石墨烯铜导体的制备方法及石墨烯铜导体技术

技术编号:40927963 阅读:22 留言:0更新日期:2024-04-18 14:50
本申请涉及电接触材料技术领域,具体而言,涉及一种石墨烯铜导体的制备方法及石墨烯铜导体。石墨烯铜导体的制备方法,包括:S1在铜基体的表面包覆第一厚度的碳层;S2在表面具备碳层的铜基体上制备多孔镍层;S3在多孔镍层的表面及其孔内表面包覆第二厚度的碳层;S4向多孔镍层浇注熔融的镍液,使镍液的一部分进入多孔镍层的孔,镍液的另一部分形成包覆多孔镍层的表面镍层,同时利用镍液的热量将碳层中的碳分解并融入镍金属;S5以设定降温速率进行降温,将熔入镍金属中的碳析出,以在铜基体的表面形成镍石墨烯混合层,本申请能够提高石墨烯铜导体的使用寿命和导电性。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及电接触材料,具体而言,涉及一种石墨烯铜导体的制备方法及石墨烯铜导体


技术介绍

1、铜作为导体,具有优良的导电性能,可以作为导线、连接线或电接触导体,在实际使用过程中,使用环境复杂,可能面临沙尘雨雪水汽污物等侵袭,也可能面临腐蚀性气体如二氧化硫、硫化氢、二氧化氮等侵蚀,还会存在氧气腐蚀等情况,这些情况将导致导电性变差。

2、为改善铜导体抵抗外界侵蚀的能力,现有技术通过设置防腐蚀膜层或设置镍层来解决,然而现有技术中防腐蚀膜层容易导致导电性降低,镍层容易与铜基体产生铜镍互熔体而影响导电性。因此,如何改善铜导体的使用寿命和导电性,仍是本领域关注的重点研发方向之一。


技术实现思路

1、本申请旨在提供一种石墨烯铜导体的制备方法及石墨烯铜导体,以解决现有技术中铜导体的使用寿命和导电性难以兼顾的问题。

2、本申请的实施例是这样实现的:

3、第一方面,本申请实施例提供一种石墨烯铜导体的制备方法,包括:

4、s1在铜基体的表面包覆第一厚度的碳层;p>

5、s2在本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种石墨烯铜导体的制备方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的石墨烯铜导体的制备方法,其特征在于,在所述S2中,先在表面具备碳层的铜基体上制备混合有易挥发金属的镍层,再加热蒸发易挥发金属形成所述多孔镍层。

3.根据权利要求2所述的石墨烯铜导体的制备方法,其特征在于,所述S2包括:

4.根据权利要求3所述的石墨烯铜导体的制备方法,其特征在于,在S2.2中,先以超过所述设定温度的温度加热20~35min,再在所述设定温度下保持25~30min。

5.根据权利要求3所述的石墨烯铜导体的制备方法,其特征在于,所述镍粉的粒径为10~10...

【技术特征摘要】

1.一种石墨烯铜导体的制备方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的石墨烯铜导体的制备方法,其特征在于,在所述s2中,先在表面具备碳层的铜基体上制备混合有易挥发金属的镍层,再加热蒸发易挥发金属形成所述多孔镍层。

3.根据权利要求2所述的石墨烯铜导体的制备方法,其特征在于,所述s2包括:

4.根据权利要求3所述的石墨烯铜导体的制备方法,其特征在于,在s2.2中,先以超过所述设定温度的温度加热20~35min,再在所述设定温度下保持25~30min。

5.根据权利要求3所述的石墨烯铜导体的制备方法,其特征在于,所述镍粉的粒径为10~100μm,所述易挥发金属的粒径为1~50μm。

6.根据权利要求3所述的石墨烯铜导体的制备方法,其特征在于,所述易挥发金属包括锌、锑、镁中的至少一种;

7.根据权利要求1-6任一项所述的石墨烯铜导体的制备方法,其特征在于,所述多孔镍层的厚度为15~260μm。

8.根据权利要求1所述的石墨烯铜导体的制备方法,其特征在于,在s4中,将熔融镍液经前处理,以使镍液内熔有一定量的碳。

9.根据权利要求1所述的石墨烯铜导体的制备方法,其特征在于,在所述s5...

【专利技术属性】
技术研发人员:马瑜敖东羿
申请(专利权)人:上海新池能源科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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