【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光学薄膜，尤其涉及用于光学薄膜的一种光学涂料，特别涉及一种高折射率光学涂料及其制备方法。
技术介绍
1、光学、照明等领域中的保护膜、反射膜、扩散膜、增亮膜、遮光膜等，都需要用到聚酯薄膜。光学领域采用的聚酯薄膜需要具有优良的机械性能、尺寸稳定性、耐化学性和电气绝缘性等。光学领域的聚酯薄膜基材对光学性能要求也很高，如扩散膜和增亮膜的透光率通常要求能够高于90％以上；保护膜透光率通常则要求能够高于94％以上。
2、cn 104312390 a公开了一种高折射率增亮涂料组合物；该涂料组合物包括以下重量份数的各组分：光固化树脂10～80份，光聚合单体10～100份，光引发剂1～30份，助剂0～10份。该现有技术的高折射率增亮膜涂料组合物可用于制备光学增亮膜，以更好地调整光束汇聚角度以增强光源亮度。类似的，cn 104877557 b公开了一种高折射率自修复增亮涂料组合物，该涂料组合物包括以下组分及重量份数：光固化树脂15～55份，光聚合单体10～70份，光引发剂2～4份，助剂0.05～1份；所述光固化树脂为软硬段结构兼具的含硫高折射率的双官丙烯酸酯类不饱和聚合物。该现有技术的高折射率自修复增亮涂料组合物可涂覆于光学级pet塑料基材上以制备光学增亮膜。
3、现有技术中的光学薄膜通常在作为基膜的聚酯薄膜表面镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或其组合，以通过改变光波的传播特性提高光学薄膜的性能。例如，cn102514275a公开了一种光学聚酯薄膜及其制备方法，所述薄膜包括双向拉伸的聚酯基膜和涂覆在聚酯基膜至少
技术实现思路
1、本申请要解决的技术问题是提供一种高折射率光学涂料及其制备方法，以减少或避免前面所提到的问题。
2、为解决上述技术问题，本申请提出了一种高折射率光学涂料，用于形成高折射率光学涂层，所述高折射率光学涂料由三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯、环己烷二甲醇二丙烯酸酯、纳米氮化硅、正辛基三甲氧基硅烷组成。
3、优选地，所述高折射率光学涂料的各组分的质量比分别是，三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯：环己烷二甲醇二丙烯酸酯：纳米氮化硅：正辛基三甲氧基硅烷为(25～35)：(20～30)：(5～10)：(30～60)。
4、本申请还提出了一种高折射率光学涂料的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：将正辛基三甲氧基硅烷和纳米氮化硅添加到加热搅拌釜中，加热至55-60℃搅拌3-5小时，冷却至室温，制成混合料备用；将三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯和环己烷二甲醇二丙烯酸酯添加到混合釜中，室温下搅拌30-60分钟；将混合料添加到混合釜中，室温下搅拌2-3小时，从而制备获得所述高折射率光学涂料。
5、优选地，本申请的高折射率光学涂料的制备方法进一步包括对氮化硅进行表面改性的步骤：将100重量份的5-10纳米的氮化硅搅拌分散至装有200-300重量份的去离子水的反应釜中，制成分散液；在反应釜中对分散液进行搅拌的同时加入30-40重量份的乙二醇；继续搅拌的同时加入10-15重量份的聚二甲基硅氧烷，80℃下搅拌12-18小时；将反应釜中的混合物转移至减压蒸馏器中进行减压蒸馏，将水份去除；然后在减压整流器中加入10-15重量份的质量浓度30％的氢氧化铵以及15-25重量份的乙二醇，搅拌的同时减压蒸馏，将减压整流器中的固含量浓缩至55-65wt％；将减压整流器中的浓缩物转移至过滤器中，滤出固体，最后将滤出的固体送至干燥器中，180-200摄氏度干燥1-1.5小时，制得所述经表面改性的纳米氮化硅。
6、本申请的高折射率光学涂料可用于在pet聚酯薄膜等基材上形成高折射率光学涂层，可以使得聚酯薄膜获得优异的透光率和折射率，满足光学薄膜对高折射率应用场景下的高性能要求，可用于制造高性能的光学薄膜。
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1.一种高折射率光学涂料，用于形成高折射率光学涂层，其特征在于，所述高折射率光学涂料由三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯、环己烷二甲醇二丙烯酸酯、纳米氮化硅、正辛基三甲氧基硅烷组成。
2.如权利要求1所述的高折射率光学涂料，其特征在于，所述高折射率光学涂料的各组分的质量比分别是，三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯：环己烷二甲醇二丙烯酸酯：纳米氮化硅：正辛基三甲氧基硅烷为(25～35)：(20～30)：(5～10)：(30～60)。
3.如权利要求1-2之一所述的高折射率光学涂料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：将正辛基三甲氧基硅烷和经表面改性的纳米氮化硅添加到加热搅拌釜中，加热至55-60℃搅拌3-5小时，冷却至室温，制成混合料备用；将三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯和环己烷二甲醇二丙烯酸酯添加到混合釜中，室温下搅拌30-60分钟；将混合料添加到混合釜中，室温下搅拌2-3小时，从而制备获得所述高折射率光学涂料。
4.如权利要求3所述的高折射率光学涂料的制备方法，进一步包括对氮化硅进行表面改性的步骤：将100重量份的5-10纳米
...【技术特征摘要】
1.一种高折射率光学涂料，用于形成高折射率光学涂层，其特征在于，所述高折射率光学涂料由三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯、环己烷二甲醇二丙烯酸酯、纳米氮化硅、正辛基三甲氧基硅烷组成。
2.如权利要求1所述的高折射率光学涂料，其特征在于，所述高折射率光学涂料的各组分的质量比分别是，三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯：环己烷二甲醇二丙烯酸酯：纳米氮化硅：正辛基三甲氧基硅烷为(25～35)：(20～30)：(5～10)：(30～60)。
3.如权利要求1-2之一所述的高折射率光学涂料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：将正辛基三甲氧基硅烷和经表面改性的纳米氮化硅添加到加热搅拌釜中，加热至55-60℃搅拌3-5小时，冷却至室温，制成混合料备用；将三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯和环己烷二甲醇二丙烯酸酯添加到混合釜中，室温下搅拌30-60分钟；将混合料...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴培服，吴迪，王琪，林林，孙健，
申请(专利权)人：江苏双星彩塑新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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