System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种激光器放电腔内表面镀层结构及其制备方法技术_技高网

一种激光器放电腔内表面镀层结构及其制备方法技术

技术编号:40710347 阅读:21 留言:0更新日期:2024-03-22 11:11
本发明专利技术提供了一种激光器放电腔内表面镀层结构及其制备方法,激光器放电腔内表面镀层结构包括:敷设在放电腔腔体内表面上的内镀层;以及敷设在内镀层外侧的外镀层;内镀层为Ni‑Cu‑P镀层;外镀层为Ni‑P镀层。本发明专利技术通过化学镀镍技术在激光器放电腔腔体内表面镀覆上Ni‑Cu‑P/Ni‑P双层非晶镀层。镀层中Cu元素的存在使镀层表面均匀、致密,降低了镀层的孔隙率,从而增强了镀层的腐蚀性能。以及,由于稀土元素可以抑制晶核长大和H<subgt;2</subgt;的析出,因此掺入混合稀土盐的Ni‑P镀层相比现有未掺杂的Ni‑P镀层表面镀层更致密,孔洞数量更少。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及激光器,尤其是涉及一种激光器放电腔内表面镀层结构及其制备方法


技术介绍

1、准分子激光器的放电腔在高频放电条件下工作,通入的工作气体会与腔体内壁发生反应后产生各种固体和气体杂质,会极大地影响到激光器系统的放电效率和放电均匀性,同时随着腔体内反应的进行,氟原子会逐渐耗尽,因此需要频繁地更换气体。

2、为了提高激光器放电效率和放电均匀性,需要对放电腔的内表面进行钝化,现有的钝化手段是化学镀镍,其是利用电化学反应将ni2+还原成金属ni,并在放电腔内壁金属基体表面上沉积形成一层均匀的ni-p膜。化学镀镍具有良好的耐蚀效果,通常镀层中p含量越高,镀层的耐蚀性越好。但化学镀镍过程存在逸出h2的副反应,h2残留在镀层表面会形成针孔、疏松等缺陷,由于这些缺陷的存在,会在镀层表面形成局部微电池,导致镀层发生严重的腐蚀,从而严重影响钝化效果。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种激光器放电腔内表面镀层结构及其制备方法,以解决现有技术中存在的至少一个上述技术问题。

2、为解决上述技术问题,本专利技术提供的一种激光器放电腔内表面镀层结构,包括:敷设在放电腔腔体内表面上的内镀层;以及敷设在内镀层外侧的外镀层;

3、所述内镀层为ni-cu-p镀层;所述外镀层为ni-p镀层。

4、进一步地,所述内镀层的厚度为所述外镀层厚度的1.5-3倍。

5、更为优选地,所述内镀层的厚度为所述外镀层厚度的2倍。

6、进一步地,所述内镀层的厚度为15-30μm;所述外镀层厚度为5-20μm。

7、进一步地,按照质量计,所述内镀层中cu含量为2.5-6%,p含量为8-20%,其余为ni。即,ni-cu-p镀层除去cu和p元素后其余是ni元素。

8、进一步地,按照质量计,所述外镀层中p含量为5-15%,其余为ni。即,ni-p镀层中除去p元素后其余是ni元素。

9、本申请第二方面公开了一种上述激光器放电腔内表面镀层结构的制备方法,其包括如下步骤:

10、s10.碱洗除油

11、将放电腔腔体浸入碱液中浸泡去除表面油污;

12、s20.一次水洗

13、将碱洗后的腔体进行清洗,去除其表面残留的碱洗液;

14、s30.酸洗

15、使用hno3溶液对放电腔腔体进行酸洗,去除其表面的氧化物;

16、s40.二次水洗

17、将酸洗后的放电腔腔体进行清洗,去除其表面残留的酸洗液;

18、s50.化学镀ni-cu-p镀层

19、将放电腔腔体浸入化学镀ni-cu-p溶液中,在腔体内表面镀上ni-cu-p镀层;

20、s60.化学镀ni-p镀层

21、将放电腔腔体浸入化学镀ni-p溶液中,在腔体内表面镀上ni-p镀层;

22、s70.热处理,用以增强镀层界面的结合强度和去除镀层内部残余应力。

23、进一步地,步骤s10中,所述碱液为naoh、na3po4和na2co3混合溶液;混合溶液中包括30-60g/l naoh、20-40g/l na3po4和30-50g/l na2co3。

24、优选地,混合溶液中包括45g/l naoh、30g/l na3po4和40g/l na2co3。

25、进一步地,步骤s10中,碱液温度为50-85℃,优选为75℃;浸泡时间不小于10min。

26、进一步地,步骤s20和步骤s40中,采用逆流方式对腔体进行清洗,且清洗次数至少两次。

27、进一步地,步骤s30中,hno3溶液中的hno3浓度(按质量计)为10%。

28、优选地,步骤s30中,酸洗时间不小于30s。

29、进一步地,步骤s50中,施镀温度为70-95℃,ph=6.5-7.0,施镀时间为100-200min。

30、优选地,步骤s50中,施镀温度为80-90℃,施镀时间为130-140min。

31、进一步地,步骤s50中,ni-cu-p溶液按照质量计包括如下成份:

