【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空传感器，尤其涉及一种真空标定用材料放气氛围供气装置及其使用方法。
技术介绍
1、真空传感器广泛应用于涉及真空环境的各个领域，如航天领域的空间环境模拟试验、镀膜领域的真空镀膜设备真空检测、以及电子
的电真空器件等。
2、真空传感器按照测量原理的不同，分为膜盒式、电容薄膜式、压阻式、电阻式、热偶式、电离式等类型，其中电阻式、热偶式、电阻式等类型的真空传感器受被测量空间的气体成分影响较大，因校准气体和实际气体氛围不一致，真空度的测量结果与校准时偏差甚至达到2倍以上。特别是在皮拉尼原理的真空传感器，在压力较低时，比如在小于100pa的压力范围时，对水蒸气、烃类气体、氮气的转化关系也不一致，其中对水蒸气的修正因子为2，氙气甚至达到了3。在应用真空传感器测量真空度时，往往存在校准用气体(氮气)与实际工作环境气体成分(氮气不是主要成分)区别甚大、工作环境气体成分不可知或不可测，导致真空度测量偏差很大。因此，需要对材料放气氛围下真空度测量数据和校准用气体氛围下测量数据对比、修正，以降低测量误差。
3、综上可知，现有的方法在实际使用上，存在着较多的问题，所以有必要加以改进。
技术实现思路
1、针对上述的缺陷，本专利技术的目的在于提供一种真空标定用材料放气氛围供气装置及装置，能够提供材料放气氛围，并能有效降低材料放气氛围下真空度测量误差。
2、为了实现上述目的，本专利技术提供了一种真空标定用材料放气氛围供气装置，包括有：
3、校准
4、样品室，与所述校准室之间通过一样品气调节阀门连接；且内置有用于盛放样品的样品舟、用于监测样品室真空度的全量程真空规以及用于分析残余气体成分的第一四极质谱仪；
5、第一抽真空模块，与所述样品室连接，用于在样品室抽真空阶段运作以对所述样品室抽真空，并在气体氛围建立阶段关闭；
6、样品室冲洗阀，与所述样品室连接，用于在样品冲洗阶段开启以使高纯氮气输送至所述样品室冲洗所述样品的表面，并在所述气体氛围建立阶段关闭；
7、第二抽真空模块，与所述校准室连接，用于在校准室抽真空阶段运作以使所述校准室调节至预设真空度；
8、真空标定单元，用于在所述气体氛围建立阶段建立起气体氛围后，根据所述参考真空规和所述被标定真空规的测量数据，计算出所述被标定真空规对所述样品的材料放气氛围的转换系数。
9、可选的，所述第一抽真空模块包括样品室分子泵和样品室前级泵，所述样品室分子泵的一端与所述样品室的样品室主阀连接，所述样品室前级泵连接于所述样品室分子泵的另一端。
10、可选的，所述第二抽真空模块为校准室真空泵组，所述校准室真空泵组与所述校准室的校准室主阀连接。
11、可选的，所述样品室还包括有一可开合的样品室舱门。
12、可选的，所述全量程真空规、所述第一四极质谱仪以及所述样品室舱门与所述样品室之间设有金属密封圈，且所述全量程真空规、所述第一四极质谱仪以及所述样品室舱门与所述样品室之间通过螺接固定安装。
13、可选的，所述样品舟为经过超高真空烘烤除气处理的不锈钢材料，且所述样品舟置于所述样品室的内侧底部。
14、可选的，所述校准室上还设有用于可控调节氮气输入的压力调节阀；和/或
15、所述校准室内还设有用于分析残余气体成分的第二四极质谱仪。
16、可选的，所述参考真空规为热阴极电离规或分离型电离真空规或电容薄膜真空规。
17、可选的，所述真空标定单元具体用于在所述气体氛围建立阶段建立起气体氛围后，计算所述被标定真空规测量的真空度与所述参考真空规测量的真空度之间的比值。
18、还提供了一种基于上述真空标定用材料放气氛围供气装置的使用方法，包括步骤：
19、将样品置于所述样品舟中并放入所述样品室内，运行所述第一抽真空模块以使所述样品室进入真空状态；
20、启动所述第二抽真空模块以使所述校准室调节至预设真空度；
21、调节所述样品室冲洗阀的开度，使得所述样品室的真空度在预设时间内维持在预设真空度范围；
22、关闭所述样品室冲洗阀，并在所述样品室的真空度小于指定阈值后启动所述第一四极质谱仪采集并记录所述样品室的残余气体氛围数据；关闭所述第一抽真空模块，使得所述样品材料放气直至所述样品室的真空度上升至稳定状态；
23、调节所述样品气调节阀门，通过所述参考真空规测量所述校准室的第一真空度，同时记录所述被标定真空规测量所述校准室的第二真空度，计算所述第二真空度与所述第一真空度之间的比值。
