【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于烧制陶瓷制品的加热组件和设备。特别地，本专利技术有利地但非排他地应用于用于获得瓷砖的陶瓷制品的烧制，下面的说明将对此进行明确参考，但不会因此而丧失一般性。
技术介绍
1、用于获得瓷砖的陶瓷制品的烧制通常在由两个相对的壁部和顶部界定的隧道窑中进行。
2、这种窑通常通过分别设置在隧道的一侧上的通常由甲烷气体驱动的两组燃烧器来加热。这些燃烧器通常位于隧道的侧壁上的多个高度上并且面对相对的壁部，并且陶瓷制品通常在包括一系列的陶瓷辊子的大型传送机上输送。
3、陶瓷制品的烧制周期被设计为具有很高的精度并且涉及：从窑入口开始加热陶瓷制品、在预定温度下将它们保持在烧制室内以及在到达窑出口之前以受控的方式对它们进行冷却。因此，重要的是确保烧制室内的温度在窑的整个宽度上是均匀的。为此目的，已经开发了不同类型的工业燃烧器以及工业设备内的不同的燃烧器布置，以在燃烧室内实现越来越恒定的温度。
4、然而，已知类型的陶瓷燃烧器基本上以化石燃料作为燃料(甲烷、lpg)，其虽然一方面允许通过常规燃烧来减少nox排放，但是另一方面导致对不可再生能源进行反生态的开发以及co2和所有其他的燃烧废物的排放。
5、为了克服这些问题，已经提出了对用于烧制陶瓷制品的窑进行电加热的方法，例如涉及在窑隔室中安装加热棒或加热导体来辐射热并且加热窑自身。
6、然而，这些已知的烧制方法也具有一些缺点。其中一个主要缺点与特别是在窑自身的预热区域中的陶瓷制品的烧制所产生的烟气的侵蚀性有关，这会快速腐蚀安装在窑中的
7、此外，不考虑是使用来自电网还是内部的电力，对用于烧制陶瓷制品的窑进行电加热比使用燃油或燃气更贵。
8、对用于烧制陶瓷制品的窑进行电加热的已知方法的另一个缺点是辐射效应通常过大，这不允许大型燃烧室中的均匀热分布。
9、对用于烧制陶瓷制品的窑进行电加热的已知方法的再一个缺点与不能在陶瓷制品的整个截面上对其主体进行均匀烧制有关。特别地，使用已知的方法，仅可在整个厚度上对最大6mm厚的陶瓷制品进行均匀烧制。
10、本专利技术的目的是实现能够至少部分地克服现有技术的缺陷并且同时实现起来容易且便宜并且至少减少了co2排放的用于烧制陶瓷制品的加热组件和工业设备。
技术实现思路
1、根据本专利技术，提出了在所附独立权利要求中、优选在直接或间接地从属于所述独立权利要求的任一个权利要求中要求保护的用于烧制陶瓷制品的加热组件和工业设备。
2、描述本专利技术的优选实施方式的权利要求形成本说明书的整体部分。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种用于烧制陶瓷制品(T)的加热组件(1)，其可安装在包括烧制室(3)的工业窑(2)中，所述加热组件(1)包括：
2.根据权利要求1所述的加热组件(1)，其中，所述管状排放元件(10)包括与所述管状外壳(6)的部分(13)耦合的第一端部(12)以及与所述第一端部(12)相对的第二端部(14)，所述至少一个第一引导出口(11)设置在所述第二端部(14)处。
3.根据权利要求2所述的加热组件(1)，其中：
4.根据权利要求2所述的加热组件(1)，其中，所述至少一个第一引导出口(11)设置在所述第二端部(14)的壁部(16)上。
5.根据权利要求2-4中任一项所述的加热组件(1)，其中，所述管状排放元件(10)包括用于朝向所述管状排放元件(10)的外部引导所述气体(G)的至少一部分的至少一个第二引导出口(11’)，所述至少一个第二引导出口(11’)具有等效直径小于或等于约25mm的相应的通孔并且设置在所述第二端部(14)处。
6.根据权利要求5所述的加热组件(1)，其中，所述至少一个第二引导出口(11’)设置在所述第二端部
7.根据权利要求1-4中任一项所述的加热组件(1)，其中，所述管状排放元件(10)包括至少设置在所述第二端部(14)的壁部(16)上的多个第二引导出口(11’)，以用于朝向所述管状排放元件(10)的外部、特别是朝向所述加热组件(1)的外部、更特别是在使用中朝向所述窑(2)的所述烧制室(3)引导所述气体(G)的至少一部分，每个所述第二引导出口(11’)都具有等效直径小于或等于约25mm的相应的通孔。
8.根据权利要求7所述的加热组件(1)，其中，所述第二引导出口(11’)的第一部分包括具有第一等效直径的对应的孔并且所述第二引导出口(11’)的至少一个第二部分包括具有与所述第一等效直径不同的第二等效直径的对应的孔。
9.根据权利要求1或2或3所述的加热组件(1)，其包括耦合至所述管状排放元件(10)以被流出所述管状排放元件(10)的所述气体(G)的至少一部分从中流过的中空主体(20)、抽吸元件(21)以及用于朝向所述中空主体(20)的外部、特别是朝向所述加热组件(1)的外部、更特别是在使用中朝向所述窑(2)的所述烧制室(3)引导所述气体(G)的所述至少一部分的另外的引导出口(11”)，
