【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及激光器，尤其是涉及一种激光器放电腔内表面镀层结构及其制备方法。
技术介绍
1、准分子激光器的放电腔在高频放电条件下工作，通入的工作气体会与腔体内壁发生反应后产生各种固体和气体杂质，会极大地影响到激光器系统的放电效率和放电均匀性，同时随着腔体内反应的进行，氟原子会逐渐耗尽，因此需要频繁地更换气体。
2、为了提高激光器放电效率和放电均匀性，需要对放电腔的内表面进行钝化，现有的钝化手段是化学镀镍，其是利用电化学反应将ni2+还原成金属ni，并在放电腔内壁金属基体表面上沉积形成一层均匀的ni-p膜。化学镀镍具有良好的耐蚀效果，通常镀层中p含量越高，镀层的耐蚀性越好。但化学镀镍过程存在逸出h2的副反应，h2残留在镀层表面会形成针孔、疏松等缺陷，由于这些缺陷的存在，会在镀层表面形成局部微电池，导致镀层发生严重的腐蚀，从而严重影响钝化效果。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种激光器放电腔内表面镀层结构及其制备方法，以解决现有技术中存在的至少一个上述技术问题。
...【技术保护点】
1.一种激光器放电腔内表面镀层结构，其特征在于，包括：敷设在放电腔腔体内表面上的内镀层；以及敷设在内镀层外侧的外镀层；
2.根据权利要求1所述的激光器放电腔内表面镀层结构，其特征在于，所述内镀层的厚度为所述外镀层厚度的1.5-3倍。
3.根据权利要求1所述的激光器放电腔内表面镀层结构，其特征在于，所述内镀层的厚度为15-30μm；所述外镀层厚度为5-20μm。
4.根据权利要求1所述的激光器放电腔内表面镀层结构，其特征在于，按照质量计，所述内镀层中Cu含量为2.5-6%，P含量为8-20%，其余为Ni。
5.根据权利要求...
【技术特征摘要】
1.一种激光器放电腔内表面镀层结构，其特征在于，包括：敷设在放电腔腔体内表面上的内镀层；以及敷设在内镀层外侧的外镀层；
2.根据权利要求1所述的激光器放电腔内表面镀层结构，其特征在于，所述内镀层的厚度为所述外镀层厚度的1.5-3倍。
3.根据权利要求1所述的激光器放电腔内表面镀层结构，其特征在于，所述内镀层的厚度为15-30μm；所述外镀层厚度为5-20μm。
4.根据权利要求1所述的激光器放电腔内表面镀层结构，其特征在于，按照质量计，所述内镀层中cu含量为2.5-6%，p含量为8-20%，其余为ni。
5.根据权利要求1所述的激光器放电腔内表面镀层结构，其特征在于，按照质量计，所述外镀层中p含量为5-15%，其余为ni。
6.一种...
【专利技术属性】
技术研发人员：阚金锋，马放，吕成伟，张旭，
申请(专利权)人：北京科益虹源光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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