本发明专利技术涉及一种不锈钢设备的清洗液，特别是一种用于生产G4级溶剂的不锈钢设备的清洗液。上述技术方案仅通过乙酸、草酸、硝酸和磷酸等四种常见的酸和去离子水以一定的比例调配得到用于生产G4级溶剂的不锈钢设备的清洗液。使用本发明专利技术提供的用于生产G4级溶剂的不锈钢设备的清洗液在不锈钢设备使用前对设备进行清洗，清洗过程能让那些可溶出的金属离子提前充分溶出，从而在清洗后的不锈钢设备在生产、加工、储存、使用溶剂的过程中就不会有过多的金属离子析出(控制金属离子析出量小于100ppt)，保证产品的金属离子符合要求，达到G4级别。通过使用本发明专利技术的用于生产G4级溶剂的不锈钢设备的清洗液，可以大大提高生产效率和质量，同时降低生产成本和能耗。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种不锈钢设备的清洗液，特别是一种用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液。
技术介绍
1、g4级溶剂是一种高纯度、低蒸发速度的有机溶剂，具有低挥发性、低毒性、低腐蚀性等特点，因此被广泛应用于精密清洗、表面处理、电子化学品等领域。g4级溶剂的具体成分可能因生产商和实际用途而异，但通常是一种混合物，包含多种有机化合物。这些化合物可能包括醇类、酮类、酯类、芳香族化合物等，但它们都具有较高的沸点和较低的蒸气压。g4级溶剂可以用于精密清洗和表面处理，去除金属表面的氧化物、油脂和其他污染物以确保电子元件和半导体的质量和性能，因此，g4级溶剂在电子和半导体制造行业扮演着重要的角色。
2、半导体行业对于金属离子要求极高，常用的溶剂中金属离子的浓度一般需达到ppt级别，所以在加工、存储、使用时，要求生产溶剂的设备其金属离子、杂质颗粒溶出量极小。
3、半导体常需要使用大量有机溶剂用于清洗，同样对这些有机溶剂的金属离子的要求特别高，通常要达到ppt级别。但是半导体用的有些有机溶剂沸点高、使用量大，如pma、nmp等，精馏过程要采用蒸汽加热，需要负压、高温。氟塑料设备无法满足强度要求，会脱落或者高温变形，只能做体积较小的设备。不锈钢设备强度合适，但是精馏过程中不锈钢设备难免都会有金属离子溶出，然而，现有的清洗液往往无法有效地提前溶解可溶出的金属离子，导致在清洗后的不锈钢设备生产过程中仍有过多的金属离子析出，使产品无法满足半导体化学品对g4溶剂的要求，影响产品质量。
技术实现思路</p>1、鉴于上述问题，本申请提供了一种用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液和清洗不锈钢设备的方法，以期把不锈钢精馏设备充分清洗至洁净状态，从而在进行溶剂精馏操作的时候，不锈钢精馏设备不再析出金属离子，或者说析出的金属离子很小，小于100ppt，不会对生产出的g4级溶剂产品质量构成不利影响。
2、为实现上述目的，专利技术人提供了一种用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液，按质量百分比计，包括：
3、乙酸0.0％至6.0％；
4、草酸0.0％至6.0％；
5、硝酸0.0％至6.0％；
6、磷酸0.0％至6.0％；
7、其余为去离子水。
8、本专利技术提供的清洗液的组成包括乙酸、草酸、硝酸和磷酸，它们在一定的配比条件下可以与金属离子发生化学反应，从而有效地溶解可溶出的金属离子。具体来说，乙酸、草酸、硝酸和磷酸具有酸性，可以与金属离子发生酸碱反应，这些化学反应可以促进金属离子的溶解，从而减少清洗后不锈钢设备中金属离子的含量。此外，该清洗液中含量占比更大的去离子水不会与金属离子发生化学反应，但可以起到稀释作用，使清洗液的浓度更加均匀，从而更好地促进金属离子的溶解。因此，该清洗液可以有效地提前溶解可溶出的金属离子，减少清洗后不锈钢设备中金属离子的含量，提高生产过程中的质量和效率。
9、优选地，按质量百分比计，所述用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液中包括：
10、乙酸0.0％至3.0％；
11、草酸0.0％至3.0％；
12、硝酸0.5％至5.0％；
13、磷酸0.0％至3.0％；
14、其余为去离子水。
15、在本专利技术的第二方面，专利技术人提供了一种用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液的配制方法，包括如下步骤：
16、以所述用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液的总质量百分比计，向去离子水中加入乙酸0.0％至6.0％、草酸0.0％至6.0％、硝酸0.0％至6.0％和磷酸0.0％至6.0％。
17、可见，本专利技术提供的用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液的配制方法简单，原料易得。
18、第三方面，本专利技术提供了用本专利技术第一方面所述的用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液清洗不锈钢设备的方法，包括如下步骤：
19、第一次清洗：将所述用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液充满所述不锈钢设备，使所述用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液在所述不锈钢设备中静置，并与所述不锈钢设备的各处充分浸润，得到第一洗液；
