【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体领域,尤其涉及一种激光器晶圆结构及激光器。
技术介绍
1、边发射半导体激光器主要包括法布里-珀罗激光器以及带有光栅选模的分布反馈式激光器,广泛应用于数据通信、工业加工、激光雷达、医疗美容等领域。边发射半导体激光器为端面激射出光,所以出光端面对于激光器的性能与可靠性表现至关重要。目前一般通过晶圆沿晶向解理为巴条,从而得到光滑平整的端面。具体的,在晶圆表面划出平行于某个晶面的划痕,而后将晶圆沿划痕压裂,使其沿该晶面解理为巴条,然后进行巴条腔面的镀膜,一端镀高反射膜层,一端镀低反射膜层,从而使大部分光从低反射膜端射出。
2、解理端面对于器件边缘的光学质量非常重要。然而,在实际生产中,由于划痕深度、裂刀力度的工艺误差,经常会出现解理面粗糙、端面水波纹、以及解理跳晶向的现象,从而造成良率损失。
3、此外,端面镀膜排巴时往往需要镀膜陪条比激光器巴条小10~30μm,以保证激光器端面能够完整地镀上高反射膜和低反射膜,因此导致在激光器的正面和背面留下10~30μm的镀膜线,激光器背面的镀膜线会导致激光器在测试、封装打线时出现接触不良的问题,甚至会导致封装后激光器的长期可靠性失效的风险。
技术实现思路
1、本技术的目的在于克服现有技术存在的不足,提供一种激光器晶圆结构及激光器。
2、为了实现以上目的,本技术的技术方案为:
3、一种激光器晶圆结构,包括衬底、设于所述衬底正面的激光器外延层和切割道,所述激光器外延层包括若干个器件区,所述切割
4、作为优选,所述凹槽包括v型或u型。
5、作为优选,所述凹槽的深度为40μm~60μm。
6、作为优选,所述凹槽的顶部开口的宽度为40μm~60μm。
7、作为优选,还包括所述激光器外延层上蚀刻出的脊波导结构。
8、作为优选,所述激光器外延层上方设有正面金属层。
9、作为优选,所述衬底背面上除凹槽以外的区域设有背面金属层,所述背面金属层、衬底、所述激光器外延层、脊波导结构和正面金属层构成激光器。
10、作为优选,所述激光器的厚度为85μm~150μm。
11、作为优选,所述激光器的腔长大于150μm。
12、一种激光器,所述激光器由上述的激光器晶圆结构经过巴条解理而成,并且所述激光器相对的两个侧边设有高反射膜层和低反射膜层。
13、相比于现有技术,本技术的有益效果为:
14、(1)本技术提出的激光器晶圆结构在衬底背面对应切割线的位置通过v字型切割刀或者湿法腐蚀出v型凹槽或者u型凹槽,制作出具有楔形结构的激光器,减薄解离区域的芯片厚度,降低巴条解理工艺难度。
15、(2)本技术提出的激光器晶圆结构具有较小的解理厚度,因此更容易获得良好的解理端面,提高巴条解理良率。
16、(3)本技术提出的激光器呈楔形结构,其四个侧面设有斜面,可以使激光器背面有更小的镀膜线,保证激光器背面的接触,避免芯片测试、封装打线时出现接触不良问题,并极大的提升激光器的可靠性。
17、附图说明
18、图1为本申请的实施例的激光器晶圆结构的衬底正面向上的俯视图;
19、图2为本申请的实施例的激光器晶圆结构的衬底背面向上的侧视图;
20、图3为本申请的实施例的激光器的立体图;
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1.一种激光器晶圆结构,其特征在于:包括衬底、设于所述衬底正面的激光器外延层和切割道,所述激光器外延层包括若干个器件区,所述切割道位于所述激光器外延层的外侧以及相邻所述器件区之间,所述衬底背面对应所述切割道的位置设有凹槽,所述凹槽的开口尺寸沿深度方向逐渐缩小,所述器件区包括有源区,所述凹槽的深度小于所述衬底背面与所述有源区之间的距离。
2.根据权利要求1所述的激光器晶圆结构,其特征在于:所述凹槽包括V型或U型。
3.根据权利要求1所述的激光器晶圆结构,其特征在于:所述凹槽的深度为40μm~60μm。
4.根据权利要求1所述的激光器晶圆结构,其特征在于:所述凹槽的顶部开口的宽度为40μm~60μm。
5.根据权利要求1所述的激光器晶圆结构,其特征在于:还包括所述激光器外延层上蚀刻出的脊波导结构。
6.根据权利要求5所述的激光器晶圆结构,其特征在于:所述激光器外延层上方设有正面金属层。
7.根据权利要求6所述的激光器晶圆结构,其特征在于:所述衬底背面上除凹槽以外的区域设有背面金属层,所述背面金属层、衬底、激光器外
8.根据权利要求7所述的激光器晶圆结构,其特征在于:所述激光器的厚度为85μm~150μm。
9.根据权利要求7所述的激光器晶圆结构,其特征在于:所述激光器的腔长大于150μm。
10.一种激光器,其特征在于:所述激光器由权利要求1-9任一项所述的激光器晶圆结构经过巴条解理而成,并且所述激光器相对的两个侧边设有高反射膜层和低反射膜层。
...【技术特征摘要】
1.一种激光器晶圆结构,其特征在于:包括衬底、设于所述衬底正面的激光器外延层和切割道,所述激光器外延层包括若干个器件区,所述切割道位于所述激光器外延层的外侧以及相邻所述器件区之间,所述衬底背面对应所述切割道的位置设有凹槽,所述凹槽的开口尺寸沿深度方向逐渐缩小,所述器件区包括有源区,所述凹槽的深度小于所述衬底背面与所述有源区之间的距离。
2.根据权利要求1所述的激光器晶圆结构,其特征在于:所述凹槽包括v型或u型。
3.根据权利要求1所述的激光器晶圆结构,其特征在于:所述凹槽的深度为40μm~60μm。
4.根据权利要求1所述的激光器晶圆结构,其特征在于:所述凹槽的顶部开口的宽度为40μm~60μm。
5.根据权利要求1所述的激光器晶圆结构,其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈宁利,刘思远,
申请(专利权)人:泉州市三安光通讯科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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