【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及硅片清洗，具体为一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统及操作工艺。
技术介绍
1、元素硅是一种灰色、易碎、四价的非金属化学元素，硅晶片又称晶圆片，是由硅锭加工而成的，通过专门的工艺可以在硅晶片上刻蚀出数以百万计的晶体管，被广泛应用于集成电路的制造，半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面，会导致各种缺陷，硅晶片在进行清洗时每次进出清洗池清洗出的污渍都会被激起，混杂在清洗液中，清洗效果差。
技术实现思路
1、(一)解决的技术问题
2、针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统。
3、(二)技术方案
4、为实现上述解决目的，本专利技术提供如下技术方案：一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统，包括：
5、烘干机；
6、桌腿，其顶部与底板固定连接，底板一侧与左板固定连接,底板另一侧与右板固定连接,右板顶部与顶板固定连接,且右板通过顶板与左板固定连接；
7、传送装置，其设置于底板顶部；
8、左板一侧设置有上料装置，上料装置为矩形，上料装置共计两个，上料装置包括有第五固定柱,第五固定柱一侧与试剂槽固定连接，第五固定柱另一侧与左板固定连接，左板另一侧设置有喷洒装置，且喷洒装置共计两个，左板靠进右板一侧中部与第一夹层板固定连接,右板靠
9、优选的，第二转轮在第二转动轴表面固定连接，第二转动轴表面固定连接有第一齿轮，第二转动轴穿过第一齿轮的一端活动连接在右板上，且第一齿轮位于第二转动轴和右板之间，第一齿轮表面活动连接有传送履带,第一齿轮通过传送履带与第二齿轮和第三齿轮进行传动连接，第二齿轮固定连接在第三转动轴表面，第三转动轴穿过第二齿轮的一端活动连接在右板上，第三转动轴另一端固定连接有第一锥型齿，第三转动轴表面活动连接有支撑柱,支撑柱底部固定连接有支撑架,支撑架底部固定连接在右板上,第三齿轮固定连接在第四转动轴表面，第四转动轴穿过第三齿轮一端活动连接在右板上。
10、优选的，喷洒装置包括有第一固定柱，第一固定柱一端与左板固定连接,第一固定柱表面活连接有第一夹板，第一固定柱穿过第一夹板的一端固定连接有第二夹板,第二夹板一侧底部活动连接有衔接块，衔接块顶部一侧活动连接有第二连接柱,第二连接柱一侧固定连接在第三夹板一端，第二连接柱穿过衔接块的另一侧活动连接在螺旋齿轮上，第三夹板通过第二连接柱与螺旋齿轮活动连接，第三夹板另一端固定连接有第一连接柱，第三夹板通过第一连接柱与第一夹板活动连接，衔接块底部活动连接有第五转动轴,第五转动轴一端固定连接有第三锥型齿，第五转动轴另一端固定连接有连接块，第五转动轴表面活动连接有固定板，固定板位于第三锥型齿与衔接块之间，固定板顶部固定连接在顶板底部，且第五转动轴以固定板为支撑点可进行上下摆动，连接块表面固定连接有喷头，第五转动轴表面位于连接块与衔接块之间固定连接有螺纹柱，且螺纹柱与螺旋齿轮可进行啮合，所述第三锥型齿均与第一锥型齿和第二锥型齿啮合。
11、优选的，传送装置顶部活动与底座连接,底座顶部固定连接有滑动块,滑动块一侧活动连接在第一夹层板上，滑动块另一侧活动连接在第二夹层板上，滑动块顶部固定连接有圆盘,圆盘底部固定连接有第一锯齿板,圆盘顶部活动连接有中心柱,中心柱表面固定连接有空心齿轮,中心柱顶部固定连接有置物槽。
12、优选的，中心柱表面与侧翼固定连接,且侧翼位于空心齿轮上方，侧翼上表面开设有滑动槽,滑动槽表面滑动连接有卡板,卡板底部一侧固定连接有弹簧,卡板通过弹簧与侧翼固定连接，卡板底部另一侧固定连接有弹力绳,弹力绳远离卡板一侧固定连接在侧翼上，卡板一侧顶部固定连接有固定块,固定块远离卡板的一端固定连接有固定夹。
13、优选的，衔接块一侧底部与第一管道活动连接,第一管道另一端固定连接有第二管道。第二管道远离第一管道一端固定连接有第三管道，第三管道一端固定连接有入水柱，入水柱远离第三管道的一端固定连接有试剂槽，入水柱内部活动连接有卡锁,且卡锁可在入水柱内部左右移动，卡锁表面固定连接有衔接柱，且衔接柱共计两个。
14、优选的，第一夹层板内部设有槽口，第一夹层板一侧活动连接有第六转动轴,第六转动轴穿过第一夹层板的一侧固定连接有第五齿轮，且第五齿轮位于槽口处，第五齿轮数量共计四个，第六转动轴另一侧固定连接有第三转轮，第三转轮远离第六转动轴一侧固定连接有第三连接柱,第三转轮通过第三连接柱与第四夹板固定连接，第四夹板顶部一侧固定连接有活动扣,活动扣表面上活动连接有第五夹板，第五夹板顶部一侧固定连接有移动板,移动板内部开设有u型槽,u型槽表面活动连接有第二固定柱,第二固定柱一侧固定连接在左板上，移动板远离第五夹板的一侧固定连接有衔接柱。
15、优选的，左板底部靠近右板一侧与第三固定柱固定连接，第三固定柱数量共计两个，左板通过第三固定柱与第二锯齿板固定连接，右板底部靠近左板一侧固定连接有第四固定柱,第四固定柱数量共计两个，右板通过第四固定柱与第三锯齿板固定连接，且第二锯齿板与第三锯齿板均于空心齿轮啮合。
