一种用于显示高纯AL-0.5%Cu靶材金相组织的腐蚀液及腐蚀方法技术

本发明专利技术提供一种用于显示高纯AL‑0.5％Cu靶材金相组织的腐蚀液及腐蚀方法。所述腐蚀液包括盐酸、硝酸、氢氟酸和水；所述盐酸、硝酸、氢氟酸和水的体积比为(2～3):(15～25):(3～8):(50～60)。采用本发明专利技术提供的腐蚀液对高纯AL‑0.5％Cu靶材进行腐蚀后可以直接用普通光学显微镜观察金相组织，无需加装专业的偏光装置，操作简便，成本较低，为更好的研究高纯AL‑0.5％Cu靶材的晶粒组织提供了一种实用、高效的方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于金相电解腐蚀，具体涉及一种用于显示高纯al-0.5％cu靶材金相组织的腐蚀液及腐蚀方法。

技术介绍

1、高纯al-0.5％cu靶材具有一系列优良的物理和化学性能，密度小，热导率与电导率高，对光的反射率也高，对大气有很强的抗腐蚀能力，加工成形性能好，没有低温脆性，其强度与塑性均随着温度的下降而升高，在电子工业及航空航天领域有着广泛的应用。

2、据统计，5n5～6n的高纯al-0.5％cu靶材中96％用于半导体器件制造行业，溅射金属靶材中用量最大的就是高纯al-0.5％cu靶材靶材，但目前我国的高纯al-0.5％cu靶材靶材主要依赖进口，国内企业不能稳定生产出合格的高纯al-0.5％cu靶材靶材，制约我国高纯al-0.5％cu靶材靶材生产的关键技术有两个，一是高纯al-0.5％cu靶材的提纯技术，二是高纯al-0.5％cu靶材晶粒的细化技术。而要想在高纯al-0.5％cu靶材晶粒细化方面取得突破，简单、高效的金相试样制备技术是其基础。

3、高纯al-0.5％cu靶材的杂质含量极少，如用普通化学方法腐蚀，晶界与晶内的原电池腐本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于显示高纯AL-0.5％Cu靶材金相组织的腐蚀液，其特征在于，所述腐蚀液包括盐酸、硝酸、氢氟酸和水；

2.根据权利要求1所述的用于显示高纯AL-0.5％Cu靶材金相组织的腐蚀液，其特征在于，所述盐酸、硝酸、氢氟酸和水的体积比为(2.2～2.8):(18～22):(4～6):(52～58)，优选为2.5:20:5:55。

3.根据权利要求1或2所述的用于显示高纯AL-0.5％Cu靶材金相组织的腐蚀液，其特征在于，所述盐酸的浓度为30～40wt％；

4.一种用于显示高纯AL-0.5％Cu靶材金相组织的腐蚀方法，其特征在于，所述腐蚀方法采用权利要求...

【技术特征摘要】

1.一种用于显示高纯al-0.5％cu靶材金相组织的腐蚀液，其特征在于，所述腐蚀液包括盐酸、硝酸、氢氟酸和水；

2.根据权利要求1所述的用于显示高纯al-0.5％cu靶材金相组织的腐蚀液，其特征在于，所述盐酸、硝酸、氢氟酸和水的体积比为(2.2～2.8):(18～22):(4～6):(52～58)，优选为2.5:20:5:55。

3.根据权利要求1或2所述的用于显示高纯al-0.5％cu靶材金相组织的腐蚀液，其特征在于，所述盐酸的浓度为30～40wt％；

4.一种用于显示高纯al-0.5％cu靶材金相组织的腐蚀方法，其特征在于，所述腐蚀方法采用权利要求1-3任一项所述的腐蚀液进行。

5.根据权利要求4所述的腐蚀方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，钟伟攀，张炳青，仝连海，
申请(专利权)人：宁波同创普润新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：