【技术实现步骤摘要】
本技术涉及复合材料的，具体而言涉及一种复合片材、内胆及烹饪器具。
技术介绍
1、为了使复合片材方便清洁和延长使用寿命，通常采用附着涂层的方式，常见的涂层材料包括氟树脂不粘涂层和陶瓷涂层等，其中不粘涂层具有优异的不粘性和耐腐蚀性，但硬度低、与基材的结合力差、容易脱落，并且在高温下还可能释放出有害的pfoa(全氟辛酸，perfluorooctanoicacid)等物质，而陶瓷不粘涂层耐水性差，长期使用不粘性变差。所以目前采用硬质pvd(物理气相沉积)镀膜来代替传统的内胆涂层，通常是在附着pvd镀膜后的表面使用传统移印的方式将标识固化在镀膜表面，移印后需要通过加热烘干等形式进行固化，工艺复杂、成本高、效率低，且移印的标识由于没有涂层保护，其附着力差，在使用过程中容易磨损脱落。
2、因此，需要一种复合片材、内胆及烹饪器具，以至少部分地解决以上问题。
技术实现思路
1、在本技术的内容部分中引入了一系列简化形式的概念，这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本技术的内容部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。
2、为至少部分地解决上述问题，本技术第一方面提供了一种复合片材，包括：
3、基体，所述基体的表面具有多个沿第一方向延伸的凹槽，多个所述凹槽沿第二方向周期性排布形成凹凸标识区域，所述第二方向相异于所述第一方向，所述凹槽通过激光加工形成凹凸标识区域；
4、镀膜，所
5、根据本技术，在基体表面附着通过物理气相沉积形成的镀膜，不会改变凹槽的结构，依然可以维持凹凸标识区域的形状，并且镀膜还可以对凹凸标识区域起到保护作用，提高其耐磨性和耐腐蚀性，增加使用寿命。
6、优选地，所述凹槽附着所述镀膜前的深度大于附着所述镀膜后的深度；并且/或者
7、所述凹槽附着所述镀膜前的深度为5-20μm，所述凹槽附着所述镀膜后的深度为4-19μm。
8、根据本技术，特定尺寸的凹槽可以形成光阱效应，直接反射并散射了光，从而使凹凸标识区域呈现哑光黑色，且凹槽附着镀膜后深度变小，使得光阱效应更加明显。
9、优选地，所述凹凸标识区域的截面的形状构造为齿状，相邻的两个所述凹槽之间形成间隔部。
10、根据本技术，特定形状的凹凸标识区域使其加工工艺简单，效率高，并且提高美观程度。
11、优选地，所述凹槽附着所述镀膜前的宽度大于附着所述镀膜后的宽度，并且所述间隔部附着所述镀膜前的宽度小于附着所述镀膜后的宽度。
12、根据本技术，凹槽附着镀膜后宽度变小，间隔部附着镀膜后宽度变大，使得光阱效应更加明显。
13、优选地，所述凹槽附着所述镀膜前的宽度为5-30μm，所述凹槽附着所述镀膜后的宽度为4-28μm；
14、所述间隔部附着所述镀膜前的宽度为5-30μm，所述间隔部附着所述镀膜后的宽度为7-32μm。
15、根据本技术，特定尺寸的凹槽可以形成光阱效应，直接反射并散射了光，从而使凹凸标识区域呈现哑光黑色，且凹槽附着镀膜后宽度变小，间隔部附着镀膜后宽度变大，使得光阱效应更加明显。
16、优选地，所述凹凸标识区域的截面的形状构造为波状，相邻的波峰之间的距离在附着所述镀膜前后相等。
17、根据本技术，特定形状的凹凸标识区域使其加工工艺简单，效率高，并且提高美观程度。
18、优选地，相邻的所述波峰之间的距离为5-30μm。
19、根据本技术，特定尺寸的凹槽可以形成光阱效应，直接反射并散射了光，从而使凹凸标识区域呈现哑光黑色。
20、优选地，所述基体的表面粗糙度为0.1-0.8μm。
21、根据本技术，具有光滑属性的基体表面与镀膜的结合力较强，使镀膜不易从基体表面脱落，产生持续的保护作用，且越光滑越容易清洁。
22、优选地，所述表层中的所述柱状纳米晶体结构具有呈柱状生长的多个晶粒，多个所述晶粒的侧表面彼此贴合，当所述表层处于预定厚度时，所述晶粒的顶端生长形成凸出部，以使得所述表层的表面构造为纳米级的凹凸结构。
23、根据本技术，镀膜表面形成的纳米级的凹凸结构与基体表面的凹凸标识区域配合形成双重凹凸结构，进一步提高复合片材的耐磨性和不粘性。
24、优选地，所述晶粒的径向尺寸为20-80nm；并且/或者
25、所述表层的所述预定厚度为100-600nm。
26、根据本技术，能够为镀膜的表面提供纳米级尺度，形成特殊的柱状纳米晶体结构。
27、优选地，所述镀膜还包括过渡层，所述表层附着于所述过渡层，所述过渡层包括第一过渡层和第二过渡层，且所述第一过渡层和所述第二过渡层交替层叠设置。
28、根据本技术，表层在过渡层上生长能够提高表层的致密性，从而提高硬度和耐腐蚀性能。
29、优选地，所述镀膜还包括底层，所述底层附着于所述基体的表面，所述过渡层附着于所述底层，且所述底层是金属层。
30、根据本技术，金属底层可以增加镀膜和基体的结合力，使得镀膜不易从基体上脱落，增加使用寿命。
31、优选地，所述第一过渡层的厚度为10-50nm，所述第二过渡层的厚度为10-50nm，且所述过渡层的总厚度为300-1000nm；并且/或者
32、所述底层的厚度为100-500nm；并且/或者
33、所述镀膜的总厚度为700-2000nm。
34、根据本技术，各层厚度设置合理，进一步提高镀膜的耐磨性和耐腐蚀性。
35、优选地，所述表层是碳氮化钛层、碳氮化铬层或碳氮化锆层。
