一种清洗装置制造方法及图纸

本技术涉及清洗设备技术领域，具体公开了一种清洗装置，包括支架主体、清洗槽、旋转轴、提升机构以及驱动装置，所述支架主体具有第一方向和第二方向；所述清洗槽设于所述支架主体，所述清洗槽内设有清洗单元；所述旋转轴沿所述第一方向架设于所述清洗槽内；所述提升机构安装于所述支架主体上，用于驱动所述旋转轴沿所述第二方向上升或下降；所述驱动装置设于所述清洗槽，用于驱动所述旋转轴转动。本技术利用提升机构用于驱动旋转轴沿第二方向上升或下降，下降时能使得辊体能够完全浸没于清洗液内，在驱动装置驱动旋转轴转动下能够对辊体进行更全面的清洗，清洗效率高，清洁更干净；且能减少人工操作强度，节约人力和成本。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及清洗设备，特别是涉及一种清洗装置。

技术介绍

1、电池生产过程中的一道重要工序是将正极浆料通过凹版底涂设备转移涂覆到铝箔基材表面，随着生产时间的加长，凹版底涂设备上转移浆料的凹版辊网穴内会存在浆料堵塞的现象，常规的清洗方法是人工通过碎布及软毛刷配合清水清洁凹版辊网穴内的浆料，劳动强度大，清洗效率低，另外，人工清洗不易将网穴内的堵塞的浆料清洗干净，严重影响凹版涂布的品质，同时使用软毛刷会对凹版辊表面造成一定的损伤；另市面上也存在用于凹版辊的清洗设备，该设备是将凹版辊直接架设在储液槽的顶部，清洗过程中，仅有一部分置于储液槽内，清洗效率依然不高，且清洗效果不理想。

技术实现思路

1、本技术要解决的技术问题是：如何解决现有技术存在的清洗效率低、清洗效果不理想的问题。

2、为了解决上述技术问题，本技术提供了一种清洗装置，包括：

3、支架主体，具有相交的第一方向和第二方向；

4、清洗槽，设于所述支架主体，所述清洗槽内设有清洗单元；

5、旋转轴，沿所述第一方向架设于所述清洗槽内；

6、提升机构，安装于所述支架主体上，用于驱动所述旋转轴沿所述第二方向上升或下降；

7、驱动装置，设于所述清洗槽，用于驱动所述旋转轴转动。

8、进一步优选地，所述支架主体包括第一支架和第二支架，所述第二支架在第二方向上的高度大于所述第一支架在第二方向上的高度，所述清洗槽设于所述第一支架，所述提升机构安装于所述第二支架。

<p>9、进一步优选地，所述清洗装置还包括：

10、支撑机构，安装于所述清洗槽的内部，所述旋转轴转动连接于所述支撑机构上。

11、进一步优选地，所述支撑机构包括：

12、平面支架，固设于所述清洗槽的内侧壁；以及

13、安装座，沿第一方向设于所述平面支架的两端，每一端的所述安装座上转动设有至少两个用于支撑所述旋转轴的支撑轮，所述旋转轴随动于所述支撑轮，所述支撑轮与所述驱动装置传动连接，且沿所述第二方向，所述旋转轴至少部分位于所述支撑轮的上方。

14、进一步优选地，所述清洗装置还包括传动机构，所述传动机构用于将所述驱动装置的动力传递至所述支撑轮。

15、进一步优选地，所述传动机构包括：

16、主动链轮，与所述驱动装置的输出端连接；

17、从动链轮，与所述支撑轮同轴连接；以及

18、链条，用于连接所述主动链轮和从动链轮。

19、进一步优选地，所述提升机构包括：

20、液压缸，设于所述第二支架；

21、支撑板，所述支撑板与所述液压缸的活塞杆端连接；

22、连接杆，所述连接杆一端与所述支撑板连接，另一端沿第二方向延伸至所述清洗槽的内部；以及

23、提升支架，设于所述清洗槽的内部并与所述连接杆远离支撑板的一端连接，所述提升支架在所述第一方向上的两端设有托板，所述托板置于所述旋转轴的下方。

24、进一步优选地，所述托板上设有开口朝向所述旋转轴的弧槽，所述弧槽与所述旋转轴相匹配。

25、进一步优选地，所述提升机构还包括：

26、直线导轨，沿第二方向设于所述第二支架；以及

27、直线轴承，滑动设于所述直线导轨上，所述直线轴承与所述支撑板连接。

28、进一步优选地，所述清洗装置还包括以下结构中的至少一种：

29、i)加热器，设于所述清洗槽，用于对所述清洗槽内的清洗液进行加热；

30、ii)温控器，设于所述清洗槽外侧，用于控制所述加热器的加热温度；以及

31、iii)液位传感器，设于所述清洗槽内壁侧，用于监测所述清洗槽内的水位高度。

32、本技术提供的一种清洗装置与现有技术相比，其有益效果在于：本技术中旋转轴可拆卸连接，以便安装各种待清洗辊体，利用提升机构用于驱动旋转轴沿第二方向上升或下降，以实现待清洗辊体(如凹版辊)的上升或下降，其中，当旋转轴下降至清洗槽内后，辊体能够完全浸没于清洗液内，在清洗单元的作用下能够对辊体进行更全面的清洗，清洗效率高，清洁更干净；另外，通过驱动装置驱动旋转轴转动能进一步提高辊体的清洗效果，清洗结束后再由提升机构将已清洗的辊体升起，减少人工操作强度，节约人力和成本。

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【技术保护点】

1.一种清洗装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种清洗装置，其特征在于，所述支架主体(10)包括第一支架(11)和第二支架(12)，所述第二支架(12)在第二方向(Y)上的高度大于所述第一支架(11)在第二方向(Y)上的高度，所述清洗槽(20)设于所述第一支架(11)，所述提升机构(60)安装于所述第二支架(12)。

3.根据权利要求1所述的一种清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括：

4.根据权利要求3所述的一种清洗装置，其特征在于，所述支撑机构(30)包括：

5.根据权利要求4所述的一种清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括传动机构(80)，所述传动机构(80)用于将所述驱动装置(50)的动力传递至所述支撑轮(33)。

6.根据权利要求1所述的一种清洗装置，其特征在于，所述旋转轴(40)沿所述第一方向(X)的至少一端可拆卸设置有堵块(41)，沿所述旋转轴(40)的径向，所述堵块(41)的最大尺寸大于所述旋转轴(40)的直径。

7.根据权利要求2所述的一种清洗装置，其特征在于，所述提升机构(60)包括：

8.根据权利要求7所述的一种清洗装置，其特征在于，所述托板(67)上设有开口朝向所述旋转轴(40)的弧槽，所述弧槽与所述旋转轴(40)相匹配。

9.根据权利要求7所述的一种清洗装置，其特征在于，所述提升机构(60)还包括：

10.根据权利要求1所述的一种清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括以下结构中的至少一种：

...

【技术特征摘要】

1.一种清洗装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种清洗装置，其特征在于，所述支架主体(10)包括第一支架(11)和第二支架(12)，所述第二支架(12)在第二方向(y)上的高度大于所述第一支架(11)在第二方向(y)上的高度，所述清洗槽(20)设于所述第一支架(11)，所述提升机构(60)安装于所述第二支架(12)。

3.根据权利要求1所述的一种清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括：

4.根据权利要求3所述的一种清洗装置，其特征在于，所述支撑机构(30)包括：

5.根据权利要求4所述的一种清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括传动机构(80)，所述传动机构(80)用于将所述驱动装置(50)的动力传递至所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄林，
申请(专利权)人：欣旺达动力科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：