System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 掩模框架组件、掩模组件和包括该掩模组件的沉积设备制造技术_技高网

掩模框架组件、掩模组件和包括该掩模组件的沉积设备制造技术

技术编号:40741907 阅读:2 留言:0更新日期:2024-03-25 20:01
公开了一种掩模框架组件、掩模组件和沉积设备。该掩模框架组件包括掩模框架、第一支撑构件和第二支撑构件,掩模框架包括:第一表面,包括在第一方向上延伸的第一长侧部分、在与第一方向相交的第二方向上延伸的第一短侧部分、以及在第一方向或第二方向上延伸的第一凹入部分;第二表面,与第一表面相对并且包括在第一方向上延伸的第二长侧部分、在第二方向上延伸的第二短侧部分、以及在第一方向或第二方向上设置的第二凹入部分;第三表面,连接到第一表面和第二表面并且限定框架开口部分,第一支撑构件设置在第一凹入部分中,第二支撑构件设置在第二凹入部分中。

【技术实现步骤摘要】

实施例涉及一种能够控制掩模框架的变形的掩模框架组件、掩模组件和包括该掩模组件的沉积设备


技术介绍

1、诸如电视、移动电话、平板计算机、导航装置和游戏控制台的显示装置均可以包括用于显示图像的显示面板。显示面板可以包括像素。像素中的每个可以包括诸如晶体管的驱动元件和诸如有机发光二极管的显示元件。电极和发光图案可以沉积在基底上以形成显示元件。

2、发光图案可以通过使用其中形成有沉积开口部分的掩模来进行图案化,以便形成在特定区域中。近来,开发了通过使用大面积掩模的沉积工艺技术,以改善显示面板的成品率。然而,在掩模未对准在沉积设备内的位置处的情况下,形成发光图案的位置的准确性降低。


技术实现思路

1、实施例提供了一种能够通过设置在掩模框架的前部或后部上的多个支撑构件来控制掩模框架的前部或后部的变形的掩模框架组件、掩模组件和包括该掩模组件的沉积设备。

2、实施例还提供一种能够控制掩模框架的变形以确保形成发光图案的位置的准确性的掩模框架组件、包括该掩模框架组件的掩模组件以及包括该掩模组件的沉积设备。

3、然而,公开的实施例不限于这里阐述的实施例。通过参照下面给出的公开的详细描述,以上和其他实施例对于公开所属领域的普通技术人员将变得更明显。

4、在实施例中,掩模框架组件可以包括掩模框架以及第一支撑构件和第二支撑构件,掩模框架包括:第一表面,包括在第一方向上延伸的第一长侧部分、在与第一方向相交的第二方向上延伸的第一短侧部分、以及在第一方向上沿着第一长侧部分延伸或者在第二方向上沿着第一短侧部分延伸的第一凹入部分;第二表面,与第一表面相对,并且包括在第一方向上延伸的第二长侧部分、在第二方向上延伸的第二短侧部分、以及在第一方向上沿着第二长侧部分延伸或者在第二方向上沿着第二短侧部分延伸的第二凹入部分;以及第三表面,连接到第一表面和第二表面并且限定框架开口部分,第一支撑构件设置在第一凹入部分中,第二支撑构件设置在第二凹入部分中。

5、在实施例中,第一凹入部分可以包括:第一内部凹槽,与框架开口部分间隔开一距离;第一外部凹槽,限定在第一内部凹槽的相对侧处;以及第一台阶,限定在第一内部凹槽与第一外部凹槽之间。第二凹入部分可以包括:第二内部凹槽,与框架开口部分间隔开一距离;第二外部凹槽,限定在第二内部凹槽的相对侧处;以及第二台阶,限定在第二内部凹槽与第二外部凹槽之间。

6、在实施例中,第一内部凹槽的深度和第二内部凹槽的深度可以分别大于或基本上等于第一外部凹槽的深度和第二外部凹槽的深度。

7、在实施例中,第一凹入部分可以包括多个第一凹入部分,第二凹入部分可以包括多个第二凹入部分,并且多个第一凹入部分或多个第二凹入部分可以在远离框架开口部分的方向上彼此间隔开。

