【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学加工领域，特别涉及一种结构光投射器的光刻实施方法及光刻装置。
技术介绍
1、专利技术人开发了一款结构光投射器，并进行了专利申请，其公开号为cn115421349a。该结构光投射器的旧有生产流程包括：
2、根据结构光测量的需要进行参数计算，然后将设计的图样进行数字编码后输入光刻控制计算机，再通过激光聚焦后在基板上进行点状曝光，将所有点形成的图案进行显影除胶就形成了需要的光学样板，即，结构光投射器的光学掩模板；
3、得到了光学掩模板后，将光学掩模板与投射镜头进行装配，然后再对结构光投射器投射出来的多帧正弦结构光进行相位匹配调校；
4、具体的调校过程包括：
5、将做好的光学掩模板固定在相应镜头下端的焦面附近，然后装配上完整电路部分，再将多帧条纹投射到测量屏幕上，根据采集的图像，分别调节个投射通道中镜头与掩模板中条纹横向位置，经过反复调校，最终使得分别通过镜头投射出来的正弦条纹在测量空间具有设定的固定相差，然后将两者进行固化。
6、在生产过程中，为了保持结构光投射器装调的精度和批量一致性，针对各通道投射器的镜头与该通道掩模板对焦后，各通道之间的图案投射关系需要满足特定的相移位移，需要对各个通道进行反复调整，故装调过程效率较低。对于批量化生产的结构光投射器需要保证其一致性，因此在装调过程中需要针对零件的个体差异进行个性化安装和精确调校，而不是简单将各个零件安装至预设位置，故无法实现复制化安装。
7、对于多帧正弦结构光投射器的装配及相位校准比较困难，导
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于克服现有技术中所存在的在生产结构光投射器的过程中需要对将光学掩模板与投射镜头的相对位置进行反复调校，导致生产效率低下的问题，提供一种结构光投射器的光刻实施方法及光刻装置。本专利技术通过对装配工艺流程进行改进，利用反向曝光的方式加工结构光投射器的光学掩模板，并且在反向曝光过程中利用侧位移调整相位和分通道曝光工艺，从而高效精确地实现结构光投射器批量产品化的生产。具体地，本专利技术可以用于生产公开号为cn115421349a的专利申请中公开的结构光投射器。
2、为了实现上述专利技术目的，本专利技术提供了以下技术方案：
3、一种结构光投射器的光刻实施方法。所述光刻实施方法至少包括：将预制掩膜板与至少两个投射镜头固化结合；利用曝光光源和曝光光栅对不同的所述投射镜头进行逐一曝光，并且在两次连续曝光操作的时间间隔内对所述曝光光栅的位置进行调节，从而在所述预制掩膜板与所述投射镜头对应区域生成光刻图案，其中，所述光刻图案使得结构光投射器通过不同所述投射镜头投射出的结构光具有预设的相位差。
4、根据一种优选地实施方式，所述预制掩膜板和所述投射镜头分别与镜头基座连接固化形成结构光投射通道。
5、根据一种优选地实施方式，每次曝光操作仅曝光一颗投射镜头并对其他未参与曝光的投射镜头进行遮蔽。
6、根据一种优选地实施方式，按照所述投射镜头的排列顺序，依次进行曝光。优选地，按照所述投射镜头的排列顺序，依次对所述投射镜头进行曝光，可以减少两次连续曝光操作之间曝光光栅的位移，从而节约调节曝光光栅的耗时，进而节约生产结构光投射器的用时。
7、根据一种优选地实施方式，完成所有所述投射镜头的曝光后，对曝光后的所述预制掩膜板进行清洗去胶和干燥处理。
8、根据一种优选地实施方式，在完成干燥处理的情况下，安装照明系统基座和光源组，从而完成结构光投射器的全部装配。
9、根据一种优选地实施方式，对完成装配的所述结构光投射器进行测试，并根据测试结果对曝光参数进行调整。优选地，所述曝光参数至少包括所述曝光光栅的位移。
