基于金属箔的微芯片SERS基底及其制备方法和应用技术

本发明专利技术公开了一种基于金属箔的微芯片SERS基底及其制备方法和应用，所述微芯片SERS基底包括金属箔、贵金属纳米粒子、微流控通道和聚合物基材；所述聚合物基材与金属箔层叠设置；所述聚合物基材和金属箔之间设有微流控通道，所述金属箔表面部分覆盖所述贵金属纳米粒子；所述贵金属纳米粒子位于微流控通道内。本发明专利技术中的微芯片SERS基底将微流控通道与SERS基底(即贵金属纳米粒子)结合在一起，实现SERS检测的微型化，可以用于检测如亚甲基蓝的染料和如磺胺嘧啶的抗生素，检测时具有较强的SERS响应信号、较好的重复性和稳定性、检测速度快、消耗试剂量少等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于检测领域，具体涉及一种基于金属箔的微芯片sers基底及其制备方法和应用。

技术介绍

1、随着微加工技术的不断发展和进步，微流控芯片的合成技术也更加成熟，大大推进了微流控芯片的研究和应用。微流控芯片的微型化是其最大特点，可实现将多种微结构的灵活集成，形成“片上实验室”。同时，表面增强拉曼技术在微量检测、生物分子检测等方面表现出优越的性能。拉曼光谱与分子的振动相关，因此每种分子都有其特定的拉曼光谱特征峰，常作为分子的“指纹”识别特征。若能将微流控芯片作为实验平台，结合sers作为检测手段，则有望发挥二者的优势，获得更高灵敏度、快速便捷的检测与分析手段。目前，在制备微流控sers检测芯片时，需在微通道中引入具有sers活性的基底，然而，现有沉积方法通常需要在高真空和高温条件下进行，并使用大体积、价格昂贵的设备，不适用于制备微芯片sers基底，尤其是在合成时的条件优化，需要大批量的进行芯片和芯片上材料合成的过程，复杂且繁琐，且微芯片的尺度在微米级左右，人为因素带来的误差不可忽略。因此，如何简化sers基底的合成和条件优化过程，得到性能更为优异的ser本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种微芯片SERS基底，其特征在于：包括金属箔、贵金属纳米粒子、微流控通道和聚合物基材；所述聚合物基材与金属箔层叠设置；所述聚合物基材和金属箔之间设有微流控通道，所述金属箔表面部分覆盖所述贵金属纳米粒子；所述贵金属纳米粒子位于微流控通道内。

2.根据权利要求1所述的微芯片SERS基底，其特征在于：所述金属箔的材料选自铜、铁、铝、锌、锡中的至少一种；和/或，所述金属箔的厚度大于0.1mm。

3.根据权利要求1所述的微芯片SERS基底，其特征在于：所述微流控通道的结构选自直通道结构、弯曲通道结构、Y字型通道结构、液滴通道结构、浓度梯度通道结构中的至少一种。

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【技术特征摘要】

1.一种微芯片sers基底，其特征在于：包括金属箔、贵金属纳米粒子、微流控通道和聚合物基材；所述聚合物基材与金属箔层叠设置；所述聚合物基材和金属箔之间设有微流控通道，所述金属箔表面部分覆盖所述贵金属纳米粒子；所述贵金属纳米粒子位于微流控通道内。

2.根据权利要求1所述的微芯片sers基底，其特征在于：所述金属箔的材料选自铜、铁、铝、锌、锡中的至少一种；和/或，所述金属箔的厚度大于0.1mm。

3.根据权利要求1所述的微芯片sers基底，其特征在于：所述微流控通道的结构选自直通道结构、弯曲通道结构、y字型通道结构、液滴通道结构、浓度梯度通道结构中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的微芯片sers基底，其特征在于：所述贵金属纳米粒子选自金纳米粒子、银纳米粒子中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的微芯片sers基底，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖小华，黄剑英，夏凌，李攻科，
申请(专利权)人：中山大学，
类型：发明
国别省市：