【技术实现步骤摘要】
本申请涉及一种半导体设备运行状态的检查方法，特别是涉及一种气体流量的检测方法。
技术介绍
1、半导体制造工艺中会频繁使用到各种气体，在目前运行的技术中，这些气体是经由质量流量控制器(mass flow controller，mfc)监测而且控制其流量后进入反应腔室内。质量流量控制器包括流量传感器、分流器通道、流量控制阀和放大控制器。半导体设备的机台控制计算机传送气体流量的设定值到质量流量控制器后，流量传感器侦测气体流量，侦测后的流量信号在放大控制器与设定值进行比较，然后控制流量控制阀开闭以调整气体流量，分流器通道决定气流主通道的流量。
2、如果粉尘、油污或腐蚀性气体进入质量流量控制器，则可能造成流量传感器损坏、阻塞分流器通道或者是阻塞流量控制阀，因而造成机台控制计算机传送的设定气体流量数据和实际进入反应腔室的气体流量不同，这样会严重影响制程参数而导致良率降低。现有技术由于无法侦测流入反应腔室的实际气体流量，无法与机台控制计算机传送的气体流量的设定值作比较，因而无法判定质量流量控制器的状态和产生偏差的原因。
【技术保护点】
1.一种气体流量的检测方法，其用于检查设置于半导体设备的气体流量控制器的运行状态，所述半导体设备包括所述气体流量控制器、与所述气体流量控制器连接的腔室和与所述气体流量控制器电连接的控制装置，所述气体流量控制器包括流量传感器、分流器通道和流量控制阀，其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的气体流量的检测方法，其特征在于,所述流量监测件的所述测定方法包括：
3.如权利要求1所述的气体流量的检测方法，其特征在于,定义气体偏差值δ＝(1-(Q2-Q3)/Q1),当Q3大于Q2且Q2等于Q1,而且δ大于阈值范围的最大值时,判定所述气体流量控制器的流量传
<...【技术特征摘要】
1.一种气体流量的检测方法，其用于检查设置于半导体设备的气体流量控制器的运行状态，所述半导体设备包括所述气体流量控制器、与所述气体流量控制器连接的腔室和与所述气体流量控制器电连接的控制装置，所述气体流量控制器包括流量传感器、分流器通道和流量控制阀，其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的气体流量的检测方法，其特征在于,所述流量监测件的所述测定方法包括：
3.如权利要求1所述的气体流量的检测方法，其特征在于,定义气体偏差值δ＝(1-(q2-q3)/q1),当q3大于q2且q2等于q1,而且δ大于阈值范围的最大值时,判定所述气体流量控制器的流量传感器堵塞。
4.如权利要求3所述的气体流量的检测方法，其特征在于,当q3小于q2且q2等于q1,而且δ小于所述阈值范围的最小值时,判定所述气体流量控制器的分流器通道堵塞。<...
【专利技术属性】
技术研发人员：宋子兴，张华杰，
申请(专利权)人：杭州富芯半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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