10.一种用于烧制陶瓷制品(T)的工业设备(29)，其包括：隧道窑(2)，其设置有至少一个侧壁(30)和顶部/拱顶(31)，它们至少部分地界定具有内表面(32)和外表面(33)的烧制室(3)；输送系统(4)，其被配置为使多个陶瓷制品(T)沿着所述烧制室(3)内的传送路径(P)移动；以及加热系统(34)，其被配置为加热所述烧制室(3)，以对移动穿过所述烧制室(3)的内部的所述多个陶瓷制品(T)进行烧制并且获得陶瓷产品，
11.根据权利要求10所述的工业设备(29)，其中，所述加热系统(34)包括平行于所述传送路径(P)串联设置的多个加热组件(1)。
12.根据权利要求11所述的工业设备(29)，其中：所述多个加热组件(1)的部分设置在所述窑(2)的所述顶部/拱顶(31)处；所述多个加热组件(1)的所述部分的每个加热组件(1)相对于垂直方向和/或相对于所述传送路径(P)倾斜地安装，特别是相对于垂直方向成约0°到约60°的范围内的角度和/或相对于所述传送路径(P)成约0°到约60°的范围内的角度。
13.根据权利要求10-12中任一项所述的工业设备(29)，其中，所述/每个加热组件(1)被设置为使所述管状排放元件(10)的至少一部分至少部分地突入到所述烧制室(3)中，
14.根据权利要求10-13中任一项所述的工业设备(29)，其中：所述窑(2)的所述烧制室(3)包括至少一个预热区域、沿着所述传送路径(P)在下游紧邻所述预热区域的预烧制区域、沿着所述传送路径(P)位于所述预烧制区域的下游的烧制区域以及沿着所述传送路径(P)位于所述烧制区域的下游的至少一个冷却区域；并且所述多个加热组件(1)至少被设置在所述预热区域处，以至少加热所述预热区域达到至少约1000℃的温度、特别是至少约1100℃的温度。
15.根据权利要求10-14中任一项所述的工业设备(29)，其中：所述输送系统(4)包括一系列的陶瓷辊子，它们沿着所述传送路径(P)一个接一个地设置，以限定适于接收所述陶瓷制品(T)并且使它们沿着所述传送路径(P)移动的传送平面；并且所述加热组件(1)的至少一部分设置在所述传送路径的下方。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于烧制陶瓷制品(t)的加热组件(1)，其可安装在包括烧制室(3)的工业窑(2)中，所述加热组件(1)包括：
2.根据权利要求1所述的加热组件(1)，其中，所述管状排放元件(10)包括与所述管状外壳(6)的部分(13)耦合的第一端部(12)以及与所述第一端部(12)相对的第二端部(14)，所述至少一个第一引导出口(11)设置在所述第二端部(14)处。
3.根据权利要求2所述的加热组件(1)，其中：
4.根据权利要求2所述的加热组件(1)，其中，所述至少一个第一引导出口(11)设置在所述第二端部(14)的壁部(16)上。
5.根据权利要求2-4中任一项所述的加热组件(1)，其中，所述管状排放元件(10)包括用于朝向所述管状排放元件(10)的外部引导所述气体(g)的至少一部分的至少一个第二引导出口(11’)，所述至少一个第二引导出口(11’)具有等效直径小于或等于约25mm的相应的通孔并且设置在所述第二端部(14)处。
6.根据权利要求5所述的加热组件(1)，其中，所述至少一个第二引导出口(11’)设置在所述第二端部(14)的壁部(16)上。
7.根据权利要求1-4中任一项所述的加热组件(1)，其中，所述管状排放元件(10)包括至少设置在所述第二端部(14)的壁部(16)上的多个第二引导出口(11’)，以用于朝向所述管状排放元件(10)的外部、特别是朝向所述加热组件(1)的外部、更特别是在使用中朝向所述窑(2)的所述烧制室(3)引导所述气体(g)的至少一部分，每个所述第二引导出口(11’)都具有等效直径小于或等于约25mm的相应的通孔。
8.根据权利要求7所述的加热组件(1)，其中，所述第二引导出口(11’)的第一部分包括具有第一等效直径的对应的孔并且所述第二引导出口(11’)的至少一个第二部分包括具有与所述第一等效直径不同的第二等效直径的对应的孔。
9.根据权利要求1或2或3所述的加热组件(1)，其包括耦合至所述管状排放元件(10)以被流出所述管状排放元件(10)的所述气体(g)的至少一部分从中流过的中空主体(20)、抽吸元件(21)以及用于朝向所述中空主体(20)的外部、特别是朝向所述加热组件(1)的外部、更特别是在使用中朝向所述窑...
【专利技术属性】
技术研发人员：皮耶尔·弗朗切斯科·瓦卡里，阿尔贝托·托罗，
申请(专利权)人：萨克米窑炉和过滤器股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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