8、在实施例中,第一凹入部分和第二凹入部分可以在垂直于第一凹入部分和第二凹入部分的延伸方向的剖面上彼此不叠置。

9、在实施例中,第一凹入部分可以限定在第一短侧部分中,并且第二凹入部分可以限定在第二短侧部分中。

10、在实施例中,掩模框架组件还可以包括第三支撑构件和第四支撑构件。掩模框架的第一表面还可以包括第三凹入部分,第三凹入部分容纳第三支撑构件并且在与第一凹入部分相交的方向上延伸,并且掩模框架的第二表面还可以包括第四凹入部分,第四凹入部分容纳第四支撑构件并且在与第二凹入部分相交的方向上在第二表面中延伸。

11、在实施例中,第一凹入部分的宽度和第三凹入部分的宽度可以彼此不同,并且第二凹入部分的宽度和第四凹入部分的宽度可以彼此不同。

12、在实施例中,第一支撑构件的宽度和第三支撑构件的宽度可以彼此不同,并且第二支撑构件的宽度和第四支撑构件的宽度可以彼此不同。

13、在实施例中,掩模框架还可以包括与第三表面相对的第四表面,第一表面可以包括:第一部分,连接到第四表面;以及第二部分,与第一部分相邻,并且包括弯曲以连接到第三表面的部分,并且第一凹入部分可以限定在第一部分中。

14、在实施例中,掩模组件可以包括:多个第一支撑构件和多个第二支撑构件;掩模,限定沉积开口部分;以及掩模框架,包括第一表面、第二表面和第三表面,第一表面面对掩模并且包括在第一方向上延伸的第一长侧部分以及在与第一方向相交的第二方向上延伸且其中设置有多个第一支撑构件的第一短侧部分,第二表面与第一表面相对并且包括在第一方向上延伸的第二长侧部分以及在第二方向上延伸且其中设置有多个第二支撑构件的第二短侧部分,第三表面连接到第一表面和第二表面并且限定与沉积开口部分叠置的框架开口部分。第二凹入部分可以在第二方向上延伸,可以容纳多个第二支撑构件,并且可以限定在第二短侧部分中。

15、在实施例中,第一凹入部分可以在第二方向上延伸,可以容纳多个第一支撑构件,并且可以限定在第一短侧部分中。

16、在实施例中,多个第一支撑构件中的每个的厚度和多个第二支撑构件中的每个的厚度可以分别小于或基本上等于第一凹入部分的深度和第二凹入部分的深度。

17、在实施例中,第一凹入部分可以包括在第一凹入部分的延伸方向上彼此间隔开并且结合到多个第一支撑构件的多个第一台阶。

18、在实施例中,第二凹入部分可以包括在第二凹入部分的延伸方向上彼此间隔开并且结合到多个第二支撑构件的多个第二台阶。

19、在实施例中,掩模组件还可以包括多个第三支撑构件和多个第四支撑构件。第三凹入部分可以在第一方向上延伸,可以容纳多个第三支撑构件,并且可以限定在第一长侧部分中,并且在第一方向上延伸并且其中设置有多个第四支撑构件的第四凹入部分可以限定在第二长侧部分中。

