用于辐射探测器和/或粒子探测器的玻璃制造技术

技术编号:40845300 阅读:23 留言:0更新日期:2024-04-01 15:13
本发明专利技术涉及一种玻璃,其用于辐射探测器,特别是中子探测器、紫外探测器和中微子探测器。本发明专利技术还涉及一种生产该玻璃的方法,以及该玻璃用于辐射探测器和/或粒子探测器的用途,特别是用于中子探测器、紫外探测器或中微子探测器的用途。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种玻璃,其用于辐射探测器,特别地用于中子探测器、紫外探测器和中微子探测器。本专利技术还涉及生产该玻璃的方法以及该玻璃在辐射探测器和/或粒子探测器中的用途,特别地是在中子探测器、紫外探测器或中微子探测器中的用途。


技术介绍

1、辐射探测器和/或粒子探测器通常包括透镜、盖板、玻璃纤维等不会干扰测量的玻璃制品。

2、然而,原材料和生产过程可能会使玻璃受到材料的污染,而这些材料确实会干扰某些辐射和/或粒子。例如,玻璃中的某些组分包括具有中子吸收和/或紫外吸收能力的元素。其中一些玻璃元素甚至可能会显示出微弱的核辐射,从而会进一步影响实际测量。

3、例如,大多数传统玻璃包括zr、hf,以及fe、ti和/或pt等其他污染物,其中,hf至少在某些同位素中具有放射性并具有中子吸收能力,同时,由于zr和hf在化学上密切相关,zr污染物通常也包含hf污染物。例如,pt、ti和fe会吸收特定波长的紫外光。因此,上述被污染的玻璃对于辐射探测装置和/或粒子探测装置,特别是对于中子探测装置、紫外探测器或中微子探测装置,并不是特别有用。

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【技术保护点】

1.一种玻璃,在基准厚度1.0mm下所述玻璃在260nm波长下的透射率为至少65.0%,其中,所述玻璃中ZrO2的量小于150ppm。

2.根据权利要求1所述的玻璃,其中,所述玻璃中HfO2的量小于10ppm。

3.根据权利要求1或2所述的玻璃,其中,所述玻璃中α粒子的放射低于4.42贝克勒尔/克玻璃。

4.根据前述权利要求中任一项所述的玻璃,其中,所述玻璃中Fe2O3、MoO3和WO3中的一种或多种的量低于10ppm。

5.根据前述权利要求中任一项所述的玻璃,其中,所述玻璃中TiO2的量低于20ppm。

6.根据前述权利要求中...

【技术特征摘要】

1.一种玻璃,在基准厚度1.0mm下所述玻璃在260nm波长下的透射率为至少65.0%,其中,所述玻璃中zro2的量小于150ppm。

2.根据权利要求1所述的玻璃,其中,所述玻璃中hfo2的量小于10ppm。

3.根据权利要求1或2所述的玻璃,其中,所述玻璃中α粒子的放射低于4.42贝克勒尔/克玻璃。

4.根据前述权利要求中任一项所述的玻璃,其中,所述玻璃中fe2o3、moo3和wo3中的一种或多种的量低于10ppm。

5.根据前述权利要求中任一项所述的玻璃,其中,所述玻璃中tio2的量低于20ppm。

6.根据前述权利要求中任一项所述的玻璃,其包括以下指示量的组分(以cat%计):

7.根据前述权利要求中任一项所述的玻璃,其中,在基准厚度1mm下在260nm波长下...

【专利技术属性】
技术研发人员:J·拉斯普R·E·艾希霍尔茨
申请(专利权)人:肖特股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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