【技术实现步骤摘要】
本技术涉及硅片清洗槽，尤其涉及一种清洗槽温控系统。
技术介绍
1、硅片在处理时，会通过清洗槽对其表面进行清洗，而一般清洗槽内水的温度在35摄氏度左右。
2、其中，经检索，授权公开号为cn218555000u的专利，公开了一种垂直式单晶硅片清洗槽。上述专利的清洗槽在使用过程中，由于不能对清洗槽内的水进行温度感应，且不能对水的温度进行调整，导致清洗槽的使用效果不佳，不能满足于硅片的清洗应用。
技术实现思路
1、本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种清洗槽温控系统。
2、为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
3、一种清洗槽温控系统，包括外壳体，所述外壳体内设有水槽和水箱，水槽的一侧内壁固定连接有密封管，密封管的外壁插接有多个喷头，水槽的一侧内壁固定连接有防水型温度传感器，水槽的两侧内壁均固定连接有加热管，所述外壳体的一侧外壁固定连接有泵体，泵体的进液端与水箱连通，外壳体的一侧外壁固定连接有控制器和触摸屏，控制器与触摸屏、加热管、防水型温度传感器和泵体电性连接。
4、进一步的，所述水槽与水箱之间设有隔温板。
5、进一步的，所述水箱的顶部转动连接有箱盖。
6、进一步的，所述水槽的两侧内壁均固定连接有斜向板，斜向板位于加热管的上方。
7、进一步的，所述水槽内的底部固定连接有密封板。
8、进一步的，所述水槽的底部内壁固定连接有电机，水槽的底部内壁转动连接有转动轴，电机的输出端
9、进一步的，所述拨动架为u形结构。
10、本技术的有益效果为：
11、1.通过防水型温度传感器对水槽内水的温度进行检测，再通过控制器与触摸屏、加热管、防水型温度传感器和泵体电性连接的设置能够对水进行调温，从而提高清洗槽的使用效果。
12、2.通过电机和拨动架的设置，在升温和降温时，在电机的带动下和皮带的传动作用下带动拨动架进行转动，从而对水槽内水进行拨动，从而使得升温和降温更均匀，进而提高升温和降温的效率。
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1.一种清洗槽温控系统，包括外壳体(1)，其特征在于，所述外壳体(1)内设有水槽(2)和水箱(3)，水槽(2)的一侧内壁固定连接有密封管(7)，密封管(7)的外壁插接有多个喷头(8)，水槽(2)的一侧内壁固定连接有防水型温度传感器(5)，水槽(2)的两侧内壁均固定连接有加热管(6)，所述外壳体(1)的一侧外壁固定连接有泵体(4)，泵体(4)的进液端与水箱(3)连通，外壳体(1)的一侧外壁固定连接有控制器(9)和触摸屏(10)，控制器(9)与触摸屏(10)、加热管(6)、防水型温度传感器(5)和泵体(4)电性连接。
2.根据权利要求1所述的一种清洗槽温控系统，其特征在于，所述水槽(2)与水箱(3)之间设有隔温板(11)。
3.根据权利要求1所述的一种清洗槽温控系统，其特征在于，所述水箱(3)的顶部转动连接有箱盖(12)。
4.根据权利要求1所述的一种清洗槽温控系统，其特征在于，所述水槽(2)的两侧内壁均固定连接有斜向板(13)，斜向板(13)位于加热管(6)的上方。
5.根据权利要求1所述的一种清洗槽温控系统，其特征在于，所述水槽(2
6.根据权利要求1所述的一种清洗槽温控系统，其特征在于，所述水槽(2)的底部内壁固定连接有电机(15)，水槽(2)的底部内壁转动连接有转动轴(16)，电机(15)的输出端与转动轴(16)的一端通过带轮传动连接有皮带，电机(15)的输出端和转动轴(16)的顶端穿过密封板(14)固定连接有拨动架(17)。
7.根据权利要求6所述的一种清洗槽温控系统，其特征在于，所述拨动架(17)为U形结构。
...【技术特征摘要】
1.一种清洗槽温控系统，包括外壳体(1)，其特征在于，所述外壳体(1)内设有水槽(2)和水箱(3)，水槽(2)的一侧内壁固定连接有密封管(7)，密封管(7)的外壁插接有多个喷头(8)，水槽(2)的一侧内壁固定连接有防水型温度传感器(5)，水槽(2)的两侧内壁均固定连接有加热管(6)，所述外壳体(1)的一侧外壁固定连接有泵体(4)，泵体(4)的进液端与水箱(3)连通，外壳体(1)的一侧外壁固定连接有控制器(9)和触摸屏(10)，控制器(9)与触摸屏(10)、加热管(6)、防水型温度传感器(5)和泵体(4)电性连接。
2.根据权利要求1所述的一种清洗槽温控系统，其特征在于，所述水槽(2)与水箱(3)之间设有隔温板(11)。
3.根据权利要求1所述的一种清洗槽温控系统，其特征在于，所述水箱(3)的...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈川南，冯培良，
申请(专利权)人：无锡京运通科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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