一种基于光学图片判断双层石墨烯层间扭转角的方法技术

技术编号:40946207 阅读:43 留言:0更新日期:2024-04-18 15:04
本发明专利技术公开了一种光学成像分辨转角的方法,根据双层石墨烯样品的能量色散光学反射行为,利用光学图像的RGB(红、绿、蓝)彩色通道直接分辨双层石墨烯的扭转角。本发明专利技术所提出的光学成像方法为大面积识别双层转角石墨烯扭转角提供了一种快速、高效、与衬底无关且非破坏性的方法,从而促进了对扭转范德华层材料的物理性质和应用的研究。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于新材料领域,具体涉及一种利用光学图像的rgb(红、绿、蓝)彩色通道直接分辨双层石墨烯的层间扭转角的光学方法。


技术介绍

1、转角双层石墨烯因其独特的电学、光学和电化学特性,近些年来吸引了人们的广泛关注。不同于单层石墨烯,转角双层石墨烯增加了层间转角这一自由度,通过调整上下两层石墨烯之间的旋转角度,可以极大地改变其电子结构,从而衍生出许多新奇的物理现象,包括非常规超导、量子反常霍尔效应和拓扑绝缘态等。然而,准确的表征层间转角目前仍然面临极大的挑战。目前,拉曼光谱、透射电子显微镜、扫描隧道显微镜和低能电子衍射等是判断转角双层石墨烯的层间旋转角度的常用手段。但这些表征手段所使用的设备都很昂贵,透射电子显微镜只能在特定的悬空衬底上进行微区样品(微米尺度)转角判定,且需要复杂的样品制备过程;拉曼光谱判断转角精度有限,且扫描时间很长;低能电子衍射对样品衬底有要求,且需要高真空环境。这些缺点都严重阻碍了转角双层石墨烯的实际应用。因此,如何能够在不同衬底上快速、准确、无损地实现大面积转角分辨对于转角双层石墨烯的物性研究以及实际应用都至关重要。


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【技术保护点】

1.一种基于光学图片判断双层石墨烯层间扭转角的方法,包括下述步骤:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述步骤1)中,所述衬底没有明确的要求,包括但不限于硅片、带氧化硅层的硅片、云母、石英、蓝宝石或氮化硅等。

3.根据权利要求1-4中任一项所述的方法,其特征在于:所述步骤1-4)中,所述处理软件包括但不限于商业软件Photoshop,能够提取RGB通道图片的各种软件均可。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:

5.根据权利要求1和4所述的方法,其特征在于:双层石墨烯扭转角θ与波长λ(单位:纳米)的具体关系为

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【技术特征摘要】

1.一种基于光学图片判断双层石墨烯层间扭转角的方法,包括下述步骤:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述步骤1)中,所述衬底没有明确的要求,包括但不限于硅片、带氧化硅层的硅片、云母、石英、蓝宝石或氮化硅等。

3.根据权利要求1-4中任一项所述的方法,其特征在于:所述步骤1-4)中,所述处理软件包括但不限于商业软件photoshop,能够提取rgb通道图片的各种软件均可。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:

5.根据权利要求1和4所述的方法,其特征在于:双层石墨烯扭转角θ与波长λ(单位:纳米)的具体关系为:

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【专利技术属性】
技术研发人员:陈珊珊谭佐权
申请(专利权)人:中国人民大学
类型:发明
国别省市:

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