32、20-40g/l niso4·6h2o(硫酸镍);

33、0.25-0.40g/l cuso4·5h2o(硫酸铜);

34、30-40g/l nah2po2·2h2o(次磷酸钠);

35、30-40g/l na3c6h5o7·2h2o(柠檬酸钠);

36、20-40g/l naac(醋酸钠);

37、1-2mg/l ch4n2s(硫脲)。

38、进一步地,步骤s50中,ni-cu-p溶液按照质量计包括如下成份:

39、30g/l niso4·6h2o(硫酸镍);

40、0.32g/l cuso4·5h2o(硫酸铜);

41、34g/l nah2po2·2h2o(次磷酸钠);

42、35g/l na3c6h5o7·2h2o(柠檬酸钠);

43、30g/l naac(醋酸钠);

44、1.5mg/l ch4n2s(硫脲)。

45、进一步地,步骤s60中,施镀温度为70-90℃,ph=4-6,施镀时间为40-70min。

46、优选地,步骤s60中,施镀温度为85℃,ph=4.7,施镀时间为50-60min。

47、进一步地,步骤s60中,ni-p溶液按照质量计包括如下成份:

48、20-40g/l niso4·6h2o(硫酸镍);

49、10-20g/l nah2po2·2h2o(次磷酸钠);

50、30-40g/l na3c6h5o7·2h2o(柠檬酸钠);

51、25-35g/l naac(醋酸钠);

52、1-2mg/l ch4n2s(硫脲);

53、0.2-0.35g/l混合稀土盐;混合稀土盐中lacl3:cecl3:y(no3)3=2:3:2。

54、进一步地,步骤s60中,ni-p溶液按照质量计包括如下成份:

55、30g/l niso4·6h2o(硫酸镍);

56、16g/l nah2po2·2h2o(次磷酸钠);

57、35g/l na3c6h5o7·2h2o(柠檬酸钠);

58、30g/l naac(醋酸钠);

59、1.5mg/l ch4n2s(硫脲);

60、0.28g/l混合稀土盐。

61、进一步地,步骤70中,在真空条件下对放电腔腔体进行热处理,热处理温度为120-180℃,保温时间为50-70min。

62、采用上述技术方案,本专利技术具有如下有益效果:

63、本专利技术提供的一种激光器放电腔内表面镀层结构及其制备方法,通过化学镀镍技术在激光本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种激光器放电腔内表面镀层结构,其特征在于,包括:敷设在放电腔腔体内表面上的内镀层;以及敷设在内镀层外侧的外镀层;

2.根据权利要求1所述的激光器放电腔内表面镀层结构,其特征在于,所述内镀层的厚度为所述外镀层厚度的1.5-3倍。

3.根据权利要求1所述的激光器放电腔内表面镀层结构,其特征在于,所述内镀层的厚度为15-30μm;所述外镀层厚度为5-20μm。

4.根据权利要求1所述的激光器放电腔内表面镀层结构,其特征在于,按照质量计,所述内镀层中Cu含量为2.5-6%,P含量为8-20%,其余为Ni。

5.根据权利要求1所述的激光器放电腔内表面镀层结构,其特征在于,按照质量计,所述外镀层中P含量为5-15%,其余为Ni。

6.一种权利要求1-5任一所述的激光器放电腔内表面镀层结构的制备方法,其特征在于,其包括如下步骤:

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,步骤S10中,所述碱液为NaOH、Na3PO4和Na2CO3混合溶液;混合溶液中包括30-60g/L NaOH、20-40g/L Na3PO4和30-50g/L Na2CO3。

8.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,步骤S10中,碱液温度为50-85℃;浸泡时间不小于10min。

9.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,步骤S20和步骤S40中,采用逆流方式对腔体进行清洗,且清洗次数至少两次。

10.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,步骤S30中,HNO3溶液中的HNO3浓度为10%。

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【技术特征摘要】

1.一种激光器放电腔内表面镀层结构,其特征在于,包括:敷设在放电腔腔体内表面上的内镀层;以及敷设在内镀层外侧的外镀层;

2.根据权利要求1所述的激光器放电腔内表面镀层结构,其特征在于,所述内镀层的厚度为所述外镀层厚度的1.5-3倍。

3.根据权利要求1所述的激光器放电腔内表面镀层结构,其特征在于,所述内镀层的厚度为15-30μm;所述外镀层厚度为5-20μm。

4.根据权利要求1所述的激光器放电腔内表面镀层结构,其特征在于,按照质量计,所述内镀层中cu含量为2.5-6%,p含量为8-20%,其余为ni。

5.根据权利要求1所述的激光器放电腔内表面镀层结构,其特征在于,按照质量计,所述外镀层中p含量为5-15%,其余为ni。

6.一种...

【专利技术属性】
技术研发人员:阚金锋马放吕成伟张旭
申请(专利权)人:北京科益虹源光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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