一种半导体二极管生产工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种半导体二极管生产工艺，涉及半导体二极管制造技术领域，该工艺中的酸洗设备包括：驱动带，驱动带设置有多个且等间隔的设置在酸洗池的宽度方向上，两个驱动带之间的间隔的宽度与半导体二极管上的柱体部的直径相同；下承载板，固定安装在酸洗池的内表面上，下承载板位于驱动带的下方且位于两个驱动带之间的间隔内，下承载板上开设有第一通道；其中，驱动带的行进方向上等间隔的设置有第一推块，第一推块上固定连接有连接杆，连接杆的外表面上固定安装有第一限位块，第一限位块与端板的边缘相贴合，第一限位块的下表面上转动安装有转动头，该转动头与驱动带的上表面固定连接；效果是酸洗效果好、成品率高等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体二极管制造，更具体地说，它涉及一种半导体二极管生产工艺。

技术介绍

1、半导体二极管是指利用半导体特性的两端电子器件；最常见的半导体二极管是pn结型二极管和金属半导体接触二极管；它们的共同特点是伏安特性的不对称性，即电流沿其一个方向呈现良好的导电性，而在相反方向呈现高阻特性。可用作为整流、检波、稳压、恒流、变容、开关、发光及光电转换等；利用高掺杂pn结中载流子的隧道效应可制成超高频放大或超高速开关的隧道二极管。随着社会的快速发展，半导体二极管的应用越来越广泛。因此，生产出的半导体二极管的品质和效率成为了技术的核心，而在半导体二极管的生产中，半导体二极管的酸洗存在着一些劣势，从而改善酸洗则变得重中之重。

2、现有技术中也出现了一些二极管酸洗的技术方案，如公开号为：cn220021041u、申请号为cn202223255527.8的一项中国专利，公开了二极管制造领域内的二极管酸洗装置，包括：酸性溶液仓，在所述酸性溶液仓的外壁上安装有一电动伸缩杆，此电动伸缩杆的活动端与一位于酸性溶液仓上方的密封顶板固定连接，在所述酸性溶液仓的内部本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种半导体二极管生产工艺，其特征在于：包括，

2.根据权利要求1所述的一种半导体二极管生产工艺，其特征在于：所述驱动组件包括齿牙带（21）、齿轮（22）以及第一电机（23）；

3.根据权利要求1所述的一种半导体二极管生产工艺，其特征在于：所述下承载板（31）的正上方设置有一个以上的上承载板（32），每个上承载板（32）的正上方也均具有一个送料管（52），所述送料管（52）的底端与上承载板（32）之间的距离与柱体部（72）以及端杆部（73）长度之和相同，所述上承载板（32）的一端固定安装在送料管（52）上，所述上承载板（32）上开设有第二通道（321），所述上承...

【技术特征摘要】

1.一种半导体二极管生产工艺，其特征在于：包括，

2.根据权利要求1所述的一种半导体二极管生产工艺，其特征在于：所述驱动组件包括齿牙带（21）、齿轮（22）以及第一电机（23）；

3.根据权利要求1所述的一种半导体二极管生产工艺，其特征在于：所述下承载板（31）的正上方设置有一个以上的上承载板（32），每个上承载板（32）的正上方也均具有一个送料管（52），所述送料管（52）的底端与上承载板（32）之间的距离与柱体部（72）以及端杆部（73）长度之和相同，所述上承载板（32）的一端固定安装在送料管（52）上，所述上承载板（32）上开设有第二通道（321），所述上承载板（32）的长度方向上固定设置有多个凸起部（322），所述上承载板（32）的长度方向上等间隔设置有第二推块（42），所述第二推块（42）通过活动架安装在第一推块（13）上。

4.根据权利要求3所述的一种半导体二极管生产工艺，其特征在于：所述活动架包括连杆（41）、第一弹性伸缩杆（43）以及第二弹性伸缩杆（44）；

5.根据权利要求1所述的一种半导体二极管生产工艺，其特征在于：所述储料斗（51）的底端与送料管（52）的顶端之间固定设置有倾斜斗（53），所述倾斜斗（53）内开设有引导腔（531），所述引...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈小建，
申请(专利权)人：江苏派沃福半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：