20、在实施例中,第一凹入部分的宽度和第三凹入部分的宽度可以彼此不同,并且第二凹入部分的宽度和第四凹入部分的宽度可以彼此不同。

21、在实施例中,掩模可以包括多个掩模构件,并且多个掩模构件可以在第一方向或第二方向上布置以设置在掩模框架上。

22、在实施例中,掩模组件还可以包括设置在掩模框架上的多个间隔棒。

23、在实施例中,沉积设备可以包括:沉积室,提供内部空间;掩模框架,包括第一表面、第二表面和第三表面,第一表面包括在第一方向上延伸的第一长侧部分以及在与第一长侧部分相交的第二方向上延伸的第一短侧部分,第二表面与第一表面相对并且包括在第一方向上延伸的第二长侧部分以及在与第二长侧部分相交的第二方向上延伸的第二短侧部分,第三表面连接到第一表面和第二表面并且限定框架开口部分;沉积构件,设置在掩模框架的第一侧处;台,设置在掩模框架的第一侧处,并且由掩模框架的第二表面支撑;掩模,在掩模框架的第二侧处,并且由掩模框架的第一表面支撑,掩模框架设置在掩模与沉积构件之间;第一支撑构件,设置在第一短侧部分中;以及第二支撑构件,设置在第二短侧部分中,其中,第一短侧部分和第二短侧部分的延伸方向可以相对于沉积室的底表面的法线方向具有约45度的倾斜角。

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【技术保护点】

1.一种掩模框架组件,所述掩模框架组件包括:

2.根据权利要求1所述的掩模框架组件,其中:

3.根据权利要求2所述的掩模框架组件,其中,所述第一内部凹槽的深度和所述第二内部凹槽的深度分别大于或等于所述第一外部凹槽的深度和所述第二外部凹槽的深度。

4.根据权利要求2所述的掩模框架组件,其中,

5.根据权利要求3所述的掩模框架组件,其中,所述第一凹入部分和所述第二凹入部分在垂直于所述第一凹入部分和所述第二凹入部分的延伸方向的剖面上彼此不叠置。

6.根据权利要求1所述的掩模框架组件,其中,

7.根据权利要求2所述的掩模框架组件,所述掩模框架组件还包括:

8.根据权利要求7所述的掩模框架组件,其中:

9.根据权利要求8所述的掩模框架组件,其中:

10.根据权利要求1所述的掩模框架组件,其中:

11.一种掩模组件,所述掩模组件包括:

12.根据权利要求11所述的掩模组件,其中,第一凹入部分在所述第二方向上延伸,容纳所述多个第一支撑构件,并且限定在所述第一短侧部分中。

13.根据权利要求12所述的掩模组件,其中,所述多个第一支撑构件中的每个的厚度和所述多个第二支撑构件中的每个的厚度分别小于或等于所述第一凹入部分的深度和所述第二凹入部分的深度。

14.根据权利要求12所述的掩模组件,其中,所述第一凹入部分包括在所述第一凹入部分的延伸方向上彼此间隔开的多个第一台阶,所述多个第一台阶结合到所述多个第一支撑构件。

15.根据权利要求14所述的掩模组件,其中,所述第二凹入部分包括在所述第二凹入部分的延伸方向上彼此间隔开的多个第二台阶,所述多个第二台阶结合到所述多个第二支撑构件。

16.根据权利要求12所述的掩模组件,所述掩模组件还包括:

17.根据权利要求16所述的掩模组件,其中:

18.根据权利要求11所述的掩模组件,其中,

19.根据权利要求11所述的掩模组件,所述掩模组件还包括:

20.一种沉积设备,所述沉积设备包括:

...

【技术特征摘要】

1.一种掩模框架组件,所述掩模框架组件包括:

2.根据权利要求1所述的掩模框架组件,其中:

3.根据权利要求2所述的掩模框架组件,其中,所述第一内部凹槽的深度和所述第二内部凹槽的深度分别大于或等于所述第一外部凹槽的深度和所述第二外部凹槽的深度。

4.根据权利要求2所述的掩模框架组件,其中,

5.根据权利要求3所述的掩模框架组件,其中,所述第一凹入部分和所述第二凹入部分在垂直于所述第一凹入部分和所述第二凹入部分的延伸方向的剖面上彼此不叠置。

6.根据权利要求1所述的掩模框架组件,其中,

7.根据权利要求2所述的掩模框架组件,所述掩模框架组件还包括:

8.根据权利要求7所述的掩模框架组件,其中:

9.根据权利要求8所述的掩模框架组件,其中:

10.根据权利要求1所述的掩模框架组件,其中:

11.一种掩模组件,所述掩模组件包括:

12.根据权利要求11所述的掩模组件,其中,第一凹入部分在所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员:洪承柱禹珉娥李锺大闵秀玹朴钟圣宋珉澈张原荣
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:

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