一种真空器皿内壁电解质等离子抛光装置及抛光方法制造方法及图纸

技术编号:40805851 阅读:30 留言:0更新日期:2024-03-28 19:29
本发明专利技术涉及电解质等离子抛光设备技术领域,尤其涉及一种真空器皿内壁电解质等离子抛光装置及抛光方法,该真空器皿内壁电解质等离子抛光装置,包括电解槽和设置在电解槽内的多个阴极棒,所述电解槽还设置有加热管,所述电解槽上设置有抛光机构,所述抛光机构包括升降结构、往复结构和夹持结构,所述往复结构安装在升降结构上,所述夹持结构装配在往复结构上,所述往复结构用于带动夹持结构沿往复结构往复移动,所述夹持结构用于自动夹紧以及松开真空器皿的外壳。其目的在于,在抛光过程中,能够连续对真空器皿的内壁进行电解质等离子抛光,方便、快捷,有利于真空器皿的大批量抛光。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电解质等离子抛光设备,尤其涉及一种真空器皿内壁电解质等离子抛光装置及抛光方法


技术介绍

1、电解质等离子抛光是一种新型的抛光技术,最先由白俄罗斯米达利特国家大学科技园提出的,其基本工作原理是通过在工件和抛光液之间形成的气层,通过等离子体放电去除工件表面微观凸起作用来实现抛光。与传统抛光比较,它的电解液为低浓度的盐溶液,并可通过补充盐溶液而循环使用且不会产生有害废液,能够解决机械抛光难于加工形状复杂工件的问题,更解决化学和电化学抛光难以避免的环境污染问题。该技术适用于对金属表面抛光、去毛刺、钝化、清除氧化层、污渍和除油脂等,具有可处理任何轮廓的工件、抛光质量高、抛光时间短、环保无污染、抛光表面耐腐蚀和低应力等优点,应用前景广阔。

2、目前,在进行真空器皿的内壁抛光时,一般采用中心阴极法进行抛光,可有效的的对器皿的内壁进行抛光。在采用中心阴极法抛光时,有两种抛光方式,一种是将阴极棒插入真空器皿内,由阴极棒喷洒电解质等离子抛光液,从而对真空器皿的内壁进行抛光;另一种是电解槽内先灌注电解质等离子抛光液,阴极棒位于电解质等离子抛光液内,再本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种真空器皿内壁电解质等离子抛光装置,包括电解槽(1)和设置在电解槽(1)内的多个阴极棒(11),所述电解槽(1)还设置有加热管(12),其特征在于,所述电解槽(1)上设置有抛光机构,所述抛光机构包括升降结构、往复结构(3)和夹持结构(4),所述往复结构(3)安装在升降结构上,所述夹持结构(4)装配在往复结构(3)上,所述往复结构(3)用于带动夹持结构(4)沿往复结构(3)往复移动,所述夹持结构(4)用于自动夹紧以及松开真空器皿(7)的外壳。

2.根据权利要求1所述的真空器皿内壁电解质等离子抛光装置,其特征在于,所述往复结构(3)包括动力源(35)、第一往复组件和第二往复...

【技术特征摘要】

1.一种真空器皿内壁电解质等离子抛光装置,包括电解槽(1)和设置在电解槽(1)内的多个阴极棒(11),所述电解槽(1)还设置有加热管(12),其特征在于,所述电解槽(1)上设置有抛光机构,所述抛光机构包括升降结构、往复结构(3)和夹持结构(4),所述往复结构(3)安装在升降结构上,所述夹持结构(4)装配在往复结构(3)上,所述往复结构(3)用于带动夹持结构(4)沿往复结构(3)往复移动,所述夹持结构(4)用于自动夹紧以及松开真空器皿(7)的外壳。

2.根据权利要求1所述的真空器皿内壁电解质等离子抛光装置,其特征在于,所述往复结构(3)包括动力源(35)、第一往复组件和第二往复组件,所述第一往复组件和第二往复组件均固定装配在升降结构上,且分别设置在电解槽(1)开口处的上部两侧,所述动力源(35)固定连接在第一往复组件上,用于同步带动第一往复组件和第二往复组件运动。

3.根据权利要求2所述的真空器皿内壁电解质等离子抛光装置,其特征在于,所述第一往复组件和第二往复组件结构相同,所述第一往复组件包括架体、传输带(331)和传动轮(34),所述架体的边缘开设有环形槽(33),所述传动轮(34)转动安装在环形槽(33)内,所述传输带(331)张紧在环形槽(33)内,并与传动轮(34)张紧,所述动力源(35)固定安装在架体上,并与传动轮(34)传动连接。

4.根据权利要求3所述的真空器皿内壁电解质等离子抛光装置,其特征在于,所述架体包括第一架体(31)和第二架体(32),所述第一架体(31)和第二架体(32)固定连接,所述第一架体(31)的外侧边缘和第二架体(32)的外侧边缘呈钝角。

5.根据权利要求1或2所述的真空器皿内壁电解质等离子抛光装置,其特征在于,所述夹持结构(4)包括挂钩(41)、挂臂(42...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘成钢刘力付培林陈德福
申请(专利权)人:浙江安胜科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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