【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光辐射，特别是涉及摩擦发光装置。
技术介绍
1、广义上的光包含可见光和非可见光，与电磁辐射等价，以下“光”均可替换为电磁辐射。在光学实验和光学设备中，最大效率地汇聚光源产生的光并将其引导调整到预定的光线中是科学家和工程师们一直探索优化的目标。对于摩擦过程中产生的光，可以根据摩擦接触形式（点、线或面接触），将其对应等效为点、线或面光源。对于最常见的点接触摩擦发光，为保证光线终端探测器中有效光输入的强度，其光辐射的收集和方向调节至关重要，这对光辐射汇聚装置提出了很高的要求。
2、在摩擦发光过程中，由于其发光来源于摩擦副材料接触并发生相对运动的过程，摩擦副需要外部机械驱动，而用于光辐射收集和方向调节的反射镜容易与外部机械产生干涉，因此无法使用，导致光辐射入射效率低下。
技术实现思路
1、基于此，有必要针对光辐射入射效率低下的问题，提供一种摩擦发光装置。
2、一种摩擦发光装置，所述摩擦发光装置包括：
3、支架，所述支架上设置有运动平台；
4、摩擦副盘，设置在所述运动平台上；
5、压力杆，所述压力杆的一端设置有摩擦副球，所述摩擦副球与所述摩擦副盘抵接，以用于在所述摩擦副球与所述摩擦副盘之间形成摩擦光源；
6、反射镜，设置在所述支架上，且位于所述摩擦光源的一侧，所述反射镜与所述摩擦副盘间隔设置；以及
7、探测器，设置在所述摩擦光源的另一侧，所述反射镜用于使得来自所述摩擦光源的光线反射至所述探测器上。<...
【技术保护点】
1.一种摩擦发光装置，其特征在于，所述摩擦发光装置包括：
2.根据权利要求1所述的摩擦发光装置，其特征在于，所述反射镜具有正对所述探测器的抛物面，所述抛物面的焦点位于所述摩擦光源的所在平面上，所述抛物面的定直线与所述压力杆平行。
3.根据权利要求2所述的摩擦发光装置，其特征在于，所述反射镜为半包围式反射镜，所述半包围式反射镜位于所述压力杆远离所述探测器的一侧。
4.根据权利要求2所述的摩擦发光装置，其特征在于，所述反射镜为全包围式反射镜，所述全包围式反射镜上开设有穿孔，所述压力杆穿过所述穿孔以通过摩擦副球与所述摩擦副盘摩擦抵接。
5.根据权利要求2所述的摩擦发光装置，其特征在于，所述抛物面表面覆设有反射膜层。
6.根据权利要求5所述的摩擦发光装置，其特征在于，
7.根据权利要求2所述的摩擦发光装置，其特征在于，所述反射镜的抛物面沿压力杆长度方向的尺寸小于等于所述探测器的入口半径。
8.根据权利要求1所述的摩擦发光装置，其特征在于，所述运动平台包括样品台、第一调节件、第二调节件以及转动件，所述第一调
9.根据权利要求1所述的摩擦发光装置，其特征在于，所述支架上设置有高度调节组件，所述反射镜与所述高度调节组件固定连接。
10.根据权利要求9所述的摩擦发光装置，其特征在于，所述高度调节组件包括固定件、移动件以及螺杆，所述固定件设置在所述支架上，所述移动件与所述支架滑动连接，所述螺杆与所述固定件沿高度方向螺纹连接，所述螺杆的一端与所述移动件固定连接，所述反射镜与所述移动件固定连接。
...【技术特征摘要】
1.一种摩擦发光装置，其特征在于，所述摩擦发光装置包括：
2.根据权利要求1所述的摩擦发光装置，其特征在于，所述反射镜具有正对所述探测器的抛物面，所述抛物面的焦点位于所述摩擦光源的所在平面上，所述抛物面的定直线与所述压力杆平行。
3.根据权利要求2所述的摩擦发光装置，其特征在于，所述反射镜为半包围式反射镜，所述半包围式反射镜位于所述压力杆远离所述探测器的一侧。
4.根据权利要求2所述的摩擦发光装置，其特征在于，所述反射镜为全包围式反射镜，所述全包围式反射镜上开设有穿孔，所述压力杆穿过所述穿孔以通过摩擦副球与所述摩擦副盘摩擦抵接。
5.根据权利要求2所述的摩擦发光装置，其特征在于，所述抛物面表面覆设有反射膜层。
6.根据权利要求5所述的摩擦发光装置，其特征在于，
7.根据权利要求2所述的摩擦发光...
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