【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及蚀刻液生产，具体地涉及一种高寿命的稳定蚀刻液生产设备。
技术介绍
1、目前高世代液晶面板生产工艺中，阵列制程需要用到铜钼膜蚀刻液，蚀刻的金属膜层结构为铜/钼合金。铜/钼合金的层结构膜通过溅射法等成膜工艺在玻璃等基板上成膜，然后经过将抗蚀剂等作为掩膜进行蚀刻的蚀刻工序而成为电极图案。
2、公告号cn109234736b的专利技术专利授权文献公开了一种高寿命铜钼蚀刻液及蚀刻方法，具体公开了包括：蚀刻液母液以及蚀刻液子液；所述蚀刻液母液的主要成分包括占所述蚀刻液母液总质量百分比为10～20％的过氧化氢、占所述蚀刻液母液总质量百分比为1～10％的调节剂、占所述蚀刻液母液总质量百分比为0.5～5％的稳定剂、占所述蚀刻液母液总质量百分比为1～10％的有机酸、占所述蚀刻液母液总质量百分比为0.001～1％的抑制剂以及占所述蚀刻液母液总质量百分比为1～10％的ph调节剂，余量为去离子水；所述蚀刻液子液的主要成分包括占相对于所述蚀刻液母液质量百分比为3～10％的溶解剂、占相对于所述蚀刻液母液质量百分比为0.05～0.5％的所述有机酸、占相对于所述蚀刻液母液质量百分比为0.001～0.01％的所述抑制剂以及占相对于所述蚀刻液母液质量百分比为0.01～0.1％的所述稳定剂。有益效果为：本专利技术所提供的高寿命铜钼蚀刻液及蚀刻方法，通过向一定铜离子浓度的蚀刻溶液中加入溶解剂、有机酸、抑制剂以及稳定剂的组合物，进一步延长了蚀刻液的使用寿命，更进一步提高了蚀刻品质的稳定性。
3、上述专利文献还公开了调节剂、稳定剂、有机
4、因此，如何高效率地生产高寿命的稳定蚀刻液，是本领域亟待解决的一个技术问题。
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题，在于提供一种高寿命的稳定蚀刻液生产设备，高效率地生产高寿命的稳定蚀刻液。
2、本专利技术是这样实现的：一种高寿命的稳定蚀刻液生产设备，包括：
3、液体原料输送装置、粉末原料输送装置、惰性气体供给装置和反应釜；
4、所述液体原料输送装置包括液体原料罐、液泵、第一输料管、第一电控阀门、第一竖直管和第一喷料管；
5、所述液体原料罐的底部出口与所述第一输料管的入口连接，所述第一电控阀门安装在所述液体原料罐的底部出口，所述第一输料管的出口与所述液泵的入口连接，所述液泵的出口与所述第一竖直管的下端入口连接，所述第一竖直管的上端出口穿进所述反应釜的顶部，还与所述第一喷料管的入口连接；
6、所述粉末原料输送装置包括粉末原料罐、气泵、第二输料管、第二电控阀门、第三电控阀门、第二竖直管、第二喷料管、三通管和输气管；
7、所述粉末原料罐的底部出口与所述三通管的第一管口连接，所述第二电控阀门安装在所述粉末原料罐的底部出口，所述三通管的第二管口与所述第二输料管的入口连接，所述第二输料管的出口与所述气泵的入口连接，所述气泵的出口与所述第二竖直管的下端入口连接，所述第二竖直管的上端出口穿进所述反应釜的顶部，还与所述第二喷料管的入口连接，所述第二喷料管的出口向下延伸到所述反应釜的底部，所述输气管的出口与所述三通管的第三管口连接，所述输气管的入口与所述惰性气体供给装置的出口连接，所述第三电控阀门安装在所述输气管；
8、蚀刻液的原料包括过氧化氢、调节剂、稳定剂、有机酸、抑制剂、ph调节剂、去离子水、溶解剂；
9、所述液体原料输送装置的数量与所述蚀刻液的液体原料的种类一致，所述粉末原料输送装置的数量与所述蚀刻液的粉末原料的种类一致。
10、进一步地，所述液体原料输送装置有三个，分别用于所述过氧化氢、去离子水与溶解剂；
11、所述粉末原料输送装置有五个，分别用于所述调节剂、稳定剂、有机酸、抑制剂与ph调节剂。
12、进一步地，所述调节剂是乙酰苯胺，所述稳定剂是苯基脲，所述有机酸是柠檬酸，所述抑制剂是苯并三唑，所述ph调节剂是磷酸钠。
13、进一步地，所述蚀刻液分为蚀刻母液与蚀刻子液；
