【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
公开涉及成像装置、传感器以及成像控制装置。
技术介绍
1、使用生成对象的图像的设备(例如，参见专利文献1)。该装置包括其中光电转换元件以二维矩阵布置的成像元件。光电转换元件对入射光执行光电转换。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：jp 2014-228671 a
技术实现思路
1、专利技术要解决的技术问题
2、不幸的是，在上述传统技术中，不能调整对象的图像的分辨率，并且降低了便利性。
3、因此，本公开提出了调整对象的图像的分辨率的成像装置。
4、问题的解决方案
5、根据本公开的成像装置包括：成像元件，其中，像素块以二维矩阵布置，像素块包括：多个像素，对来自对象的入射光执行光电转换并且生成图像信号；以及片上透镜，被共同布置在多个像素中并且将入射光聚集在多个像素上；分辨率选择单元，根据像素的尺寸选择第一分辨率，根据像素块的尺寸选择第二分辨率，并且根据包括多个相邻像素块的像素块单元的尺寸选择第三分辨率；以及图像信号相加单元，通过根据所选择的分辨率对所生成的图像信号进行相加来生成第二图像信号。
【技术保护点】
1.一种成像装置，包括：
2.根据权利要求1所述的成像装置，
3.根据权利要求2所述的成像装置，
4.根据权利要求2所述的成像装置，
5.根据权利要求4所述的成像装置，其中，所述成像装置进一步包括：信号处理单元，所述信号处理单元执行将所述图像信号转换成与不同于所述阵列的所述多个滤色器的布置顺序的阵列相对应的图像信号的再马赛克处理。
6.根据权利要求5所述的成像装置，
7.根据权利要求1所述的成像装置，进一步包括目标区域检测单元，所述目标区域检测单元在包括所生成的图像信号的图像中检测目标区域，所述目标区域是包括对象当中的要成像的目标的图像的区域，
8.根据权利要求7所述的成像装置，
9.根据权利要求7所述的成像装置，
10.根据权利要求1所述的成像装置，进一步包括传感器，所述传感器测量到对象的距离，
11.根据权利要求1所述的成像装置，
12.根据权利要求1所述的成像装置，
13.根据权利要求12所述的成像装置，
14.根据权利
15.一种成像装置，包括：
16.根据权利要求15所述的成像装置，
17.一种传感器，包括对来自对象的入射光执行光电转换并生成图像信号的成像元件，在所述成像元件中以二维矩阵布置多个像素，
18.一种成像控制装置，所述成像控制装置基于由传感器在第一模式、第二模式和第三模式中的一个中生成的第二图像信号，向所述传感器输出用于所述第一模式、所述第二模式和所述第三模式之间的切换的控制信号，所述传感器包括：第一模式，在所述第一模式中，为对来自对象的入射光执行光电转换的每个像素生成图像信号；第二模式，在所述第二模式中，为包括布置成两行和两列的四个像素的每个像素块生成图像信号；以及第三模式，在所述第三模式中，为包括布置成两行和两列的四个像素块的每个像素块单元生成图像信号。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种成像装置，包括：
2.根据权利要求1所述的成像装置，
3.根据权利要求2所述的成像装置，
4.根据权利要求2所述的成像装置，
5.根据权利要求4所述的成像装置，其中，所述成像装置进一步包括：信号处理单元，所述信号处理单元执行将所述图像信号转换成与不同于所述阵列的所述多个滤色器的布置顺序的阵列相对应的图像信号的再马赛克处理。
6.根据权利要求5所述的成像装置，
7.根据权利要求1所述的成像装置，进一步包括目标区域检测单元，所述目标区域检测单元在包括所生成的图像信号的图像中检测目标区域，所述目标区域是包括对象当中的要成像的目标的图像的区域，
8.根据权利要求7所述的成像装置，
9.根据权利要求7所述的成像装置，
10.根据权利要求1所述的成像装置，进一步包括传感器，所述传感器测量到对象的距离，
11.根据权利要求1所述的成像装置，<...
【专利技术属性】
技术研发人员：汤舟秀太，
申请(专利权)人：索尼半导体解决方案公司，
类型：发明
国别省市：
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