【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜设备，具体涉及一种电晕真空镀膜一体装置。
技术介绍
1、真空镀膜是指在较高真空度下进行的镀膜，目前在对材料的表面进行镀膜时，由于材料本身材质的原因，其附着力较差，在直接进行真空镀膜时，会因为附着力的原因影响镀膜均匀性和镀膜效果，一般情况下会在真空镀膜前先对材料的表面进行预处理，如先进行电晕处理；电晕处理是利用高频率高电压在被处理的材料表面电晕放电，使被处理材料的表面变粗糙，增强被处理材料表面的附着力。
2、然而，现有的技术是在电晕机上对基膜进行电晕处理，再将电晕处理后的基膜放在真空镀膜机上进行镀膜。在电晕步骤和镀膜步骤之间会涉及到基膜的存放问题，基膜在放入真空镀膜机内之前很容易受到污染，不仅工艺步骤繁琐，还会影响镀膜效果。
3、应该注意，上面对技术背景的介绍只是为了方便对本技术的技术方案进行清楚、完整的说明，并方便本领域技术人员的理解而阐述的。不能仅仅因为这些方案在本技术的
技术介绍
部分进行了阐述而认为上述技术方案为本领域技术人员所公知。
技术实现思路
1、为克服上述缺点，本技术的目的在于提供一种电晕真空镀膜一体装置，从而有效地解决上述技术问题。
2、为了达到以上目的，本技术采用的技术方案是：一种电晕真空镀膜一体装置，包括装置本体，所述装置本体包括送料组件、收料组件、真空仓，所述送料组件、所述收料组件设置于所述真空仓内，产品从所述送料组件处向所述收料组件移动，同时，根据产品的移动方向，在所述送料组件和所述收料组件之间依次设置有电晕
3、本技术的有益效果为：本方案设计的一种电晕真空镀膜一体装置，将电晕装置设置在真空镀膜设备内，通过电晕装置对产品表面进行电晕处理，增加粗糙度，然后直接进行镀膜，整个过程无需将基膜从电晕装置转移到真空镀膜机内，基膜一直处于真空镀膜设备内，避免基膜受到外界污染。
4、在一些实施方式中，所述送料组件包括送料辊，未加工的产品卷绕在所述送料辊上；所述收料组件包括收料辊，加工完成的产品卷绕在所述收料辊上。
5、在一些实施方式中，所述电晕发生装置包括第一电晕发生装置和第二电晕发生装置，其中：
6、所述第一电晕发生装置对准所述产品的第一表面；
7、所述第二电晕发生装置对准所述产品的第二表面。
8、当只需要进行单面电晕处理以及镀膜操作时，只需要第一电晕发生装置工作即可；当需要进行双面电晕处理以及镀膜操作时，第一电晕发生装置和第二电晕发生装置同时工作；本设备可以实现双面电晕处理以及双面镀膜操作，尤其是在镀膜之前完成了双面的电晕处理，提高了效率。
9、在一些实施方式中，所述镀膜源包括第一镀膜源和第二镀膜源，根据产品的移动方向，所述第一镀膜源设置于所述第一电晕发生装置之后，所述第二镀膜源设置于所述第二电晕发生装置之后。
10、在一些实施方式中，所述第一镀膜源对准所述产品的第一表面，所述第二镀膜源对准所述产品的第二表面。
11、在一些实施方式中，所述装置本体还包括导向组件，所述导向组件用于对产品进行导向。
12、在一些实施方式中，所述导向组件包括若干个导向辊，同时若干个所述导向辊分布在所述产品的不同部位；导向辊在每两个部件之间可以设置多个，导向辊的作用是在基膜传送的过程中对基膜起到导向的作用，避免基膜跑偏，同时给基膜提供一定的张力，为电晕处理或镀膜操作提供一个平稳的表面基础；同时，为了提高电晕处理效果或镀膜效果，可以增加展平辊、张力辊等。
13、在一些实施方式中，所述装置本体还包括冷却辊，所述镀膜源对准所述冷却辊，冷却辊起到支撑产品的作用，并且在镀膜源对产品进行镀膜时，冷却辊可以对产品进行冷却，防止产品过热从而造成损伤。
14、在一些实施方式中，所述送料辊、所述收料辊、所述电晕发生装置、所述镀膜源、所述导向辊、所述冷却辊均设置在所述真空仓内部；在同一真空仓内完成电晕处理以及镀膜操作，整个过程中基膜不与外界接触，避免基膜受到污染，可以保证电晕处理的效果不受影响，而在镀膜之前进行电晕处理是为了提高基膜的附着力，所以该装置可以整体提高附着力，保证镀膜效果。
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1.一种电晕真空镀膜一体装置，包括装置本体，其特征在于，所述装置本体包括送料组件、收料组件、真空仓，所述送料组件、所述收料组件设置于所述真空仓内，产品从所述送料组件处向所述收料组件移动，同时，根据产品的移动方向，在所述送料组件和所述收料组件之间依次设置有电晕发生装置和镀膜源；
2.根据权利要求1所述的电晕真空镀膜一体装置，其特征在于，所述送料组件包括送料辊，未加工的产品卷绕在所述送料辊上；所述收料组件包括收料辊，加工完成的产品卷绕在所述收料辊上。
3.根据权利要求1所述的电晕真空镀膜一体装置，其特征在于，所述电晕发生装置包括第一电晕发生装置和第二电晕发生装置，其中：
4.根据权利要求3所述的电晕真空镀膜一体装置，其特征在于，所述镀膜源包括第一镀膜源和第二镀膜源，根据产品的移动方向，所述第一镀膜源设置于所述第一电晕发生装置之后，所述第二镀膜源设置于所述第二电晕发生装置之后。
5.根据权利要求4所述的电晕真空镀膜一体装置，其特征在于，所述第一镀膜源对准所述产品的第一表面，所述第二镀膜源对准所述产品的第二表面。
6.根据权利要
7.根据权利要求6所述的电晕真空镀膜一体装置，其特征在于，所述导向组件包括若干个导向辊，同时若干个所述导向辊分布在所述产品的不同部位。
8.根据权利要求7所述的电晕真空镀膜一体装置，其特征在于，所述送料辊、所述收料辊、所述电晕发生装置、所述镀膜源、所述导向辊、所述冷却辊均设置在所述真空仓内部。
...【技术特征摘要】
1.一种电晕真空镀膜一体装置，包括装置本体，其特征在于，所述装置本体包括送料组件、收料组件、真空仓，所述送料组件、所述收料组件设置于所述真空仓内，产品从所述送料组件处向所述收料组件移动，同时，根据产品的移动方向，在所述送料组件和所述收料组件之间依次设置有电晕发生装置和镀膜源；
2.根据权利要求1所述的电晕真空镀膜一体装置，其特征在于，所述送料组件包括送料辊，未加工的产品卷绕在所述送料辊上；所述收料组件包括收料辊，加工完成的产品卷绕在所述收料辊上。
3.根据权利要求1所述的电晕真空镀膜一体装置，其特征在于，所述电晕发生装置包括第一电晕发生装置和第二电晕发生装置，其中：
4.根据权利要求3所述的电晕真空镀膜一体装置，其特征在于，所述镀膜源包括第一镀膜源和第二镀膜源，根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：武俊伟，翁伟嘉，
申请(专利权)人：江苏英联复合集流体有限公司，
类型：新型
国别省市：
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