20、第二次清洗：检测金属离子并判定是否继续清洗，若所述第一洗液的金属离子含量＞2000ppt，则更换新的所述用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液再次进行第一次清洗；若所述第一洗液的金属离子含量为1000ppt～2000ppt，则继续静置3-5h后，将该不锈钢设备中的清洗液标记为第一清洗液，若所述第一清洗液的金属离子含量超过所述第一洗液的金属离子含量的差值大于等于5％，则重复所述第二次清洗步骤，若所述第一清洗液的金属离子超过所述第一洗液的金属离子含量的差值小于5％，则清洗完成。
21、本专利技术提供的清洗不锈钢设备的方法操作步骤简单、结果判定简便且准确，易于执行。
22、进一步地，所述不锈钢设备包括不锈钢精馏设备、不锈钢贮存罐和不锈钢运输罐。本专利技术提供的方法在半导体行业湿电子化学品的加工、存储、使用所涉及到的不锈钢设备中都适用，有效地提高了有机溶剂的产品质量。
23、在本专利技术优选的实施方案中，当所述不锈钢设备为不锈钢精馏设备时，所述第一次清洗步骤中，使所述用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液在所述不锈钢设备中静置则变为：将所述用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液充满成套不锈钢精馏设备中，并采用循环泵循环。
24、一些更优选的方案中，采用循环泵将所述用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液充满成套不锈钢精馏设备中循环3-5h。
25、第四方面，本专利技术提供了一种不锈钢设备，采用本专利技术第三方面所述方法清洗得到。
26、优选的实施方案中，在工艺条件为温度30～230℃，绝对压力为0～200kpa的情况下生产的有机溶剂产品，其中的金属离子含量小于100ppt。
27、区别于现有技术，上述技术方案仅通过乙酸、草酸、硝酸和磷酸等四种常见的酸和去离子水以一定的比例调配得到用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液，填补了g4级溶剂不锈钢生产设备清洗液的技术空白。使用本专利技术提供的用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液在不锈钢设备使用前对设备进行清洗，清洗过程能让那些可溶出的金属离子提前充分溶出，从而在清洗后的不锈钢设备中进行生产、加工、储存、使用溶剂的过程中就不会有过多的金属离子析出(控制金属离子析出量小于100ppt)，保证产品中的金属离子符合要求，达到g4级别。通过使用本专利技术的用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液，可以大大提高生产效率和质量，同时降低生产成本和能耗。因此，本专利技术的用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液具有广泛的应用前景和推广价值。
28、上述
技术实现思路
相关记载仅是本申请技术方案的概述，为了让本领域普通技术人员能够更清楚地了解本申请的技术方案，进而可以依据说明书的文字及附图记载的内容予以实施，并且为了让本申请的上述目的及其它目的、特征和本文档来自技高网
...
【技术保护点】
1.一种用于生产G4级溶剂的不锈钢设备的清洗液，其特征在于，按质量百分比计，包括：
2.根据权利要求1所述的用于生产G4级溶剂的不锈钢设备的清洗液，其特征在于，按质量百分比计，包括：
3.权利要求1或2所述的用于生产G4级溶剂的不锈钢设备的清洗液的配制方法，其特征在于，包括如下步骤：
4.用权利要求1或2所述的用于生产G4级溶剂的不锈钢设备的清洗液清洗不锈钢设备的方法，其特征在于，包括如下步骤：
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述不锈钢设备包括不锈钢精馏设备、不锈钢贮存罐和不锈钢运输罐。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，当所述不锈钢设备为不锈钢精馏设备时，所述第一次清洗中，将所述用于生产G4级溶剂的不锈钢设备的清洗液充满成套不锈钢精馏设备中，并采用循环泵循环。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，采用循环泵循环3-5h。
8.一种不锈钢设备，其特征在于，采用权利要求4-7中任一项所述方法清洗得到。
9.根据权利要求8所述的不锈钢设备，其特征在于，在工艺条件为温度30～230℃，绝对压力为0～200kpa的情况下生产的有机溶剂产品，其中的金属离子含量小于100ppt。
...
【技术特征摘要】
1.一种用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液，其特征在于，按质量百分比计，包括：
2.根据权利要求1所述的用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液，其特征在于，按质量百分比计，包括：
3.权利要求1或2所述的用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液的配制方法，其特征在于，包括如下步骤：
4.用权利要求1或2所述的用于生产g4级溶剂的不锈钢设备的清洗液清洗不锈钢设备的方法，其特征在于，包括如下步骤：
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述不锈钢设备包括不锈钢精馏设备、不锈钢贮存罐和不锈钢运输罐。...
【专利技术属性】
技术研发人员：崔文涛，林秋玉，沈军，
申请(专利权)人：福建钰融科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。