本技术提供了一种喷淋装置及化学气相沉积设备，包括至少2个第二气路单元和位于相邻所述第二气路单元之间的第一气路单元，所述第二气路单元包括第一凸起和设于所述第一凸起底部的第二凸起，以及贯穿所述第一凸起和所述第二凸起的喷淋通道；所述第一凸起的径向截面面积沿所述喷淋通道的延伸方向减小；所述第二凸起的外侧壁沿所述喷淋通道底部的延伸方向延伸；所述喷淋通道的延伸方向和所述喷淋通道底部的延伸方向均为各自远离所述第一气路单元的延伸方向；相邻的第一凸起围成第一通道，第一气路单元底部与第一通道顶部相通，能够有效减少或避免能相互反应的不同反应气体在喷淋装置的喷淋面附近产生预反应，且有利于成膜均匀性。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及化学气相沉积设备，尤其涉及喷淋装置及化学气相沉积设备。
技术介绍
1、化学气相沉积设备的喷淋头用于向载片单元，例如石墨板上的基板喷淋反应气体以在基板表面生长薄膜。金属有机化合物化学气相沉积(metal-organic chemical vapordeposition，mocvd)工艺在高温和一定反应压力使能够相互反应的不同源气沉积在基片表面并进行反应以生产外延薄膜。喷淋头的结构对外延薄膜的质量起着重要的影响。
2、现有技术的一些喷淋头的各喷嘴出气端在同一水平面上，气体喷出后由于体积变化和高温的影响会扩散膨胀，在这种情况下不同源气在到达基板前就会相遇而发生预反应，从而造成源气损耗以及影响外延薄膜的均匀性。
3、为解决现有技术存在的上述问题，亟需提供一种新型的喷淋装置。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种喷淋装置及包含所述喷淋装置的化学气相沉积设备，有效减少或避免能相互反应的不同反应气体在喷淋装置的喷淋面附近产生预反应，且有利于成膜均匀性。
>2、为实现上述目的本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种喷淋装置，其特征在于，包括至少2个第二气路单元和位于相邻所述第二气路单元之间的第一气路单元，其中：
2.根据权利要求1所述的喷淋装置，其特征在于，所述第一通道的相对两侧壁延伸所形成的夹角为30°-80°。
3.根据权利要求2所述的喷淋装置，其特征在于，所述第一凸起与所述第二凸起的高度之和的范围为2cm-10cm，所述第二凸起的高度为所述第一凸起高度的0.5-5倍。
4.根据权利要求1所述的喷淋装置，其特征在于，所述第二凸起表面，或者所述第二凸起表面和所述第一凸起表面包括功能层，以减少或避免反应气体对所述功能层所覆盖表面的侵蚀影响，和/或提高表面...
【技术特征摘要】
1.一种喷淋装置，其特征在于，包括至少2个第二气路单元和位于相邻所述第二气路单元之间的第一气路单元，其中：
2.根据权利要求1所述的喷淋装置，其特征在于，所述第一通道的相对两侧壁延伸所形成的夹角为30°-80°。
3.根据权利要求2所述的喷淋装置，其特征在于，所述第一凸起与所述第二凸起的高度之和的范围为2cm-10cm，所述第二凸起的高度为所述第一凸起高度的0.5-5倍。
4.根据权利要求1所述的喷淋装置，其特征在于，所述第二凸起表面，或者所述第二凸起表面和所述第一凸起表面包括功能层，以减少或避免反应气体对所述功能层所覆盖表面的侵蚀影响，和/或提高表面耐磨性。
5.根据权利要求4所述的喷淋装置，其特征在于，所述功能层包括氮化铝层和/或渗氮层。
6.根据权利要求1所述的喷淋装置，其特征在于，相邻的所述第二凸起围成第二通道，所述第二通道的径向宽度为d1，所述喷淋通道的径向宽度为d2，d1和d2的关系如下：d1：d2＝(5-30):1。
7.根据权利要求6所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：栾振兴，刘雷，
申请(专利权)人：楚赟精工科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：
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