【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及屏蔽罩检测，特别是一种屏蔽罩pin脚平面度检测装置及方法。
技术介绍
1、屏蔽罩是一种用来屏蔽电子信号的工具，可以有效消除外界电磁波对内部电路的影响和防止内部产生的电磁波向外辐射，因此广泛应用于手机、机顶盒等电子通信设备与各类pcb电路板上，由于金属屏蔽罩比较薄、轻等特点容易产生变形，变形后的屏蔽罩贴到pcb上，回流后容易产生空焊、虚焊等问题，因此量产后需要对屏蔽罩及其pin的表面进行平面度检测，现有技术中多采用光纤/光耦的方式进行检测；
2、但是现有技术中却很有很少有屏蔽罩pin脚平面度检测的对标方法，现有技术中在测量屏蔽罩表面或pin脚平面度时，直接将aim在线光耦/光纤检测设备测得的数据作为判断标准，但不像卡尺、千分尺和影像仪等国家标准检测设备，aim在线光耦/光纤检测设备属于一种非标准设备，只是从现有技术和检测到的数据考量，aim在线光耦/光纤检测设备较为接近真实值，目前还未找到有比aim在线光耦/光纤检测设备更高精度的、且适宜于大批量测量平面度的设备或方法；因此，从业人员目前将aim在线光耦/光纤检测设备视为用于检测量产工件的一种高精度设备。该设备需要根据产品的尺寸对检测高度和光耦/光纤的排布进行调整，但无法确认每次调整都是否符合要求，且屏蔽罩被检测时摆放形状、如何使屏蔽罩和pin脚处于最自然状态都会影响测量结果，因此，急需要一种检测对标方法来证明或判断在线光耦/光纤检测的数据是准确的，即对在线光耦/光纤检测的数据进行溯源，找到一种更高精度的、更可靠的、更权威的一种测量方式，以其验证结果来作为
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于克服非标检测设备对标方法的不足，提供一种屏蔽罩pin脚平面度检测装置及对标方法，以解决上述问题。
2、本专利技术的目的是通过以下技术方案来实现的：
3、一种屏蔽罩pin脚平面度检测装置，包括影像检测仪、放置在影像检测仪的检测平台上的直角三棱镜以及用于放置屏蔽罩的支撑块，将所述支撑块的上表面视为工作面，所述工作面为一平整的水平面，工作面的形状与屏蔽罩四周pin脚的分布形态相同，所述直角三棱镜的内设有45°倾斜设置的镜面，且直角三棱镜和支撑块均置于影像检测仪镜头的正下方，所述支撑块的被测面紧贴直角三棱镜的侧表面。
4、上述
技术实现思路
中，进一步地，所述屏蔽罩上设有长pin脚和短pin脚，所述支撑块的工作面上设有与长pin脚配合的定位槽，所述短pin脚置于支撑块工作面上，通过长pin脚和短pin脚使屏蔽罩pin脚朝下以自由状态的方式放置在支撑块的工作面。
5、上述
技术实现思路
中，进一步地，所述定位槽的宽度比长pin脚的宽度宽0.02mm。
6、上述
技术实现思路
中，进一步地，所述支撑块工作面的粗糙度为ra0.4。
7、上述
技术实现思路
中，进一步地，所述支撑块工作面的四周边缘与pin脚位置之间具有0.20mm的水平留放余量。
8、上述
技术实现思路
中，进一步地，所述支撑块侧面的上边缘与工作面四周边缘具有0.15mm～0.20mm的间隙。
9、上述
技术实现思路
中，进一步地，所述影像检测仪为omm检测仪。
10、上述
技术实现思路
中，进一步地，包括如下步骤：
11、s1：取代表产品公差范围的10件屏蔽罩作为分析样品，每件屏蔽罩上设置15个pin脚检测点位；
12、s2：先测量一件屏蔽罩上的15个pin脚检测点位，根据屏蔽罩的形状，采用与屏蔽罩形状相配合的支撑块，并将屏蔽罩的pin脚朝下对准定位槽并放置在支撑块上，使屏蔽罩处于自由状态，然后将支撑块置于omm检测仪正下方，并使支撑块的一侧面紧贴直角三棱镜的直角边镜面，将竖直的pin脚通过顶角为45°的直角三棱镜反射并水平呈现在omm检测仪镜头下方，实验室再按样品图纸尺寸要求使用omm检测仪配和直角三棱镜和支撑块对屏蔽罩的pin脚平面度进行测量，测量pin脚底部与支撑块的工作面之间的距离；
13、s3：根据不同尺寸公差带范围要求，按照上述步骤s2的测量方法依次测量剩余9件屏蔽罩上的15个pin脚检测点位，并对测得的数据进行grr分析；
14、s4：步骤s3中，在进行grr分析过程中，通过对测量系统重复性和再现性测评结果分析，针对尺寸公差带范围要求，并按公差带递增方式反推，验证grr测量结果在产品尺寸不同公差范围内的接受程度；
15、s5：取上述相同的代表公差带范围的10件屏蔽罩样品，按照上述步骤s2的测量方法对每件样品测量至少三次并获得3组数据，取三次测量的平均值作为相关性样品的真值数据；再使用aim在线光耦非标测量设备测试相同的10件屏蔽罩样品，得出相应的aim测量数据，进行相关性分析；
16、s6：将实验室omm测试数据及aim测试数据进行相关性分析；
17、s7：观察实验室omm测量数据与在线光耦aim数据比对差异，并计算omm测量数据和在线光耦aim数据之间的偏差；
