【技术实现步骤摘要】
公开涉及一种掩模、一种掩模组件以及一种修复包括在掩模组件中的掩模的方法。
技术介绍
1、诸如电视、移动电话、平板计算机、导航装置和游戏装置的显示装置包括显示图像的显示面板。显示面板包括像素，每个像素包括诸如晶体管的驱动元件和诸如有机发光二极管的显示元件。显示元件通过使用掩模组件在基底上沉积电极、功能层和发光图案来形成。
2、掩模组件包括掩模，所述掩模设置有限定为穿过掩模以限定沉积区域的开口。然而，缺陷(诸如，开口未形成在设计位置处、开口未形成为具有设计尺寸等)出现在将开口形成在掩模中的工艺中。在沉积工艺中不使用有缺陷的掩模并将其丢弃，结果，降低了掩模的产率。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种修复其开口被过度加工或加工不足的掩模的方法。
2、本技术的另一目的在于提供一种通过掩模修复方法制造的掩模和一种包括通过掩模修复方法制造的掩模的掩模组件。
3、公开的实施例提供了一种掩模，该掩模可以包括：母构件；以及多个开口，限定在母构件中，其中，母构件的围绕所述多个开口中的一个的部分可以包括第一部分和第二部分，并且第一部分在母构件的厚度方向上的厚度和第二部分在母构件的厚度方向上的厚度可以彼此不同。
4、公开的实施例提供了一种掩模组件，该掩模组件可以包括：掩模，设置在框架上并且包括母构件和限定在母构件中的多个开口，其中，母构件可以包括：第一表面，面对框架；第二表面，与第一表面相对；以及内侧表面，将第一表面和第二表面连接并且限定所述多个开口中
5、第一表面可以在所述多个开口中的相邻开口之间的区域中具有台阶差。
6、第二表面可以在所述多个开口中的相邻开口之间的区域中是平坦的。
7、所述多个开口可以包括在一方向上布置的第一开口和第二开口，内侧表面可以包括限定第一开口的第一内表面和限定第二开口的第二内表面，第一内表面在厚度方向上的长度可以沿着第一开口的外周表面变化，并且第二内表面在厚度方向上的长度可以沿着第二开口的外周表面是恒定的。
8、第一内表面可以包括倾斜表面，倾斜表面将第一表面和第二表面连接并且相对于第二表面以恒定倾斜角倾斜，并且倾斜表面和第二表面可以形成等于或小于90度的角。
9、倾斜表面可以是平坦的。
10、第二内表面可以包括彼此连接并且将第一表面和第二表面连接的倾斜表面，并且倾斜表面可以相对于第二表面以彼此不同的倾斜角倾斜。
11、倾斜表面可以包括相对于第一表面以第一夹角倾斜的第一倾斜表面和相对于第二表面以第二夹角倾斜的第二倾斜表面，并且第一夹角和第二夹角中的每个可以等于或大于90度。
12、倾斜表面中的每个在厚度方向上的长度可以彼此不同。
13、公开的实施例提供了一种修复掩模的方法。所述方法可以包括：提供掩模，掩模包括母构件、多个第一开口和与所述多个第一开口中的一个相邻并且具有与所述多个第一开口中的每个的尺寸不同的尺寸的过加工开口，所述多个第一开口中的每个和过加工开口限定在母构件中；通过将第一激光束照射到围绕母构件的过加工开口的区域，在过加工开口的至少一部分中形成补充部分；以及通过将第二激光束照射到补充部分，在母构件中形成彼此间隔开的多个第二开口。
14、第二激光束的强度可以大于第一激光束的强度。
15、第一激光束可以是具有微秒或纳秒的脉冲宽度的脉冲激光束。
16、第二激光束可以是具有皮秒或飞秒的脉冲宽度的脉冲激光束。
17、补充部分可以通过使母构件的一部分熔化而形成，并且补充部分在掩模的厚度方向上的厚度可以小于未熔化的母构件在掩模的厚度方向上的厚度。
18、形成补充部分的步骤还可以包括在照射第一激光束之前在过加工开口中设置金属粉末。
19、所述多个第一开口可以通过湿蚀刻工艺形成在母构件中。
20、在形成所述多个第二开口的步骤之后的掩模可以包括：第一部分，在平面图中设置在所述多个第二开口中的相邻的第二开口之间；以及第二部分，在平面图中设置在所述多个第一开口中的相邻的第一开口之间，并且第一部分在掩模的厚度方向上的厚度可以小于第二部分在掩模的厚度方向上的厚度。
21、在平面图中，所述多个第二开口可以与所述多个第一开口中的相邻的一个第一开口在一方向上布置。
