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本技术公开了一种MPCVD基片台旋转结构，包括反应腔、驱动腔及轮杆，所述驱动腔位于反应腔的下方，所述轮杆穿过驱动腔的底端及顶端延伸至反应腔内，所述轮杆的顶端设有基片台，所述反应腔及驱动腔均与轮杆转动连接，所述轮杆的周壁设有螺旋叶片，所述螺旋...
该专利属于台州爱德盟半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台州爱德盟半导体有限公司授权不得商用。

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