16、一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统的操作工艺，包括以下操作步骤：
17、第一步，放置硅片：将两侧固定夹拨开，使底部卡板带动着弹力绳和弹簧向后移动，将硅片放入置物槽中，弹力绳和弹簧受到挤压里，使固定夹对硅片两侧稳定夹持；
18、第二步，清洗液定量：底座跟随着传送装置移动，带动着底座底部的第一锯齿板移动，第一锯齿板移动到第五齿轮处，带动第五齿轮转动，第五齿轮通过第六转动轴带动着第三转轮进行旋转，第三转轮通过位于其上的第三连接柱带动着第四夹板进行旋转，第四夹板旋转推动着第五夹板向上移动，第五夹板带动着移动板向右侧移动，移动板推动着衔接柱移动，衔接柱推动着卡锁向一侧移动，使入水柱中的液体流出，同理当圆盘进行前进使可将卡锁反向推动，使得入水柱中的液体无法流出；
19、第三步，硅片旋转：底座移动带动着滑动板上的圆盘进行移动，圆盘上固定有空心齿轮，圆盘向前移动时空心齿轮触碰到位于清洗机内部两侧的第三锯齿板和第二锯齿板，从而使空心齿轮带动着圆盘旋转；
20、第四步，清洗装置摆动：传动装置运转时带动右侧第一转轮旋转，第一转轮通过皮带动着第二转动轴旋转，从而使位于第二转动轴上的传送履带运转，传送履带通过第二齿轮带动第三转动轴上的第一锥型齿转动，第一锥型齿通过第三锥型齿带动第五转动轴上的螺纹柱转动，使的与螺纹柱啮合的螺旋齿轮运转，让衔接块以固定板为基础上下进本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统，其特征在于：包括：
2.根据权利要求1所述的一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统，其特征在于：所述第二转轮(20)在第二转动轴(21)表面固定连接，第二转动轴(21)表面固定连接有第一齿轮(22)，第二转动轴(21)穿过第一齿轮(22)的一端活动连接在右板(13)上，且第一齿轮(22)位于第二转动轴(21)和右板(13)之间，第一齿轮(22)表面活动连接有传送履带(23),第一齿轮(22)通过传送履带(23)与第二齿轮(24)和第三齿轮(27)进行传动连接，第二齿轮(24)固定连接在第三转动轴(25)表面，第三转动轴(25)穿过第二齿轮(24)的一端活动连接在右板(13)上，第三转动轴(25)另一端固定连接有第一锥型齿(26)，第三转动轴(25)表面活动连接有支撑柱(31),支撑柱(31)底部固定连接有支撑架(30),支撑架(30)底部固定连接在右板(13)上,第三齿轮(27)固定连接在第四转动轴(28)表面，第四转动轴(28)穿过第三齿轮(27)一端活动连接在右板(13)上。
3.根据权利要求1所述的一种高纯氮气
4.根据权利要求1所述的一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统，其特征在于：所述传送装置(16)顶部与底座(57)活动连接,底座(57)顶部固定连接有滑动块(56),滑动块(56)一侧活动连接在第一夹层板(61)上，滑动块(56)另一侧活动连接在第二夹层板(76)上，滑动块(56)顶部固定连接有圆盘(45),圆盘(45)底部固定连接有第一锯齿板(58),圆盘(45)顶部活动连接有中心柱(46),中心柱(46)表面固定连接有空心齿轮(47),中心柱(46)顶部固定连接有置物槽(48)。
5.根据权利要求4所述的一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统，其特征在于：所述中心柱(46)表面与侧翼(49)固定连接,且侧翼(49)位于空心齿轮(47)上方，侧翼(49)上表面开设有滑动槽(53),滑动槽(53)表面滑动连接有卡板(50),卡板(50)底部一侧固定连接有弹簧(55),卡板(50)通过弹簧(55)与侧翼(49)固定连接，卡板(50)底部另一侧固定连接有弹力绳(54),弹力绳(54)远离卡板(50)一侧固定连接在侧翼(49)上，卡板(50)一侧顶部固定连接有固定块(51),固定块(51)远离卡板(50)的一端固定连接有固定夹(52)。
6.根据权利要求1或3所述的一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统，其特征在于：所述衔接块(35)一侧底部与第一管道(59)活动连接,第一管道(59)另一端固定连接有第二管道(60)。第二管道(60)远离第一管道(59)一端固定连接有第三管道(75)，第三管道(75)一端固定连接有入水柱(74)，入水柱(74)远离第三管道(75)的一端固定连接有试剂槽(151)，入水柱(74)内部活动连接有卡锁(73),且卡锁(73)可在入水柱(74)内部左右移动，卡锁(73)表面固定连接有衔接柱(72)，且衔接柱(72)共计两个。
7.根据权利要求6所述的一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统，其特征在于：所述第一夹层板(61)内部设有槽口，第一夹层板(61)一...
