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本发明涉及含氟靶材、功能膜层及其真空溅射成型方法,包括组分A、组分B、组分C和组分D,组分A包括固定颗粒;组分B包括改性硅烷;组分C包括全氟聚酯,所述全氟聚酯用于与组分A形成共价键;组分D包括网状物质。上述的含氟靶材,各组分沉积于基材后,组...该专利属于深圳市派恩新材料技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市派恩新材料技术有限公司授权不得商用。
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本发明涉及含氟靶材、功能膜层及其真空溅射成型方法,包括组分A、组分B、组分C和组分D,组分A包括固定颗粒;组分B包括改性硅烷;组分C包括全氟聚酯,所述全氟聚酯用于与组分A形成共价键;组分D包括网状物质。上述的含氟靶材,各组分沉积于基材后,组...