一种化合物及其制备方法和应用技术

本申请实施例提供一种化合物及其制备方法和应用。化合物包括：聚羟基苯乙烯衍生物。聚羟基苯乙烯衍生物至少包括聚羟基苯乙烯和吸光基团，吸光基团用于光的吸收。聚羟基苯乙烯的苯环上的至少一个氢原子被吸光基团取代。与小分子玻璃体系相较，聚羟基苯乙烯衍生物具有较高成膜性和较佳的抗刻蚀性能，因此，可以保证包含该聚羟基苯乙烯衍生物的涂层材料具有较高成膜性和较佳的抗刻蚀性能。进一步的，化合物的吸光性能，由聚羟基苯乙烯衍生物中的吸光基团所决定，可以通过调节引入的吸光集团来调节涂层材料n、k值，进而可以保证涂层材料批次间的稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及图案化材料领域，尤其涉及一种化合物及其制备方法和应用。

技术介绍

1、集成电路(integrated circuit)是一种微型电子器件或部件。集成电路采用一定的工艺把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等器件连接在一起，形成的具有所需电路功能的微型结构。随着集成电路的不断发展，要求在集成电路上集成越来越多的器件。通常，集成电路包含若干层依次层叠的材料层，并且在各个材料层上形成有特定的图案，并且通过将不同材料层的图案组合(例如可以是连接)形成具有一定功能的器件；例如对于在集成电路上形成的晶体管，在一些材料层中形成有源极以及漏极的图案，在另一些材料层中形成有有源层等等。作为一种可行性实现方式，可以在集成电路的某些材料层(例如衬底层)形成沟槽的图案，进而实现器件的隔离。

2、请参阅图1，以对衬底层上形成沟槽的图案为例说明如下。首先，在衬底层1表面覆盖一层光敏感性的图案化材料层2，在图案化材料层2远离衬底层1的一侧设置有掩模版3(mask)。掩模版3具有预定图案的镂空3a。入射光a从掩模版3远离图案化材料层2的一侧入射，入射光a可以透过本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种涂层材料，其特征在于，包括：聚羟基苯乙烯衍生物，所述聚羟基苯乙烯衍生物至少包括聚羟基苯乙烯和吸光基团，所述吸光基团用于光的吸收；

2.根据权利要求1所述的涂层材料，其特征在于，所述聚羟基苯乙烯衍生物包括聚对羟基苯乙烯衍生物。

3.根据权利要求1或2所述的涂层材料，其特征在于，所述聚羟基苯乙烯衍生物还包括至少一个连接基团；

4.根据权利要求1～3任一项所述的涂层材料，其特征在于，还包括交联剂，所述交联剂用于加热时使得所述聚羟基苯乙烯衍生物的羟基发生交联反应。

5.根据权利要求4所述的涂层材料，其特征在于，还包括热产酸材料，所述热产酸材...

【技术特征摘要】

1.一种涂层材料，其特征在于，包括：聚羟基苯乙烯衍生物，所述聚羟基苯乙烯衍生物至少包括聚羟基苯乙烯和吸光基团，所述吸光基团用于光的吸收；

2.根据权利要求1所述的涂层材料，其特征在于，所述聚羟基苯乙烯衍生物包括聚对羟基苯乙烯衍生物。

3.根据权利要求1或2所述的涂层材料，其特征在于，所述聚羟基苯乙烯衍生物还包括至少一个连接基团；

4.根据权利要求1～3任一项所述的涂层材料，其特征在于，还包括交联剂，所述交联剂用于加热时使得所述聚羟基苯乙烯衍生物的羟基发生交联反应。

5.根据权利要求4所述的涂层材料，其特征在于，还包括热产酸材料，所述热产酸材料加热时产生酸性物质，所述酸性物质用于加快所述交联反应的反应速率。

6.根据权利要求1～5任一项所述的涂层材料，其特征在于，还包括有机溶剂。

7.根据权利要求1～6任一项所述的涂层材料，其特征在于，所述吸光基团包括第一基团和/或第二基团，所述第一基团包含芳香族结构，所述第二基团包含重氮结构；

8.根据权利要求7所述的涂层材料，其特征在于，所述芳香族结构包括苯环、蒽环、萘环、苯环衍生物、蒽环衍生物、萘环衍生物中的一种或多种。

9.根据权利要求3～8任一项所述的涂层材料，其特征在于，所述连接基团包括偶氮基团、羰基、酯基、氰基中的一种或几种混合。

10.根据权利要求4～9任一项所述的涂层材料，其特征在于，所述交联剂包括甘脲、三聚氰胺、甘脲衍生物、三聚氰胺衍生物中的一种或多种混合。

11.根据权利要求5～10任一项所述的涂层材料，其特征在于，所述热产酸材料包括：三氟甲磺酸铵盐、三氟甲磺酸吡啶鎓、九氟丁基磺酸铵盐、九氟丁基磺酸吡啶鎓、对甲苯磺酸铵盐、对甲苯磺酸吡啶鎓中的一种或多种混合。

12.根据权利要求6～11任一项所述的涂层材料，其特征在于，所述有机溶剂包括：丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚、丙二...

【专利技术属性】
技术研发人员：李雪苗，周慧慧，王力元，杜泽超，王昊阳，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：