一种MPCVD基片台旋转结构制造技术

本技术公开了一种MPCVD基片台旋转结构，包括反应腔、驱动腔及轮杆，所述驱动腔位于反应腔的下方，所述轮杆穿过驱动腔的底端及顶端延伸至反应腔内，所述轮杆的顶端设有基片台，所述反应腔及驱动腔均与轮杆转动连接，所述轮杆的周壁设有螺旋叶片，所述螺旋叶片位于驱动腔内，所述驱动腔一侧设有气瓶，所述气瓶通过进气管路与驱动腔连通，所述进气管路上设有第一开关阀，所述驱动腔通过出气管路与反应腔连通。本技术提供了一种MPCVD基片台旋转结构，利用装置输入气体时产生的动能驱动基片台旋转，达到节能的目的。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及金刚石生产，尤其涉及一种mpcvd基片台旋转结构。

技术介绍

1、金刚石，由于具有十分优越的性能，在很多领域有着广泛的应用。天然金刚石数量稀少，价格昂贵，难以满足各个领域的大量需求，因此人造金刚石便应运而生。化学气相沉积法是制备金刚石膜最主要的方法，其原理是将氢气、甲烷(或其它含碳气体、液体)通过高温分解，在基片上通过复杂的化学反应而得到金刚石膜。目前主要的气相沉积金刚石膜的方法主要采用微波等离子体化学气相沉积，微波等离子体利用微波能电离气体，金刚石均匀度、膜纯度高，微波等离子体化学气相沉积是最有前途制备出高纯度、大面积的金刚石膜的方法之一。

2、微波等离子体化学气相沉积(mpcvd)装置一般包括微波系统、真空系统、供气系统和等离子体反应室，等离子体反应室中设有一个自旋转基片台，制备金刚石的过程中，微波系统产生的微波进入等离子体反应室，在自旋转基片台上方激发供气系统提供的气体产生等离子体球，等离子体球紧贴在衬底材料表面，sp3结构含碳基团在衬底材料表面沉积成为金刚石膜。现有的自旋转基片台都为电动，需要单独增加一个步进电机进行驱动，而且本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种MPCVD基片台旋转结构，其特征在于，包括反应腔、驱动腔及轮杆，所述驱动腔位于反应腔的下方，所述轮杆穿过驱动腔的底端及顶端延伸至反应腔内，所述轮杆的顶端设有基片台，所述反应腔及驱动腔均与轮杆转动连接，所述轮杆的周壁设有螺旋叶片，所述螺旋叶片位于驱动腔内，所述驱动腔一侧设有气瓶，所述气瓶通过进气管路与驱动腔连通，所述进气管路上设有第一开关阀，所述驱动腔通过出气管路与反应腔连通。

2.如权利要求1所述的一种MPCVD基片台旋转结构，其特征在于，所述出气管路上设有第一流量计。

3.如权利要求2所述的一种MPCVD基片台旋转结构，其特征在于，所述第一流量计与反应腔...

【技术特征摘要】

1.一种mpcvd基片台旋转结构，其特征在于，包括反应腔、驱动腔及轮杆，所述驱动腔位于反应腔的下方，所述轮杆穿过驱动腔的底端及顶端延伸至反应腔内，所述轮杆的顶端设有基片台，所述反应腔及驱动腔均与轮杆转动连接，所述轮杆的周壁设有螺旋叶片，所述螺旋叶片位于驱动腔内，所述驱动腔一侧设有气瓶，所述气瓶通过进气管路与驱动腔连通，所述进气管路上设有第一开关阀，所述驱动腔通过出气管路与反应腔连通。

2.如权利要求1所述的一种mpcvd基片台旋转结构，其特征在于，所述出气管路上设有第一流量计。

3.如权利要求2所述的一种mpcvd基片台旋转结构，其特征在于，所述第一流量计与反应腔之间的出气管路上设放气阀。

【专利技术属性】
技术研发人员：林松，杨柯，罗先炽，张朝琦，
申请(专利权)人：台州爱德盟半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：