36、根据本技术，特定的表层材料能够使得表层能生长成柱状纳米晶体，进一步提高复合片材的耐磨性和耐腐蚀性。
37、优选地，所述表层是碳氮化钛-铜复合层、碳氮化铬-铜复合层或碳氮化锆-铜复合层。
38、根据本技术，由于铜与碳、氮元素不发生反应，也不能与碳氮化物形成固溶体，而是以非晶态的形式存在，所以在表层中加入铜元素可以有效降低表面能，进一步提高复合片材的耐磨性和耐腐蚀性。
39、优选地，非晶态的铜包覆在柱状纳米晶体结构的晶粒之外。
40、根据本技术，铜可以抑制晶粒的生长，因此晶粒会更加小，有效降低表面能，进一步提高复合片材的耐磨性和耐腐蚀性。
41、优选地，所述第一过渡层是碳氮化钛层、碳氮化铬层和碳氮化锆层中的一种；
42、所述第二过渡层是碳氮化钛层、碳氮化铬层和碳氮化锆层中的一种；
43、所述第二过渡层不同于所述第一过渡层。
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【技术保护点】
1.一种复合片材，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的复合片材，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的复合片材，其特征在于，所述凹凸标识区域的截面的形状构造为齿状，相邻的两个所述凹槽之间形成间隔部。
4.根据权利要求3所述的复合片材，其特征在于，所述凹槽附着所述镀膜前的宽度大于附着所述镀膜后的宽度，并且所述间隔部附着所述镀膜前的宽度小于附着所述镀膜后的宽度。
5.根据权利要求4所述的复合片材，其特征在于，
6.根据权利要求1所述的复合片材，其特征在于，所述凹凸标识区域的截面的形状构造为波状，相邻的波峰之间的距离在附着所述镀膜前后相等。
7.根据权利要求6所述的复合片材，其特征在于，相邻的所述波峰之间的距离为5-30μm。
8.根据权利要求1所述的复合片材，其特征在于，所述基体的表面粗糙度为0.1-0.8μm。
9.根据权利要求1所述的复合片材，其特征在于，所述表层中的所述柱状纳米晶体结构具有呈柱状生长的多个晶粒，多个所述晶粒的侧表面彼此贴合，当所述表层处于预定厚度时，所述晶粒的
10.根据权利要求9所述的复合片材，其特征在于，
11.根据权利要求1-10中任意一项所述的复合片材，其特征在于，所述镀膜还包括过渡层，所述表层附着于所述过渡层，所述过渡层包括第一过渡层和第二过渡层，且所述第一过渡层和所述第二过渡层交替层叠设置。
12.根据权利要求11所述的复合片材，其特征在于，所述镀膜还包括底层，所述底层附着于所述基体的表面，所述过渡层附着于所述底层，且所述底层是金属层。
13.根据权利要求12所述的复合片材，其特征在于，
14.根据权利要求1-10中任意一项所述的复合片材，其特征在于，所述表层是碳氮化钛层、碳氮化铬层或碳氮化锆层。
15.根据权利要求1-10中任意一项所述的复合片材，其特征在于，所述表层是碳氮化钛-铜复合层、碳氮化铬-铜复合层或碳氮化锆-铜复合层。
16.根据权利要求15所述的复合片材，其特征在于，非晶态的铜包覆在柱状纳米晶体结构的晶粒之外。
17.根据权利要求11所述的复合片材，其特征在于，所述第一过渡层是碳氮化钛层、碳氮化铬层和碳氮化锆层中的一种；
18.根据权利要求12所述的复合片材，其特征在于，所述底层是钛金属层、铬金属层、锆金属层、铬钛复合金属层、铬锆复合金属层或锆钛复合金属层。
19.一种内胆，其特征在于，所述内胆包括根据权利要求1-18中任意一项所述的复合片材。
20.一种烹饪器具，其特征在于，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种复合片材，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的复合片材，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的复合片材，其特征在于，所述凹凸标识区域的截面的形状构造为齿状，相邻的两个所述凹槽之间形成间隔部。
4.根据权利要求3所述的复合片材，其特征在于，所述凹槽附着所述镀膜前的宽度大于附着所述镀膜后的宽度，并且所述间隔部附着所述镀膜前的宽度小于附着所述镀膜后的宽度。
5.根据权利要求4所述的复合片材，其特征在于，
6.根据权利要求1所述的复合片材，其特征在于，所述凹凸标识区域的截面的形状构造为波状，相邻的波峰之间的距离在附着所述镀膜前后相等。
7.根据权利要求6所述的复合片材，其特征在于，相邻的所述波峰之间的距离为5-30μm。
8.根据权利要求1所述的复合片材，其特征在于，所述基体的表面粗糙度为0.1-0.8μm。
9.根据权利要求1所述的复合片材，其特征在于，所述表层中的所述柱状纳米晶体结构具有呈柱状生长的多个晶粒，多个所述晶粒的侧表面彼此贴合，当所述表层处于预定厚度时，所述晶粒的顶端生长形成凸出部，以使得所述表层的表面构造为纳米级的凹凸结构。
10.根据权利要求9所述的复合片材，其特征在于，
11.根据权利要求1-10中任意一项所述的复合片...
【专利技术属性】
技术研发人员：厉江，李兴航，陈亨军，李泽涌，
申请(专利权)人：浙江苏泊尔家电制造有限公司，
类型：新型
国别省市：
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