System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 抗辐射聚乙烯单丝及其生产方法技术_技高网

抗辐射聚乙烯单丝及其生产方法技术

技术编号:40873544 阅读:8 留言:0更新日期:2024-04-08 16:41
本发明专利技术公开了抗辐射聚乙烯单丝,涉及复合单丝生产技术领域,包括芯层和皮层;皮层包覆在芯层外侧;芯层为高密度聚乙烯共混杂化抗辐射材料;皮层为低密度聚乙烯共混杂化抗辐射材料;芯层的杂化抗辐射材料占比芯层的3%至5%;皮层的杂化抗辐射材料占比皮层的30%至40%;杂化抗辐射材料包括:聚乙烯苯磺酸30%、有机硅乳液10%、氧化铝20%、氧化锌15%、硬脂酸镁15%、石墨烯5%、碳纳米管5%。本发明专利技术提供的抗辐射聚乙烯单丝及其制作方法,解决了现有技术中聚乙烯纤维在钴60辐射环境下强度保持率低的问题;本发明专利技术可以提供一种高强度保持率的聚乙烯单丝。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及复合单丝生产,尤其涉及抗辐射聚乙烯单丝及其生产方法


技术介绍

1、聚乙烯是一种气体辐照敏感的塑料,在辐照条件下,聚乙烯中的乙烯单体会受到钴60辐照的作用而产生改变。在辐照温度低于100℃的条件下,乙烯单体会发生聚合,形成聚乙烯的主链,使聚乙烯的分子结构发生改变,影响它的物理性能;聚乙烯在受到钴60辐照作用后,会发生一定程度的变性,使它的热稳定性发生改变,使它的热膨胀系数变大,使其密度变小;此外,聚乙烯的抗拉强度和弹性模量也会随辐照时间的延长而下降,使它的机械性能发生变化。现有技术的聚乙烯单丝在钴60辐射下的强度保持率低。


技术实现思路

1、针对上述技术问题,本专利技术提供的抗辐射聚乙烯单丝,可以保证聚乙烯纤维单丝在钴60辐射环境下的性能,提高纤维单丝在钴60辐射下的强度保持率。

2、为实现上述目的,本专利技术采取的技术方案为:

3、本专利技术提供的抗辐射聚乙烯单丝,包括芯层和皮层;所述皮层包覆在所述芯层外侧;所述芯层为高密度聚乙烯共混杂化抗辐射材料;所述皮层为低密度聚乙烯共混杂化抗辐射材料;所述芯层的杂化抗辐射材料占比芯层的3%至5%;所述皮层的杂化抗辐射材料占比皮层的30%至40%;所述杂化抗辐射材料包括:聚乙烯苯磺酸30%、有机硅乳液10%、氧化铝20%、氧化锌15%、硬脂酸镁15%、石墨烯5%、碳纳米管5%。

4、本专利技术提供的抗辐射聚乙烯单丝的生产方法,包括步骤:s101:分别将皮层原材料和芯层原材料教人到皮层挤出机和芯层挤出机中;s102:分别对皮层挤出机和芯层挤出机的温度进行设定,皮层挤出机的温度设定成105℃至110℃、芯层挤出机的温度设定成130℃至135℃,芯层挤出机挤出芯层,皮层挤出机挤出包覆在芯层外侧的皮层。

5、上述技术方案具有如下优点或者有益效果:

6、本专利技术公开了抗辐射聚乙烯单丝,涉及复合单丝生产
,包括芯层和皮层;所述皮层包覆在所述芯层外侧;所述芯层为高密度聚乙烯共混杂化抗辐射材料;所述皮层为低密度聚乙烯共混杂化抗辐射材料;所述芯层的杂化抗辐射材料占比芯层的3%至5%;所述皮层的杂化抗辐射材料占比皮层的30%至40%;所述杂化抗辐射材料包括:聚乙烯苯磺酸30%、有机硅乳液10%、氧化铝20%、氧化锌15%、硬脂酸镁15%、石墨烯5%、碳纳米管5%。本专利技术提供的抗辐射聚乙烯单丝及其制作方法,解决了现有技术中聚乙烯纤维在钴60辐射环境下强度保持率低的问题;本专利技术可以提供一种高强度保持率的聚乙烯单丝。

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【技术保护点】

1.一种抗辐射聚乙烯单丝,其特征在于,包括芯层和皮层;所述皮层包覆在所述芯层外侧;所述芯层为高密度聚乙烯共混杂化抗辐射材料;所述皮层为低密度聚乙烯共混杂化抗辐射材料;

2.一种权利要求1所述的抗辐射聚乙烯单丝的生产方法,其特征在于,包括步骤:

【技术特征摘要】

1.一种抗辐射聚乙烯单丝,其特征在于,包括芯层和皮层;所述皮层包覆在所述芯层外侧;所述芯层为高密度聚乙烯共混杂化抗辐射材料;所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:钱琦渊邵新刘熙锋张振峰
申请(专利权)人:无锡金通高纤股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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