22、掩模还可以包括不充分开口，不充分开口具有比所述多个第一开口中的每个的尺寸小的尺寸，并且所述方法还可以包括将第三激光束照射到与掩模的不充分开口相邻的区域。
23、第三激光束的强度和第二激光束的强度可以相同。
24、掩模还可以包括与所述多个第一开口中的至少一个相邻的未加工区域，并且所述方法还可以包括将第三激光束照射到未加工区域。
25、公开的实施例提供了一种掩模，该掩模可以包括：母构件，包括金属；以及多个开口，限定在母构件中。母构件的围绕所述多个开口中的一个的部分可以包括第一部分和第二部分，并且第一部分在母构件的厚度方向上的厚度和第二部分在母构件的厚度方向上的厚度可以彼此不同。
26、公开的实施例提供了一种掩模组件，该掩模组件可以包括框架和掩模，掩模设置在框架上并且包括母构件和限定在母构件中的多个开口。母构件可以包括面对框架的第一表面、与第一表面相对的第二表面以及将第一表面和第二表面连接并且限定所述多个开口中的每个的内侧表面。内侧表面中的两个内侧表面在掩模的厚度方向上的长度可以彼此不同。
27、第一表面可以在所述多个开口中的相邻开口之间的区域中具有台阶差。
28、第二表面可以在所述多个开口中的相邻开口之间的区域中是平坦的。
29、所述多个开口可以包括在一方向上布置的第一开口和第二开口，内侧表面可以包括限定第一开口的第一内表面和限定第二开口的第二内表面，第一内表面在厚度方向上的长度可以沿着第一开口的外周表面变化，并且第二内表面在厚度方向上的长度可以沿着第二开口的外周表面是恒定的。
30、第一内表面可以包括将第一表面和第二表面连接并且相对于第二表面以恒定倾斜角倾斜的倾斜表面，并且倾斜表面和第二表面可以形成等于或小于约90度的角。
31、第二内表面可以包括彼此连接并且将第一表面和第二表面连接的倾斜表面，并且倾斜表面可以相对于第二表面以彼此不同的倾斜角倾斜。
32、倾斜表面中的每个在厚度方向上的长度可以彼此不同。
33、根据以上内容，可以根据修复掩模的方法通过使掩模的母构件熔化来修复具有过加工开口的掩模。
34、根据以上内容，可以使用激光束修复具有其平面尺寸小于设计尺寸的不充分开口的掩模或具有未加工区域的掩模。
35、根据以上内容，具有缺陷的掩模可以被修复以被使用而不被丢弃，因此，可以改善掩模的产率。根据修复公开的掩模的方法修复的掩模可以在设计位置处具有开口并且所述开口具有设计尺本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种掩模，其特征在于，所述掩模包括：
2.一种掩模组件，其特征在于，所述掩模组件包括：
3.根据权利要求2所述的掩模组件，其特征在于，所述第一表面在所述多个开口中的相邻开口之间的区域中具有台阶差。
4.根据权利要求2所述的掩模组件，其特征在于，所述第二表面在所述多个开口中的相邻开口之间的区域中是平坦的。
5.根据权利要求2所述的掩模组件，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的掩模组件，其特征在于，
7.根据权利要求6所述的掩模组件，其特征在于，
8.根据权利要求5所述的掩模组件，其特征在于，
9.根据权利要求8所述的掩模组件，其特征在于，
10.根据权利要求8所述的掩模组件，其特征在于，所述倾斜表面中的每个在所述厚度方向上的长度彼此不同。
【技术特征摘要】
1.一种掩模，其特征在于，所述掩模包括：
2.一种掩模组件，其特征在于，所述掩模组件包括：
3.根据权利要求2所述的掩模组件，其特征在于，所述第一表面在所述多个开口中的相邻开口之间的区域中具有台阶差。
4.根据权利要求2所述的掩模组件，其特征在于，所述第二表面在所述多个开口中的相邻开口之间的区域中是平坦的。
5.根据权利要求2所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：金桢国，文英慜，宋昇勇，赵恩翡，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：新型
国别省市：
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