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本申请公开了一种高折射率光学薄膜及其制备方法，包括一层折射率为1.63‑1.65的基材，在基材的至少一个表面形成有一层高折射率光学涂层，其特征在于，所述高折射率光学涂层由三(2‑羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯、环己烷二甲醇二丙烯酸酯、纳米氮化硅...该专利属于江苏双星彩塑新材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏双星彩塑新材料股份有限公司授权不得商用。
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