光固化离型剂及低粗糙度、高均匀度MLCC离型膜制造技术

技术编号:40835890 阅读:26 留言:0更新日期:2024-04-01 15:00
本发明专利技术公开一种光固化离型剂及低粗糙度、高均匀度MLCC离型膜,属于离型剂技术领域。光固化离型剂以下质量份原料:硅氧烷85–90%,其中己烯基聚二甲基硅氧烷占比为的60wt%以上,其余为含氢硅氧烷;催化剂0.1–2%;引发剂0–10%。所述光固化离型剂均匀涂布在基材上,在保护气氛下光照,得到MLCC离型膜。本发明专利技术制得的离型膜的粗糙度(Ra)可以达到20nm以下,剥离力小于8mN;且具有良好的均匀度,膜厚度极差小于150nm。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及离型材料,具体涉及一种光固化离型剂及低粗糙度、高均匀度mlcc离型膜。


技术介绍

1、mlcc离型膜原材料主要为pet薄膜和有机硅离型剂,有机硅离型剂由低分子量的含乙烯基(-ch=ch2)硅氧烷与含氢硅氧烷作为交联剂分子,使用一系列固化方式,如铂或铑催化的加成固化制成。氢硅键(si-h)与乙烯基(-ch=ch2)在特定条件下发生硅氢加成反应,生成具有一定交联密度的弹性体材料。该有机硅离型剂具有耐高温、抗氧化、可变形等优点,在便携式可折叠设备和智能可穿戴设备中发挥着重要作用,是当前和未来电子设备的发展趋势之一。

2、目前,使用较多的铂催化硅氢加成固化通常在较高温度下以热固化的形式进行。但是在高温下,部分材料将发生剧烈的化学变化,例如分子键的重排,表现出热不稳定性,并且在高温下降解机制多种多样且复杂,副产物多,溶剂用量大,体系温度稿,能耗大,热固化还需要提供足够的热量所需的加热系统,同时导致较慢的生产速度和大占地面积。另外,热固化过程中面临溶剂的大量挥发,不仅会污染环境,也提高了生产成本,上述问题限制了该固化技术的应用场景。

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【技术保护点】

1.一种光固化离型剂,其特征在于,包括以下质量份原料:

2.根据权利要求1所述的光固化离型剂,其特征在于,所述硅氧烷的数均分子量为200000–1000000。

3.根据权利要求1所述的光固化离型剂,其特征在于,所述引发剂为α-溴苯乙酸乙酯、α-溴异丁酸苄酯、2,6-二溴庚二酸二甲酯、二(2,4,6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦和1-羟基环己基苯基甲酮中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的光固化离型剂,其特征在于,所述催化剂的分子结构式为式(1)、式(2)和式(3)中的至少一种:

5.一种低粗糙度、高均匀度MLCC离型膜,其特征在于,通过...

【技术特征摘要】

1.一种光固化离型剂,其特征在于,包括以下质量份原料:

2.根据权利要求1所述的光固化离型剂,其特征在于,所述硅氧烷的数均分子量为200000–1000000。

3.根据权利要求1所述的光固化离型剂,其特征在于,所述引发剂为α-溴苯乙酸乙酯、α-溴异丁酸苄酯、2,6-二溴庚二酸二甲酯、二(2,4,6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦和1-羟基环己基苯基甲酮中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的光固化离型剂,其特征在于,所述催化剂的分子结构式为式(1)、式(2)和式(3)中的至少一种:

5.一种低粗糙度、高均匀度mlcc离型膜,其特征在于,通过以下方法制得:

6.根据权利要求5所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄慰民吴箫
申请(专利权)人:扬州万润光电科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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