5%。

14、在一些实施例中,显示基板包括:多个子像素单元以及多个触控电极。

15、在一些实施例中,显示基板包括:相对设置的阵列基板和对向基板,以及位于阵列基板和对向基板之间的液晶层;

16、阵列基板包括:第一衬底基板,位于第一衬底基板面向液晶层一侧的多条数据线以及多个触控电极;

17、触控电极与数据线的延伸方向相同,触控电极与数据线同层设置,且触控电极位于数据线的一侧。

18、在一些实施例中,显示基板包括:相对设置的阵列基板和对向基板,以及位于阵列基板和对向基板之间的液晶层;

19、对向基板包括:第二衬底基板,位于第二衬底基板面向液晶层一侧的黑矩阵,以及位于第二衬底基板背离黑矩阵的一侧的多个触控电极。

20、在一些实施例中,显示基板包括:显示功能层,以及位于显示功能层朝向透光膜片一侧的静电导出层。

21、在一些实施例中,在抗菌层中,透光基材的质量分数大于或等于50%且小于或等于95%,抗菌金属络合物的质量分数大于或等于1%且小于或等于10%。

22、在一些实施例中,透光基材包括下列之一或其组合:聚丙烯酸酯类树脂、聚醋酸纤维酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚烯烃树脂;

23、抗菌金属络合物包括下列之一或其组合:银络合物、铜络合物、锌络合物、钛络合物;

24、亲水基团包括下列之一或其组合:羟基、羰基、羧基、酮。

25、在一些实施例中,基底的厚度大于或等于20微米且小于或等于80微米;

26、抗菌层的厚度大于或等于5微米且小于或等于7微米。

27、本公开实施例提供的一种显示面板的制备方法,包括:

28、制作显示基板;

29、制备透光膜片,包括:提供基底以及抗菌层溶液;在基底一侧涂覆抗菌层溶液,并进行固化工艺,形成抗菌层;在抗菌层背离基底的一侧形成抗指纹层,在基底背离抗菌层的一侧粘结偏光功能层;其中,抗菌层溶液包括:抗菌金属络合物以及透光基材材料,透光基材材料包括亲水基团,抗指纹层的接触角大于100°且小于或等于150°;

30、将透光膜片贴付于显示基板的出光侧。

31、在一些实施例中,提供抗菌层溶液包括:将透光基材材料、抗菌金属络合物、散射粒子以及有机溶剂均匀混合,获得抗菌层溶液。

32、在一些实施例中,制备透光膜片之后,还包括:

33、在透光膜片朝向显示基板的一侧涂覆压敏胶;压敏胶包括导电材料。

34、在一些实施例中,制备显示面板,具体包括:

35、提供衬底基板,在衬底基板的一侧形成多个子像素单元以及多个触控电极;和/或,

36、制备显示面板,具体包括:

37、形成显示功能层;

38、在显示功能层面向透光膜片的一侧形成静电导出层。

39、本公开实施例提供的一种显示装置,包括:本公开实施例提供的显示面板。

40、本公开实施例提供的显示面板及其制备方法、显示装置,透光膜片贴付于显示基板的出光侧,透光膜片包括抗菌层,该抗菌层包括透光基材以及抗菌金属络合物,透光基材包括的亲水基团可以充分吸收空气中、膜材表面的水汽,水汽诱使抗菌金属络合物中释放出抗菌金属离子,从而达到杀灭细菌、病毒的效果,避免在透光膜片表面出现细菌、病毒的残留、滋生,避免使得透光膜片表面成为细菌、病毒污染源进而传播,提高显示面板的抗细菌、病毒能力;透光膜片还包括抗指纹层,可以避免污渍等残留,提高抗菌效果。并且抗指纹层的接触角大于100°且小于或等于150°,可以在避免污渍残留的同时避免接触角过大导致水汽无法残留影响抗菌性能。

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【技术保护点】

1.一种显示面板,其中,所述显示面板包括:

