【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体或光伏材料加工,具体涉及一种管式炉炉胆的制作模具用的嵌件。
技术介绍
1、半导体或光伏材料广泛应用于电子、新能源等行业,半导体和光伏材料通常都需要经过化学处理才能够应用到产品上,cvd技术是其中的一种处理方式,cvd即化学气相沉积,cvd技术目前已经广泛用于半导体或光伏材料加工,常见的加工设备有pecvd、lpcvd、apcvd等,除了cvd之外还有扩散工艺,例如磷扩散、硼扩散等,都可以采用气体扩散的方式来对原材料进行加工,目前行业内已有不少相关的设备,可以针对具体的加工需求来选择相应的设备进行加工,半导体或光伏材料的加工,通常是将片状材料送入炉中在一定温度和压力的条件下进行反应来实现,此处所提到的炉既是一种加热室,是薄膜制备工艺中为气相沉积的化学反应提供能量的关键设备,cvd管式炉是一种将气相反应产生的化学物质沉积在加热基底上形成薄膜的装置。现有的管式炉内胆一般通过模具加工而成。
2、现有炉胆在成型制作过程中,散热槽均采取放置若干个单独的弧形嵌件,在烘干前需要逐一取出嵌件。
3、现有嵌件结构存在
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1.一种管式炉炉胆的制作模具用的嵌件,其特征在于:包括连接组件(1)和裹设组件(2),裹设组件(2)设在炉胆的外壁上,连接组件(1)设在裹设组件(2)上,所述裹设组件(2)包括若干个环形套板(3),若干个环形套板(3)呈等间距设置,所述连接组件(1)包括若干个条形板(4),每个条形板(4)均呈竖直设在若干个环形套板(3)之间,且每个环形套板(3)均与条形板(4)一体成型,每个所述条形板(4)和每个所述环形套板(3)均由珍珠棉板材质制成。
2.根据权利要求1所述的一种管式炉炉胆的制作模具用的嵌件,其特征在于:每两个条形板(4)之间均设有弧形通槽(5)。
>3.根据权利...
【技术特征摘要】
1.一种管式炉炉胆的制作模具用的嵌件,其特征在于:包括连接组件(1)和裹设组件(2),裹设组件(2)设在炉胆的外壁上,连接组件(1)设在裹设组件(2)上,所述裹设组件(2)包括若干个环形套板(3),若干个环形套板(3)呈等间距设置,所述连接组件(1)包括若干个条形板(4),每个条形板(4)均呈竖直设在若干个环形套板(3)之间,且每个环形套板(3)均与条形板(4)一体成型,每个所述条形板(4)和每个所述环形套板(3)均由珍珠棉板材质制成。
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【专利技术属性】
技术研发人员:祁东,潘菊萍,刘群,林佳继,
申请(专利权)人:嘉庚江苏特材有限责任公司,
类型:新型
国别省市:
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