【技术实现步骤摘要】
本申请涉及真空，尤其是一种射频网络匹配调节方法、装置及射频离子源系统。
技术介绍
1、射频离子源系统是一种应用领域十分广泛，在离子束溅射、离子束刻蚀、表面处理及辅助沉积等方面均可使用的离子源。射频离子源通过电感耦合原理在放电室中产生等离子体，并由离子光学系统形成离子束流。
2、在射频离子源系统中，射频网络匹配器是用于阻抗匹配，在射频功率源和离子源负载之间构造一个无源的匹配网络；通过改变匹配网络的参数，使射频功率源和离子源负载进行阻抗匹配。
3、常用的射频网络匹配调节方案，在调节过程难以控制参数稳定，导致调节时间过长，容易导致射频功率源启动失败，且匹配网络的参数并非处于最佳匹配点上，射频功率源的匹配度低，降低了射频离子源的使用性能。
技术实现思路
1、本申请的目的旨在解决上述的技术缺陷之一，提供一种射频网络匹配调节方法、装置及射频离子源系统，提升了射频功率源启动成功率，提升了匹配效度，增强了射频离子源的使用性能。
2、第一方面，本申请提供一种射频网络匹配调
【技术保护点】
1.一种射频网络匹配调节方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的射频网络匹配调节方法，其特征在于，依次对第一电容和第二电容进行快速调节，直至射频网络匹配器实时采集的第一阻抗值达到匹配范围值内，包括：
3.根据权利要求1所述的射频网络匹配调节方法，其特征在于，在匹配范围值内，以交叉调节方式并根据设定的步进值分别对第一电容和第二电容进行微调，包括：
4.根据权利要求1所述的射频网络匹配调节方法，其特征在于，在微调过程中，根据射频网络匹配器实时采集的第二阻抗值控制所述第一电容和第二电容的调节方向，以使得所述第二阻抗值向目标阻抗值
...【技术特征摘要】
1.一种射频网络匹配调节方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的射频网络匹配调节方法，其特征在于，依次对第一电容和第二电容进行快速调节，直至射频网络匹配器实时采集的第一阻抗值达到匹配范围值内，包括：
3.根据权利要求1所述的射频网络匹配调节方法，其特征在于，在匹配范围值内，以交叉调节方式并根据设定的步进值分别对第一电容和第二电容进行微调，包括：
4.根据权利要求1所述的射频网络匹配调节方法，其特征在于，在微调过程中，根据射频网络匹配器实时采集的第二阻抗值控制所述第一电容和第二电容的调节方向，以使得所述第二阻抗值向目标阻抗值靠近，包括：
5.根据权利要求1所述的射频网络匹配调节方法，其特征在于，当所述第二阻抗值达到目标阻抗值时，控制射频网络匹配器与负载端保持匹配平衡状态，包括：
6.根据权利要求1所述的射频网络匹配调节方法，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘伟基，邓政伟，冀鸣，范奕生，易洪波，
申请(专利权)人：中山市博顿光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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