一种高折射率光学薄膜及其制备方法技术

本申请公开了一种高折射率光学薄膜及其制备方法，包括一层折射率为1.63‑1.65的基材，在基材的至少一个表面形成有一层高折射率光学涂层，其特征在于，所述高折射率光学涂层由三(2‑羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯、环己烷二甲醇二丙烯酸酯、纳米氮化硅、正辛基三甲氧基硅烷组成。本申请通过在线涂布工艺可以同步在聚酯基材的表面形成高折射率光学涂层，可以解决填料分散的问题，制备获得的高折射率光学薄膜具备优异的透光率和折射率。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及光学薄膜，尤其涉及一种高折射率光学薄膜及其制备方法。

技术介绍

1、cn 102036818 a公开了一种用于光学应用的聚酯膜，其
技术介绍
部分对聚酯膜在光学领域的应用要求进行了详细说明。该现有技术中记载用于光学膜的膜可包括视角扩展膜、抗反射膜、补偿膜、发光增强膜等，主要用于光学应用膜的膜是聚酯膜。已知的是，光学领域采用的聚酯薄膜需要具有优良的物理性能。而用于显示器领域的聚酯膜通常表面涂装有各种涂层，以提高基膜的光学性能。该现有技术进一步提出了供一种用于光学应用的聚酯膜，所述聚酯膜通过在用于光学应用的聚酯膜的两面上形成涂层，从而改进总透光率。具体而言，该现有技术提供折射率为1.6～1.7的聚酯膜和在聚酯膜的两表面上均具有折射率为1.4～1.6的涂层，整个膜的总透光率为93％或更高。该现有技术中的聚酯膜优选由pet制成，pet薄膜的折射率一般为1.63-1.65之间，通常固定为1.64。该现有技术提高透光率的方案是在pet薄膜的两侧涂装低折射率的涂层，因而无论是pet基膜还是外涂层的折射率都相对偏低，造成的后果是最终制备的聚酯膜的整体折射率偏低。低折本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高折射率光学薄膜，包括一层折射率为1.63-1.65的基材，在基材的至少一个表面形成有一层高折射率光学涂层，其特征在于，所述高折射率光学涂层由三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯、环己烷二甲醇二丙烯酸酯、纳米氮化硅、正辛基三甲氧基硅烷组成。

2.如权利要求1所述的高折射率光学薄膜，其特征在于，所述高折射率光学涂层的各组分的质量比分别是，三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯：环己烷二甲醇二丙烯酸酯：纳米氮化硅：正辛基三甲氧基硅烷为(25～35)：(20～30)：(5～10)：(30～60)。

3.一种如权利要求1-2之一所述的高折射率光学薄膜的制备方法，其特征在...

【技术特征摘要】

1.一种高折射率光学薄膜，包括一层折射率为1.63-1.65的基材，在基材的至少一个表面形成有一层高折射率光学涂层，其特征在于，所述高折射率光学涂层由三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯、环己烷二甲醇二丙烯酸酯、纳米氮化硅、正辛基三甲氧基硅烷组成。

2.如权利要求1所述的高折射率光学薄膜，其特征在于，所述高折射率光学涂层的各组分的质量比分别是，三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯：环己烷二甲醇二丙烯酸酯：纳米氮化硅：正辛基三甲氧基硅烷为(25～35)：(20～30)：(5～10)：(30～60)。

3.一种如权利要求1-2之一所述的高折射率光学薄膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：以pet切片为原料，经熔融挤出获得厚片，预热后纵向拉伸成拉伸片，然后横向拉伸，定型、冷却、收卷；其中，在获得厚片之后、纵向拉伸之前，将构成所述高折射率光学涂层的涂料涂布在厚片上，...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴培服，王琪，池卫，吴和坡，
申请(专利权)人：江苏双星彩塑新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：