18、s8：将omm测量数据和在线光耦aim数据之间的偏差作为判断pin脚平面度相关性是否合格的判断标准，并根据两个设备之间的数据差异可调整aim在线光耦测量设备中相应的载物板的高度、测量位置以及补偿值，使aim在线光耦测量设备测得的值趋近标准值，进而再使用aim在线光耦测量设备检测量产的屏蔽罩的pin脚平面度。
19、上述
技术实现思路
中，进一步地，在步骤s2中，屏蔽罩的四面均设有pin脚，当屏蔽罩一面的pin脚检测完后，旋转支撑块使支撑块的另一侧面紧贴直角三棱镜直角边，测量屏蔽罩另一面的pin脚平面度，直至屏蔽罩四面的pin脚均测量完。
20、上述
技术实现思路
中，进一步地，在步骤s4中，在对测量系统重复性和再现性测评结果分析时，针对尺寸公差带范围要求，按公差带0.01mm递增方式反推，来验证grr测量结果在产品尺寸不同公差范围内的接受程度，其中：
21、产品尺寸公差带范围在≤0.09mm时，验证结果为不可接受；
22、产品尺寸公差带范围在0.10mm～0.14mm时，验证结果为让步接受；
23、产品尺寸公差带范围在0.15mm～0.29mm时，验证结果为可接受；
24、产品尺寸公差带范围在≥0.30mm时，验证结果为极好地接受。
25、本专利技术的有益效果是：
26、本专利技术将国家标准检测设备影像检测仪与支脚三棱镜和支撑块结合起来，将屏蔽罩放置在支撑块上模拟屏蔽罩及pin脚在smt设备自动焊接时的最自然状态，使得检测结果更加接近真实值，因为影像检测仪是竖直往下进行拍摄的，因此，借助镜面为45°的直角三棱镜，使自然状态下竖直放置的pin脚水平呈现在影像检测仪的镜头正下方，通过拍摄的图像精确比较pin脚之间的平面度；
27、其次，同时采用非国家标准的aim在线光耦测量设备对相同样品组的屏蔽罩本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置，其特征在于，包括影像检测仪(1)、放置在影像检测仪(1)的检测平台上的直角三棱镜(2)以及用于放置屏蔽罩(5)的支撑块(4)，将所述支撑块(4)的上表面视为工作面，所述工作面为一平整的水平面，工作面的形状与屏蔽罩(5)四周Pin脚的分布形态相同，所述直角三棱镜(2)的内设有45°倾斜设置的镜面(3)，且直角三棱镜(2)和支撑块(4)均置于影像检测仪(1)镜头的正下方，所述支撑块(4)的被测面紧贴直角三棱镜(2)的侧表面。
2.根据权利要求1所述的一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置，其特征在于，所述屏蔽罩(5)上设有长Pin脚(51)和短Pin脚(52)，所述支撑块(4)的工作面上设有与长Pin脚(51)配合的定位槽(6)，所述短Pin脚(52)置于支撑块(4)工作面上，通过长Pin脚(51)和短Pin脚(52)使屏蔽罩(5)Pin脚朝下以自由状态的方式放置在支撑块(4)的工作面。
3.根据权利要求2所述的一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置，其特征在于，所述定位槽(6)的宽度比长Pin脚(51)的宽度宽0.02mm。
...【技术特征摘要】
1.一种屏蔽罩pin脚平面度检测装置，其特征在于，包括影像检测仪(1)、放置在影像检测仪(1)的检测平台上的直角三棱镜(2)以及用于放置屏蔽罩(5)的支撑块(4)，将所述支撑块(4)的上表面视为工作面，所述工作面为一平整的水平面，工作面的形状与屏蔽罩(5)四周pin脚的分布形态相同，所述直角三棱镜(2)的内设有45°倾斜设置的镜面(3)，且直角三棱镜(2)和支撑块(4)均置于影像检测仪(1)镜头的正下方，所述支撑块(4)的被测面紧贴直角三棱镜(2)的侧表面。
2.根据权利要求1所述的一种屏蔽罩pin脚平面度检测装置，其特征在于，所述屏蔽罩(5)上设有长pin脚(51)和短pin脚(52)，所述支撑块(4)的工作面上设有与长pin脚(51)配合的定位槽(6)，所述短pin脚(52)置于支撑块(4)工作面上，通过长pin脚(51)和短pin脚(52)使屏蔽罩(5)pin脚朝下以自由状态的方式放置在支撑块(4)的工作面。
3.根据权利要求2所述的一种屏蔽罩pin脚平面度检测装置，其特征在于，所述定位槽(6)的宽度比长pin脚(51)的宽度宽0.02mm。
4.根据权利要求3所述的一种屏蔽罩pin脚平面度检测装置，其特征在于，所述支撑块(4)工作面的粗糙度为ra0.4。
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【专利技术属性】
技术研发人员：刘萸，曹文雄，徐大恒，汪仁强，奂立仁，曾光俊，何益，谭聪聪，
申请(专利权)人：成都宏明双新科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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