24、本专利技术所述真空标定用材料放气氛围供气装置及其使用方法，通过将样品置于所述样品舟中并放入所述样品室内，运行所述第一抽真空模块以使所述样品室进入真空状态；启动第二抽真空模块以使校准室调节至预设真空度；调节所述样品室冲洗阀的开度，使得所述样品室的真空度在预设时间内维持在预设真空度范围；关闭所述样品室冲洗阀，并在样品室的真空度小于指定阈值后启动第一四极质谱仪采集并记录所述样品室的残余气体氛围数据；关闭所述第一抽真空模块，使得所述样品材料放气直至样品室的真空度上升至稳定状态；调节样品气调节阀门，通过所述参考真空规测量校准室的第一真空度，同时记录所述被标定真空规测量校准室的第二真空度，计算第二真空度与第一真空度之间的比值。如此，本专利技术能够提供材料放气氛围，并能对材料放气氛围下真空度测量数据和校准用气体氛围下测量数据进行比对、修正，有效降低材料放气氛围下真空度测量误差。
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1.一种真空标定用材料放气氛围供气装置，其特征在于，包括有：
2.根据权利要求1所述的真空标定用材料放气氛围供气装置，其特征在于，所述第一抽真空模块包括样品室分子泵和样品室前级泵，所述样品室分子泵的一端与所述样品室的样品室主阀连接，所述样品室前级泵连接于所述样品室分子泵的另一端。
3.根据权利要求1所述的真空标定用材料放气氛围供气装置，其特征在于，所述第二抽真空模块为校准室真空泵组，所述校准室真空泵组与所述校准室的校准室主阀连接。
4.根据权利要求1所述的真空标定用材料放气氛围供气装置，其特征在于，所述样品室还包括有一可开合的样品室舱门。
5.根据权利要求4所述的真空标定用材料放气氛围供气装置，其特征在于，所述全量程真空规、所述第一四极质谱仪以及所述样品室舱门与所述样品室之间设有金属密封圈，且所述全量程真空规、所述第一四极质谱仪以及所述样品室舱门与所述样品室之间通过螺接固定安装。
6.根据权利要求1所述的真空标定用材料放气氛围供气装置，其特征在于，所述样品舟为经过超高真空烘烤除气处理的不锈钢材料，且所述样品舟置于所述样品
7.根据权利要求1所述的真空标定用材料放气氛围供气装置，其特征在于，所述校准室上还设有用于可控调节氮气输入的压力调节阀；和/或
8.根据权利要求1所述的真空标定用材料放气氛围供气装置，其特征在于，所述参考真空规为热阴极电离规或分离型电离真空规或电容薄膜真空规。
9.根据权利要求1所述的真空标定用材料放气氛围供气装置，其特征在于，所述真空标定单元具体用于在所述气体氛围建立阶段建立起气体氛围后，计算所述被标定真空规测量的真空度与所述参考真空规测量的真空度之间的比值。
10.一种基于权利要求1～9任一项所述真空标定用材料放气氛围供气装置的使用方法，其特征在于，包括步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种真空标定用材料放气氛围供气装置，其特征在于，包括有：
2.根据权利要求1所述的真空标定用材料放气氛围供气装置，其特征在于，所述第一抽真空模块包括样品室分子泵和样品室前级泵，所述样品室分子泵的一端与所述样品室的样品室主阀连接，所述样品室前级泵连接于所述样品室分子泵的另一端。
3.根据权利要求1所述的真空标定用材料放气氛围供气装置，其特征在于，所述第二抽真空模块为校准室真空泵组，所述校准室真空泵组与所述校准室的校准室主阀连接。
4.根据权利要求1所述的真空标定用材料放气氛围供气装置，其特征在于，所述样品室还包括有一可开合的样品室舱门。
5.根据权利要求4所述的真空标定用材料放气氛围供气装置，其特征在于，所述全量程真空规、所述第一四极质谱仪以及所述样品室舱门与所述样品室之间设有金属密封圈，且所述全量程真空规、所述第一四极质谱仪以及所述样品室舱门与所述样品...
【专利技术属性】
技术研发人员：史纪军，段晨旭，丁冉，窦仁超，崔寓淏，张子罡，齐嘉东，孙立臣，任国华，齐飞飞，李文斌，
申请(专利权)人：北京卫星环境工程研究所，
类型：发明
国别省市：
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