含氟靶材、功能膜层及其真空溅射成型方法技术

本发明专利技术涉及含氟靶材、功能膜层及其真空溅射成型方法，包括组分A、组分B、组分C和组分D，组分A包括固定颗粒；组分B包括改性硅烷；组分C包括全氟聚酯，所述全氟聚酯用于与组分A形成共价键；组分D包括网状物质。上述的含氟靶材，各组分沉积于基材后，组分B能够与基材表面亲和，且能够与空气中的水等发生自缩合反应。组分A与组分C能够形成共价键，从而将组分C的全氟聚酯固定在靶材，组分D的网状物质的网格能够容纳组分C，从而避免组分C横向滑动。通过各组分之间多种作用力相互配合，能够提升含氟靶材的结构强度，从而增加含氟靶材的耐用性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及含氟靶材，特别是涉及含氟靶材、功能膜层及其真空溅射成型方法。

技术介绍

1、触摸屏被广泛地应用在智能手机和平板电脑等等的电子产品，为了让皮肤能够在触摸屏上顺滑地滑动，通常会在屏幕表面沉积含氟膜层。含氟膜层具有较低的表面张力，能够起到疏水和排油的作用。由于皮肤的表面存在水和油等物质，基于含氟靶材的特性，即可使得皮肤在屏幕顺滑地滑动。但是，目前的含氟靶材的结构强度较低，在多次滑动后容易出现脱落的问题而导致失效。

技术实现思路

1、基于此，有必要提供一种含氟靶材、功能膜层及其真空溅射成型方法。

2、一种含氟靶材，包括：

3、组分a，包括固定颗粒；

4、组分b，包括改性硅烷；

5、组分c，包括全氟聚酯，用于与组分a形成共价键；及

6、组分d，包括网状物质；

7、其中，组分a、组分b、组分c和组分d的重量份比例为1：(0.5～20)：(0.1～10)：(0.1～30)，更具体地，组分a、组分b、组分c和组分d的重量份比例为1：(2～5本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种含氟靶材，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的含氟靶材，其特征在于，所述网状物质包括聚酯树脂与苯乙烯的交联物。

3.根据权利要求1所述的含氟靶材，其特征在于，所述组分A包括硅烷偶联剂。

4.根据权利要求1所述的含氟靶材，其特征在于，所述组分A、所述组分B、所述组分C和所述组分D的重量份比例为1：(2～5)：(0.5～2)：(3～6)。

5.根据权利要求1所述的含氟靶材，其特征在于，所述全氟聚酯的分子量为2500～8000。

6.根据权利要求1所述的含氟靶材，其特征在于，所述改性硅烷包括R'(CH2)mSi(R”)...

【技术特征摘要】

1.一种含氟靶材，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的含氟靶材，其特征在于，所述网状物质包括聚酯树脂与苯乙烯的交联物。

3.根据权利要求1所述的含氟靶材，其特征在于，所述组分a包括硅烷偶联剂。

4.根据权利要求1所述的含氟靶材，其特征在于，所述组分a、所述组分b、所述组分c和所述组分d的重量份比例为1：(2～5)：(0.5～2)：(3～6)。

5.根据权利要求1所述的含氟靶材，其特征在于，所述全氟聚酯的分子量为2500～8000。

6.根据权利要求1所述的含氟靶材，其特征在于，所述改性硅烷包括r'(ch2)msi(r”)3，其中，r'为氨基、烯基、芳基、醚基或甘氨酸基中的一种，r”为烷基、烷氧基或酯基的一种，m为0～10的任一整数。

7.根据权利要求1所述的含氟靶材，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：何小锐，郑健，卞在万，
申请(专利权)人：深圳市派恩新材料技术有限公司，
类型：发明
国别省市：