2.根据权利要求1所述的显示面板,其中,所述抗菌层还包括散射粒子。

3.根据权利要求2所述的显示面板,其中,所述抗菌层的雾度大于或等于1%且小于或等于50%。

4.根据权利要求1~3任一项所述的显示面板,其中,所述偏光功能层包括:偏光层以及至少一层保护层;

5.根据权利要求4所述的显示面板,其中,所述基底复用为所述保护层。

6.根据权利要求4所述的显示面板,其中,所述基底的厚度大于位于所述偏光层与所述基底之间的所述保护层的厚度,和/或,所述基底的厚度大于位于所述偏光层背离所述基底的一侧的所述保护层的厚度。

7.根据权利要求1~3、5、6任一项所述的显示面板,其中,还包括:

8.根据权利要求7所述的显示面板,其中,所述导电材料的质量分数大于0且小于5%。

9.根据权利要求1~3、5、6、8任一项所述的显示面板,其中,所述显示基板包括:多个子像素单元以及多个触控电极。

10.根据权利要求9所述的显示面板,其中,所述显示基板包括:相对设置的阵列基板和对向基板,以及位于所述阵列基板和所述对向基板之间的液晶层;

11.根据权利要求9所述的显示面板,其中,所述显示基板包括:相对设置的阵列基板和对向基板,以及位于所述阵列基板和所述对向基板之间的液晶层;

12.根据权利要求1~3、5、6、8、10、11任一项所述的显示面板,其中,所述显示基板包括:显示功能层,以及位于所述显示功能层朝向所述透光膜片一侧的静电导出层。

13.根据权利要求1~3、5、6、8、10、11任一项所述的显示面板,其中,在所述抗菌层中,所述透光基材的质量分数大于或等于5%且小于或等于95%,所述抗菌金属络合物的质量分数大于或等于1%且小于或等于10%。

14.根据权利要求1~3、5、6、8、10、11任一项所述的显示面板,其中,所述透光基材包括下列之一或其组合:聚丙烯酸酯类树脂、聚醋酸纤维酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚烯烃树脂;

15.根据权利要求1~3、5、6、8、10、11任一项所述的显示面板,其中,

16.一种显示面板的制备方法,其中,所述方法包括:

17.根据权利要求16所述的方法,其中,提供抗菌层溶液包括:将透光基材材料、抗菌金属络合物、散射粒子以及有机溶剂均匀混合,获得所述抗菌层溶液。

18.根据权利要求16或17所述的方法,其中,所述制备透光膜片之后,所述方法还包括:

19.根据权利要求16或17所述的方法,其中,所述制备显示面板,具体包括:

20.一种显示装置,其中,包括:根据权利要求1~15任一项所述的显示面板。

...

【技术特征摘要】

1.一种显示面板,其中,所述显示面板包括:

2.根据权利要求1所述的显示面板,其中,所述抗菌层还包括散射粒子。

3.根据权利要求2所述的显示面板,其中,所述抗菌层的雾度大于或等于1%且小于或等于50%。

4.根据权利要求1~3任一项所述的显示面板,其中,所述偏光功能层包括:偏光层以及至少一层保护层;

5.根据权利要求4所述的显示面板,其中,所述基底复用为所述保护层。

6.根据权利要求4所述的显示面板,其中,所述基底的厚度大于位于所述偏光层与所述基底之间的所述保护层的厚度,和/或,所述基底的厚度大于位于所述偏光层背离所述基底的一侧的所述保护层的厚度。

7.根据权利要求1~3、5、6任一项所述的显示面板,其中,还包括:

8.根据权利要求7所述的显示面板,其中,所述导电材料的质量分数大于0且小于5%。

9.根据权利要求1~3、5、6、8任一项所述的显示面板,其中,所述显示基板包括:多个子像素单元以及多个触控电极。

10.根据权利要求9所述的显示面板,其中,所述显示基板包括:相对设置的阵列基板和对向基板,以及位于所述阵列基板和所述对向基板之间的液晶层;

11.根据权利要求9所述的显示面板,其中,所述显示基板包括:相对设置的阵列基板和对向基板,以及位于所述阵列基板和所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:辛兰邵新智李哲耿玉旭杨军闵泰烨杨坤
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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