一种硅片脏污光源检测装置制造方法及图纸

技术编号:41188969 阅读:2 留言:0更新日期:2024-05-07 22:20
本技术涉及一种硅片脏污光源检测装置,所述硅片脏污光源检测装置包括用于输送硅片的第一传送带、第二传送带、第三传送带,所述第一传送带与第二传送带之间、第二传送带与第三传送带之间设置间隔,所述第一传送带与第二传送带之间近端依次设置壳体和摄像头且壳体开口朝向远端,所述第二传送带与第三传送带之间远端依次设置壳体和摄像头且壳体开口朝向近端,所述壳体包括弧形的反光瓦、设置在所述反光瓦两侧的侧板、设置在所述反光瓦远端两侧的顶架,所述顶架用于固定灯条,所述反光瓦近端开设检查口,所述反光瓦用于反射灯条光线,所述摄像头通过检查口拍摄硅片表面,结构简单,且光线集中,保证拍照时硅片背景亮度。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及硅片检测设备,尤其涉及一种硅片脏污光源检测装置


技术介绍

1、硅片是光伏产业重要材料之一,作为太阳能电池片的载体,硅片的质量的好坏决定了太阳能电池片转换效率的高低。因此,在高精度硅片分选机中,检测硅片上的隐裂等缺陷是重要环节。

2、文献号为cn215812463u的中国技术专利公开了一种硅片检测装置,包括传送单元、采集件、红外光源和调节组件。该技术方案通过采集件与红外光源之间的相对角度的调节范围,提高了成像清晰度,但是红外光源裸露在外,导致光线亮度不足,成像后硅片边缘发黑且表面亮度不均匀,影响对硅片隐裂的判断。


技术实现思路

1、针对上述现有技术的缺点,本技术的目的是提供一种硅片脏污光源检测装置,以解决现有技术中的一个或多个问题。

2、为实现上述目的,本技术的技术方案如下:

3、一种硅片脏污光源检测装置,所述硅片脏污光源检测装置包括用于输送硅片的第一传送带、第二传送带、第三传送带,所述第一传送带与第二传送带之间、第二传送带与第三传送带之间设置间隔,所述第一传送带与第二传送带之间近端依次设置壳体和摄像头且壳体开口朝向远端,所述第二传送带与第三传送带之间远端依次设置壳体和摄像头且壳体开口朝向近端,所述壳体包括弧形的反光瓦、设置在所述反光瓦两侧的侧板、设置在所述反光瓦远端两侧的顶架,所述顶架用于固定灯条,所述反光瓦近端开设检查口,所述反光瓦用于反射灯条光线,所述摄像头通过检查口拍摄硅片表面。

4、进一步的,其中一侧所述侧板远端开设穿线孔。

5、进一步的,所述反光瓦采用铝材。

6、进一步的,所述摄像头采用巴斯勒工业相机。

7、进一步的,所述检查口沿壳体长度方向开设,所述检查口为长方形。

8、进一步的,所述第一传送带、第二传送带、第三传送带平行设置。

9、进一步的,所述第一传送带、第二传送带、第三传送带两侧设置支架,所述壳体固定在支架的近端和远端。

10、进一步的,所述第一传送带包括转轴、设置在转轴两侧的带轮,所述带轮外侧套设皮带,所述转轴通过电机驱动旋转。

11、与现有技术相比,本技术的有益技术效果如下:

12、(一)本技术的一种硅片脏污光源检测装置,通过在传送带间隔处设置壳体,灯条的光线通过反光瓦在壳体内反射,通过壳体的开口处照射到经过的硅片,第一传送带、第二传送带之间近端的摄像头通过检查口拍摄硅片下表面,第二传送带、第三传送带之间远端的摄像头通过检查口拍摄硅片上表面,结构简单,设计巧妙,能够对硅片上表面和下表面成像检测。

13、(二)进一步的,所述壳体包括弧形的反光瓦、设置在所述反光瓦两侧的侧板、设置在所述反光瓦远端两侧的顶架,所述顶架用于固定灯条,所述反光瓦近端开设检查口,反光瓦使灯条发出的光线集中照射硅片,保证拍照时硅片背景亮度。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种硅片脏污光源检测装置,其特征在于:所述硅片脏污光源检测装置包括用于输送硅片的第一传送带、第二传送带、第三传送带,所述第一传送带与第二传送带之间、第二传送带与第三传送带之间设置间隔,所述第一传送带与第二传送带之间近端依次设置壳体和摄像头且壳体开口朝向远端,所述第二传送带与第三传送带之间远端依次设置壳体和摄像头且壳体开口朝向近端,所述壳体包括弧形的反光瓦、设置在所述反光瓦两侧的侧板、设置在所述反光瓦远端两侧的顶架,所述顶架用于固定灯条,所述反光瓦近端开设检查口,所述反光瓦用于反射灯条光线,所述摄像头通过检查口拍摄硅片表面。

2.如权利要求1所述的一种硅片脏污光源检测装置,其特征在于:其中一侧所述侧板远端开设穿线孔。

3.如权利要求2所述的一种硅片脏污光源检测装置,其特征在于:所述反光瓦采用铝材。

4.如权利要求1所述的一种硅片脏污光源检测装置,其特征在于:所述摄像头采用巴斯勒工业相机。

5.如权利要求1所述的一种硅片脏污光源检测装置,其特征在于:所述检查口沿壳体长度方向开设,所述检查口为长方形。

6.如权利要求1所述的一种硅片脏污光源检测装置,其特征在于:所述第一传送带、第二传送带、第三传送带平行设置。

7.如权利要求6所述的一种硅片脏污光源检测装置,其特征在于:所述第一传送带、第二传送带、第三传送带两侧设置支架,所述壳体固定在支架的近端和远端。

8.如权利要求6所述的一种硅片脏污光源检测装置,其特征在于:所述第一传送带包括转轴、设置在转轴两侧的带轮,所述带轮外侧套设皮带,所述转轴通过电机驱动旋转。

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【技术特征摘要】

1.一种硅片脏污光源检测装置,其特征在于:所述硅片脏污光源检测装置包括用于输送硅片的第一传送带、第二传送带、第三传送带,所述第一传送带与第二传送带之间、第二传送带与第三传送带之间设置间隔,所述第一传送带与第二传送带之间近端依次设置壳体和摄像头且壳体开口朝向远端,所述第二传送带与第三传送带之间远端依次设置壳体和摄像头且壳体开口朝向近端,所述壳体包括弧形的反光瓦、设置在所述反光瓦两侧的侧板、设置在所述反光瓦远端两侧的顶架,所述顶架用于固定灯条,所述反光瓦近端开设检查口,所述反光瓦用于反射灯条光线,所述摄像头通过检查口拍摄硅片表面。

2.如权利要求1所述的一种硅片脏污光源检测装置,其特征在于:其中一侧所述侧板远端开设穿线孔。

3.如权利要求2所述的一种硅片脏污光源检测装置,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱仁德周裕吉
申请(专利权)人:无锡京运通科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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