【技术实现步骤摘要】
实施例总体上涉及一种沉积设备。
技术介绍
1、显示器件制造工艺可以包括薄膜形成工艺。薄膜可以通过使用原子层沉积设备的沉积工艺来形成。可以将反应气体和净化气体顺序地注入到原子层沉积设备中，并且通过反应气体与净化气体之间的表面反应在待沉积的基底上形成薄膜。使用原子层沉积设备形成的薄膜具有优异的适用性和均匀性。
2、然而，随着待沉积的基底的尺寸增加，需要增加原子层沉积设备的尺寸。因此，会增加用于供应和排出反应气体和净化气体的时间，从而降低工艺效率。
3、将理解的是，本技术部分的
技术介绍
部分地意图为理解技术而提供有用的背景。然而，本技术部分的背景还可以包括不作为在这里公开的主题的相应有效申请日之前被相关领域的技术人员已知或理解的内容的一部分的想法、构思或认知。
技术实现思路
1、本技术的目的是为了提供一种沉积设备。
2、根据实施例的沉积设备可以包括：气体供应件，包括多个气体注入口；板，设置为面对气体供应件，并且设置为朝向气体供应件上下移动，其中，目标基底可以放置在板上；主体部，所述主体部可以包括限定板与气体供应件之间的反应空间的第一部分以及设置在第一部分下方并且限定下空间的第二部分；以及多个第一排出部，设置在第一部分的外壁上。
3、在实施例中，在平面图中，板可以具有相对于第一部分的中心点对称的n角形形状，并且多个第一排出部可以设置在与板的n个顶点对应的位置处。
4、在实施例中，沉积设备还可以包括：遮蔽框架，设置在板上。遮蔽框架可以
5、在实施例中，沉积设备还可以包括：第三部分，从第一部分的外壁突出，多个第一排出部中的每个可以连接到第三部分，第三部分的内壁的直径可以在从第一部分朝向多个第一排出部中的每个的方向上逐渐减小，并且从壁部的下表面到固定部的上表面的长度可以形成为比在板的抬升方向上的直径长。在板的抬升方向上的直径可以被限定为第三部分的在第三部分物理接触第一部分的位置处的直径。
6、在实施例中，第二部分的内壁与遮蔽框架之间的距离可以是恒定的。
7、在实施例中，第一部分的内壁可以限定多个流动路径，从气体供应件供应到反应空间的气体通过多个流动路径流动到多个第一排出部，并且多个流动路径中的每个可以在宽度上在从第一部分的中心朝向多个第一排出部的方向上逐渐减小。
8、在实施例中，从气体供应件供应到反应空间的气体的一部分通过主体部的内壁与板之间的空间流动到下空间中。
9、从气体供应件供应到反应空间并且排出到多个第一排出部的气体的量可以大于通过主体部的内壁与板之间的空间流动到下空间中的气体的一部分的量。
10、主体部可以能够执行原子层沉积(ald)工艺。
11、一种沉积设备可以包括气体供应件、板、主体部、泵送管道、泵、压力计、节流阀和控制器。气体供应件可以包括多个气体注入口。板可以设置为面对气体供应件，并且设置为朝向气体供应件上下移动，其中，目标基底放置在板上。主体部可以包括：第一部分，限定板与气体供应件之间的反应空间；第二部分，设置在第一部分下方并且限定下空间；以及内壁，与板间隔开。泵送管道可以连接到第一部分的外壁。泵可以连接到泵送管道。压力计可以连接在泵送管道与第一部分的外壁之间。节流阀可以连接在压力计与泵送管道之间。控制器可以使用压力计监测主体部内部的压力，并且可以控制节流阀的移动。
12、在实施例中，沉积设备还可以包括：第三部分，从第一部分的外壁突出，并且泵送管道可以连接到第三部分。第三部分的内壁的直径可以形成为在宽度上从第一部分朝向泵送管道逐渐减小。
13、根据实施例，一种沉积设备可以包括：气体供应件，包括多个气体注入口；板，设置为面对气体供应件，并且朝向气体供应件上下移动，其中，目标基底可以放置在板上；主体部，所述主体部可以包括限定板与气体供应件之间的反应空间的第一部分、设置在第一部分下方并且限定下空间的第二部分，并且主体部具有与板间隔开的内壁；以及多个第一排出部，设置在第一部分的外壁上。
14、根据实施例，沉积设备可以快速地排出主体部中的气体并且可以使沉积工艺时间最小化。
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1.一种沉积设备，其特征在于，所述沉积设备包括：
2.根据权利要求1所述的沉积设备，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的沉积设备，其特征在于，所述沉积设备还包括：
4.根据权利要求3所述的沉积设备，其特征在于，所述沉积设备还包括：
5.根据权利要求3所述的沉积设备，其特征在于，所述第二部分的内壁与所述遮蔽框架之间的距离是恒定的。
6.根据权利要求1所述的沉积设备，其特征在于，
7.根据权利要求1所述的沉积设备，其特征在于，
8.根据权利要求1所述的沉积设备，其特征在于，所述主体部能够执行原子层沉积工艺。
9.一种沉积设备，其特征在于，所述沉积设备包括：
10.根据权利要求9所述的沉积设备，其特征在于，所述沉积设备还包括：
【技术特征摘要】
1.一种沉积设备，其特征在于，所述沉积设备包括：
2.根据权利要求1所述的沉积设备，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的沉积设备，其特征在于，所述沉积设备还包括：
4.根据权利要求3所述的沉积设备，其特征在于，所述沉积设备还包括：
5.根据权利要求3所述的沉积设备，其特征在于，所述第二部分的内壁与所述遮蔽框架之间的距离...
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