【技术特征摘要】
1.一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统，其特征在于：包括：
2.根据权利要求1所述的一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统，其特征在于：所述第二转轮(20)在第二转动轴(21)表面固定连接，第二转动轴(21)表面固定连接有第一齿轮(22)，第二转动轴(21)穿过第一齿轮(22)的一端活动连接在右板(13)上，且第一齿轮(22)位于第二转动轴(21)和右板(13)之间，第一齿轮(22)表面活动连接有传送履带(23),第一齿轮(22)通过传送履带(23)与第二齿轮(24)和第三齿轮(27)进行传动连接，第二齿轮(24)固定连接在第三转动轴(25)表面，第三转动轴(25)穿过第二齿轮(24)的一端活动连接在右板(13)上，第三转动轴(25)另一端固定连接有第一锥型齿(26)，第三转动轴(25)表面活动连接有支撑柱(31),支撑柱(31)底部固定连接有支撑架(30),支撑架(30)底部固定连接在右板(13)上,第三齿轮(27)固定连接在第四转动轴(28)表面，第四转动轴(28)穿过第三齿轮(27)一端活动连接在右板(13)上。
3.根据权利要求1所述的一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统，其特征在于：所述喷洒装置包括有第一固定柱(32)，第一固定柱(32)一端与左板(12)固定连接,第一固定柱(32)表面活连接有第一夹板(33)，第一固定柱(32)穿过第一夹板(33)的一端固定连接有第二夹板(34),第二夹板(34)一侧底部活动连接有衔接块(35)，衔接块(35)顶部一侧活动连接有第二连接柱(38),第二连接柱(38)一侧固定连接在第三夹板(37)一端，第二连接柱(38)穿过衔接块(35)的另一侧活动连接在螺旋齿轮(39)上，第三夹板(37)通过第二连接柱(38)与螺旋齿轮(39)活动连接，第三夹板(37)另一端固定连接有第一连接柱(36)，第三夹板(37)通过第一连接柱(36)与第一夹板(33)活动连接，衔接块(35)底部活动连接有第五转动轴(40),第五转动轴(40)一端固定连接有第三锥型齿(44)，第五转动轴(40)另一端固定连接有连接块(42)，第五转动轴(40)表面活动连接有固定板(2)，固定板(2)位于第三锥型齿(44)与衔接块(35)之间，固定板(2)顶部固定连接在顶板(14)底部，且第五转动轴(40)以固定板(2)为支撑点可进行上下摆动，连接块(42)表面固定连接有喷头(43)，第五转动轴(40)表面位于连接块(42)与衔接块(35)之间固定连接有螺纹柱(41)，且螺纹柱(41)与螺旋齿轮(39)可进行啮合，所述第三锥型齿(44)均与第一锥型齿(26)和第二锥型齿(29)啮合。
4.根据权利要求1所述的一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统，其特征在于：所述传送装置(16)顶部与底座(57)活动连接,底座(57)顶部固定连接有滑动块(56),滑动块(56)一侧活动连接在第一夹层板(61)上，滑动块(56)另一侧活动连接在第二夹层板(76)上，滑动块(56)顶部固定连接有圆盘(45),圆盘(45)底部固定连接有第一锯齿板(58),圆盘(45)顶部活动连接有中心柱...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐新华，
申请(专利权)人：浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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