10、本专利技术还提供一种光刻装置，用于生产结构光投射器。所述光刻装置至少包括：曝光光源、曝光光栅、微位移系统、遮光片和装定模块。所述装定模块用于安装固化结合的预制掩膜板和至少两个投射镜头。所述曝光光源和所述曝光光栅用于对不同的所述投射镜头进行逐一曝光。所述遮光片用于在每次曝光中遮盖不同的投射镜头。所述微位移系统用于在两次连续曝光操作之间对所述曝光光栅的位置进行调节，从而在所述预制掩膜板与所述投射镜头对应区域生成光刻图案，其中，所述光刻图案使得结构光投射器通过不同所述投射镜头投射出的结构光具有预设的相位差。
11、本专利技术还提供一种光刻方法，用于生产结构光投射器。所述光刻方法至少包括：将预制掩膜板与至少两个投射镜头固化结合形成至少两个光通道；利用曝光光源和曝光光栅对所述光通道逐一进行曝光，从而在所述预制掩膜板与所述投射镜头对应区域生成光刻图案。优选地，每次曝光仅有一个所述光通道参与，并且在两次连续曝光操作的时间间隔内对所述曝光光栅的位置进行调节，从而在所述预制掩膜板与所述投射镜头对应区域生成光刻图案，所述光刻图案使得结构光投射器通过不同所述投射镜头投射出的结构光具有预设的相位差。
12、本专利技术还提供一种结构光投射器。所述结构光投射器至少包括：预制掩膜板与至少两个投射镜头。优选地，所述预制掩膜板通过本专利技术提供的光刻实施方法在与所述投射镜头对应区域生成光刻图案，所述光刻图案使得结构光投射器通过不同所述投射镜头投射出的结构光具有预设的相位差。
13、与现有技术相比，本专利技术的有益效果：
14、通过先将预制掩膜板与投射镜头进行装配再对装配好的预制掩膜板和投射镜头进行光刻，从而简化了生产工艺，缩短了生产流程，对装调的要求进行了降低，提高了生产结构光投射器核心部件的生产效率，提高了产品性能稳定性和一致性，有利于进行批量产品化地生产。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种结构光投射器的光刻实施方法，其特征在于：
2.如权利要求1所述的结构光投射器的光刻实施方法，其特征在于，所述预制掩膜板(130)和所述投射镜头(110)分别与镜头基座(120)连接固化形成结构光投射通道。
3.如权利要求1所述的结构光投射器的光刻实施方法，其特征在于，每次曝光操作仅曝光一颗投射镜头(110)并对其他未参与曝光的投射镜头(110)进行遮蔽。
4.如权利要求3所述的结构光投射器的光刻实施方法，其特征在于，按照所述投射镜头(110)的排列顺序，依次进行曝光。
5.如权利要求1所述的结构光投射器的光刻实施方法，其特征在于，完成所有所述投射镜头(110)的曝光后，对曝光后的所述预制掩膜板(130)进行清洗去胶和干燥处理。
6.如权利要求5所述的结构光投射器的光刻实施方法，其特征在于，在完成干燥处理的情况下，安装照明系统基座(140)和光源组(150)，从而完成结构光投射器的全部装配。
7.如权利要求6所述的结构光投射器的光刻实施方法，其特征在于，对完成装配的所述结构光投射器进行测试，并根据测试结
8.一种光刻装置，用于生产结构光投射器，其特征在于，所述光刻装置至少包括：
9.一种光刻方法，用于生产结构光投射器，其特征在于，所述光刻方法至少包括：
10.一种结构光投射器，其特征在于，所述结构光投射器至少包括：
...【技术特征摘要】
1.一种结构光投射器的光刻实施方法，其特征在于：
2.如权利要求1所述的结构光投射器的光刻实施方法，其特征在于，所述预制掩膜板(130)和所述投射镜头(110)分别与镜头基座(120)连接固化形成结构光投射通道。
3.如权利要求1所述的结构光投射器的光刻实施方法，其特征在于，每次曝光操作仅曝光一颗投射镜头(110)并对其他未参与曝光的投射镜头(110)进行遮蔽。
4.如权利要求3所述的结构光投射器的光刻实施方法，其特征在于，按照所述投射镜头(110)的排列顺序，依次进行曝光。
5.如权利要求1所述的结构光投射器的光刻实施方法，其特征在于，完成所有所述投射镜头(110)的曝光后，对...
【专利技术属性】
技术研发人员：游志胜，程鹏，游健，吕学斌，刘宇，吕坤，张娜，郭燕琼，范亮，
申请(专利权)人：四川川大智胜软件股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。