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用于用光学器件测量熔融金属熔池的温度的测量设备和方法技术

技术编号:40680049 阅读:6 留言:0更新日期:2024-03-18 19:19
本发明专利技术涉及一种用于测量熔融金属熔池的温度的测量设备,包括:光学器件、检测装置、该光学器件的存储单元、该光学器件的该存储单元的可旋转支撑件、移动装置、拉直装置、外壳和连接到该外壳的引导系统。该外壳包封该检测装置、该光学器件的该存储单元、该光学器件的该存储单元的该可旋转支撑件、该移动装置以及该拉直装置。该移动装置适于供给该光学器件并使其回缩,并且包括:至少一个马达,该至少一个马达用于向前和向后驱动该光学器件的该存储单元的该可旋转支撑件,以及供给装置,该供给装置用于供给由用于向前和向后驱动的该至少一个马达驱动的该光学器件。本发明专利技术还涉及一种使用用于测量熔融金属熔池的温度的对应的测量设备的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】


技术介绍


技术实现思路

【技术保护点】

1.一种用于测量熔融金属熔池的温度的测量设备,包括

2.根据权利要求1所述的测量设备,其中所述光学器件包括盘绕部分和展开部分,并且其中所述展开部分限定所述光学器件的浸入路径。

3.根据权利要求2所述的测量设备,其中所述浸入路径不包括发生扭结的部分。

4.根据前述权利要求中任一项所述的测量设备,其中所述浸入路径不包括半径小于所述光学器件的所述外径的200倍的曲率。

5.根据前述权利要求中任一项所述的测量设备,其中所述浸入路径开始于所述光学器件的所述存储单元上的所述光学器件的外绕组的端部处。

6.根据前述权利要求中任一项所述的测量设备,其中所述引导系统的曲率的最小半径大于所述光学器件的所述存储单元上的所述光学器件的内绕组的半径的4倍。

7.根据前述权利要求中任一项所述的测量设备,其中所述引导系统包括至少一个引导管。

8.根据前述权利要求所述的测量设备,其中所述至少一个引导管的内径与所述光学器件的所述外金属管的直径的比率不大于2。

9.根据前述权利要求中任一项所述的测量设备,其中所述外壳的高度在所述光学器件的所述存储单元的外径的1.2倍至2倍的范围内。

10.根据前述权利要求中任一项所述的测量设备,其中所述测量设备包括控制装置,所述控制装置被配置为控制用于向前和向后驱动所述光学器件的所述存储单元的所述可旋转支撑件的所述至少一个马达以及用于向前和向后驱动所述供给装置的所述至少一个马达的活动。

11.根据前述权利要求所述的测量设备,其中所述控制装置被配置为协调用于向前和向后驱动所述光学器件的所述存储单元的所述可旋转支撑件的所述至少一个马达以及用于向前和向后驱动所述供给装置的所述至少一个马达的所述活动。

12.根据前述权利要求中任一项所述的测量设备,其中所述测量设备包括用于识别所述光学器件的前尖端的位置的装置。

13.根据前述权利要求中任一项所述的测量设备,其中所述检测装置被布置在所述光学器件的所述存储单元上、所述存储单元中或所述存储单元处。

14.一种使用根据前述权利要求中任一项所述的测量设备测量熔融金属熔池的温度的方法,至少包括以下步骤

15.根据权利要求14所述的方法,其中所述方法还包括至少一个识别所述光学器件的所述前尖端的所述位置的步骤。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于测量熔融金属熔池的温度的测量设备,包括

2.根据权利要求1所述的测量设备,其中所述光学器件包括盘绕部分和展开部分,并且其中所述展开部分限定所述光学器件的浸入路径。

3.根据权利要求2所述的测量设备,其中所述浸入路径不包括发生扭结的部分。

4.根据前述权利要求中任一项所述的测量设备,其中所述浸入路径不包括半径小于所述光学器件的所述外径的200倍的曲率。

5.根据前述权利要求中任一项所述的测量设备,其中所述浸入路径开始于所述光学器件的所述存储单元上的所述光学器件的外绕组的端部处。

6.根据前述权利要求中任一项所述的测量设备,其中所述引导系统的曲率的最小半径大于所述光学器件的所述存储单元上的所述光学器件的内绕组的半径的4倍。

7.根据前述权利要求中任一项所述的测量设备,其中所述引导系统包括至少一个引导管。

8.根据前述权利要求所述的测量设备,其中所述至少一个引导管的内径与所述光学器件的所述外金属管的直径的比率不大于2。

9.根据前述权利要求中任一项所述的测量设备,其中所述外壳的高度在所述光学器件的所述存...

【专利技术属性】
技术研发人员:G·詹森M·范维里尔伯格L·弗兰科斯
申请(专利权)人:贺利氏电测骑士国际股份公司
类型:发明
国别省市:

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