System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 肌肤处理装置以及导电片制造方法及图纸_技高网

肌肤处理装置以及导电片制造方法及图纸

技术编号:40994956 阅读:4 留言:0更新日期:2024-04-18 21:35
本发明专利技术提供一种肌肤处理装置,能够根据使用者的要求对各种区域的肌肤面进行肌肤处理。根据本发明专利技术的一种方式,提供了一种肌肤处理装置。该肌肤处理装置具备至少一部分能够沿任意方向伸缩的导电片、或者至少一部分能够追随肌肤面的具有可挠性的导电片,以及安装于导电片并且向使用者的肌肤面供给电流的装置主体。导电片具有片基材、导电模式以及生物粘合剂层。导电模式设置于片基材的一方的面侧,具备配线部和与配线部的一端侧连接的电极部。生物粘合剂层设置于导电模式与片基材相反的一侧,并且构成为粘贴于使用者的肌肤面。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及肌肤处理装置以及导电片


技术介绍

1、以往,开发出了以提高对脸部的美容效果为目的的装置(见专利文献1((日本专利公开2022-116856)))。

2、作为该装置,在专利文献1中公开了安装于使用者的面部并且通过电刺激进行施术的美容面罩。

3、这种美容面罩包括面罩主体和刺激体,其中面罩主体覆盖使用者面部的大致整体区域,刺激体设置在面罩主体上,并且实施用于向与使用者脸颊相对应的区域连续施加具有预定电流强度的电刺激的施术波。


技术实现思路

1、专利技术所要解决的课题

2、然而,上述美容面罩的问题在于,施术区域被指定为使用者的脸颊。

3、鉴于以上情况,本专利技术提供一种肌肤处理装置,能够根据使用者的要求对各种区域的肌肤面实施肌肤处理。

4、用于解决课题的方案

5、根据本专利技术的一种方式,提供了一种肌肤处理装置。该肌肤处理装置具备至少一部分能够沿任意方向伸缩的导电片、或者至少一部分能够追随肌肤面的具有可挠性的导电片,以及安装于导电片并且向使用者的肌肤面供给电流的装置主体。导电片具有片基材、导电模式(conductive pattern)以及生物粘合剂层。导电模式设置于片基材的一方的面侧,具备配线部和与配线部的一端侧连接的电极部。生物粘合剂层设置于导电模式与片基材相反的一侧,并且构成为粘贴于使用者的肌肤面。

6、根据这样的方式,可以提供一种肌肤处理装置,能够根据使用者的要求对各种区域的肌肤面进行肌肤处理。

【技术保护点】

1.一种肌肤处理装置,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的肌肤处理装置,其特征在于,

3.根据权利要求1或2所述的肌肤处理装置,其特征在于,

4.根据权利要求1至3中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

5.根据权利要求1至4中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

6.根据权利要求4或5所述的肌肤处理装置,其特征在于,

7.根据权利要求4至6中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

8.根据权利要求1至7中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

9.根据权利要求8所述的肌肤处理装置,其特征在于,

10.根据权利要求1至9中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

11.根据权利要求1至10中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

12.根据权利要求1至10中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

13.根据权利要求11或12所述的肌肤处理装置,其特征在于,

14.根据权利要求13所述的肌肤处理装置,其特征在于,

>15.根据权利要求1至14中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

16.根据权利要求1至15中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

17.根据权利要求1至16中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

18.根据权利要求1至17中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

19.一种导电片,其用于向使用者的肌肤面供给电流,并且是至少一部分能够沿任意方向伸缩的导电片,或者是至少一部分能够追随肌肤面的具有可挠性的导电片,其特征在于,

20.根据权利要求19所述的导电片,其特征在于,

...

【技术特征摘要】

1.一种肌肤处理装置,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的肌肤处理装置,其特征在于,

3.根据权利要求1或2所述的肌肤处理装置,其特征在于,

4.根据权利要求1至3中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

5.根据权利要求1至4中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

6.根据权利要求4或5所述的肌肤处理装置,其特征在于,

7.根据权利要求4至6中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

8.根据权利要求1至7中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

9.根据权利要求8所述的肌肤处理装置,其特征在于,

10.根据权利要求1至9中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

11.根据权利要求1至10中任一项所述的肌肤处理装置,其特征在于,

...

【专利技术属性】
技术研发人员:小岛英明
申请(专利权)人:雅萌股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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