一种低渗透率全氟聚合物复合膜及其制备工艺制造技术

本发明专利技术涉及复合材料加工技术领域，尤其涉及一种低渗透率全氟聚合物复合膜及其制备工艺。制备工艺包括：采用离子注入在全氟聚合物基膜表面注入金属离子，在全氟聚合物基膜表面形成厚度为30～70纳米的金属种子层；然后在金属种子层表面制备厚度为2～10微米的金属膜。本发明专利技术提供了一种低渗透率全氟聚合物复合膜，不但保留了全氟聚合物的力学性能，同时对气体又具有极高的阻隔性，在航空、航天和电子领域具有广泛的应用前景。而且复合膜中的全氟聚合物膜层与金属膜层具有足够的结合力，能够防止在使用过程中发生剥离。此外，本发明专利技术的制备方法清洁无污染，环保性好，可在工业生产中大规模推广应用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及复合材料加工，尤其涉及一种低渗透率全氟聚合物复合膜及其制备工艺。

技术介绍

1、以聚四氟乙烯为代表的全氟聚合物具有高的化学和热稳定性，优良的抗介质能力；以及极佳的绝缘性和低的介电常数，其膜材广泛应用高频高压电缆、液晶显示器生产等各个领域。典型的全氟聚合物包括聚四氟乙烯、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物和可熔性聚四氟乙烯。全氟聚合物中氟原子电子结构类似于惰性气体难以被极化，而且包覆在碳链的表面，使得聚合物分子链间缺乏相互结合力。独特的分子结构使得全氟聚合物材料内部存在大量微孔，气体或者小分子化合物能够顺着微孔发生泄露，因此全氟聚合物的阻隔性差，在同等条件下其对氧气和空气的透气率比聚乙烯高两个数量级。

2、为此，利用复合材料降低全氟聚合物膜材料的渗透性一直备受关注。例如：利用强辐射使全氟聚合物产生活性基团使全氟聚合物分子链间发生反应，可以提高全氟聚合物的阻隔性，但强辐射会降低氟材料的强度。在塑料薄膜表面复合高阻隔性的金属薄膜是有效提高膜材料阻隔性的有效策略，但是全氟聚合物独特的双疏性，使得金属薄膜与全氟聚合物薄膜间缺乏必要的粘结力，容易导致层本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种全氟聚合物复合膜的制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，制备所述金属膜的工艺为真空镀或电镀。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述金属膜的金属为铜、金、银、镍、钴、锰、铅中的至少一种时，采用电镀工艺制备所述金属膜。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述金属膜的金属为铝、锌、铁、镁、钛中的至少一种时，采用真空镀工艺制备所述金属膜。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述离子注入的真空系统压力为10-5～10-3Pa，注入的强度电压为10～40kV，注入计量为...

【技术特征摘要】

1.一种全氟聚合物复合膜的制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，制备所述金属膜的工艺为真空镀或电镀。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述金属膜的金属为铜、金、银、镍、钴、锰、铅中的至少一种时，采用电镀工艺制备所述金属膜。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述金属膜的金属为铝、锌、铁、镁、钛中的至少一种时，采用真空镀工艺制备所述金属膜。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述离子注入的真空系统压力为10-5～10-3pa，注入的强...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵凡，杨帆，邓博文，邹伟，
申请(专利权)人：中昊晨光化工研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：