14、按质量百分比计，所述蚀刻母液包括10～20％的所述过氧化氢，1～10％的所述调节剂，0.5～5％的所述稳定剂，1～10％的所述有机酸，0.001～1％的所述抑制剂，1～10％的所述ph调节剂，余量为所述去离子水；
15、相对于所述蚀刻母液质量百分比，所述蚀刻子液包括3～10％的所述溶解剂，0.05～0.5％的所述有机酸，0.001～0.01％的所述抑制剂，以及0.01％～0.1％的所述稳定剂。
16、进一步地，还包括工业计算机，所述工业计算机与所述液泵、气泵、第一电控阀门、第二电控阀门、第三电控阀门、惰性气体供给装置电连接。
17、进一步地，还包括支撑架和称重传感器，所述称重传感器固定设置在所述支撑架，所述反应釜放置在所述称重传感器的检测端，所述称重传感器与所述工业计算机电连接。
18、进一步地，还包括气体回收装置，所述回收装置包括排气管、排气阀、过滤器和干燥器；
19、所述排气管的入口与所述反应釜的顶部出气口连接，所述排气阀安装在所述排气管，所述排气阀与所述工业计算机电连接，所述排气管的出口与所述过滤器的入口连接，所述过滤器的出口与所述干燥器的入口连接，所述干燥器的出口与所述惰性气体供给装置的回收口连接。
20、进一步地，还包括角度调节器，所述第二喷料管与所述反应釜通过所述角度调节器连接，所述第二喷料管的入口与所述第二竖直管的出口通过软管连接，所述角度调节器与所述工业计算机电连接。
21、与
技术介绍
相比，本专利技术的优点在于：液体原料由液泵直接输送到反应釜，粉末原料与惰性气体混合，在气泵的驱动下，粉末原料随流动的惰性气体一起输送到反应釜，粉末原料溶于液体原料，惰性气体从液体原料向上冒出，起到气动搅拌溶液的作用，可不用在反应釜设置机械搅拌机构，工作人员无需将粉末原料搬运到反应釜的上方，直接在对应位置的原料罐添加粉末原料，节约时间，高效率地生产高寿命的稳定蚀刻液。
【技术保护点】
1.一种高寿命的稳定蚀刻液生产设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种高寿命的稳定蚀刻液生产设备，其特征在于，所述液体原料输送装置有三个，分别用于所述过氧化氢、去离子水与溶解剂；
3.根据权利要求2所述的一种高寿命的稳定蚀刻液生产设备，其特征在于，所述调节剂是乙酰苯胺，所述稳定剂是苯基脲，所述有机酸是柠檬酸，所述抑制剂是苯并三唑，所述pH调节剂是磷酸钠。
4.根据权利要求1所述的一种高寿命的稳定蚀刻液生产设备，其特征在于，所述蚀刻液分为蚀刻母液与蚀刻子液；
5.根据权利要求1所述的一种高寿命的稳定蚀刻液生产设备，其特征在于，还包括工业计算机，所述工业计算机与所述液泵、气泵、第一电控阀门、第二电控阀门、第三电控阀门、惰性气体供给装置电连接。
6.根据权利要求5所述的一种高寿命的稳定蚀刻液生产设备，其特征在于，还包括支撑架和称重传感器，所述称重传感器固定设置在所述支撑架，所述反应釜放置在所述称重传感器的检测端，所述称重传感器与所述工业计算机电连接。
7.根据权利要求5所述的一种高寿命的稳定蚀刻液生产
8.根据权利要求5所述的一种高寿命的稳定蚀刻液生产设备，其特征在于，还包括角度调节器，所述第二喷料管与所述反应釜通过所述角度调节器，所述第二喷料管的入口与所述第二竖直管的出口通过软管连接，所述角度调节器与所述工业计算机电连接。
...【技术特征摘要】
1.一种高寿命的稳定蚀刻液生产设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种高寿命的稳定蚀刻液生产设备，其特征在于，所述液体原料输送装置有三个，分别用于所述过氧化氢、去离子水与溶解剂；
3.根据权利要求2所述的一种高寿命的稳定蚀刻液生产设备，其特征在于，所述调节剂是乙酰苯胺，所述稳定剂是苯基脲，所述有机酸是柠檬酸，所述抑制剂是苯并三唑，所述ph调节剂是磷酸钠。
4.根据权利要求1所述的一种高寿命的稳定蚀刻液生产设备，其特征在于，所述蚀刻液分为蚀刻母液与蚀刻子液；
5.根据权利要求1所述的一种高寿命的稳定蚀刻液生产设备，其特征在于，还包括工业计算机，所述工业计算机与所述液泵、气泵、第一电控阀门、第二...
【专利技术属性】
技术研发人员：林秋玉，崔文涛，邵振，
申请(专利权)人：福建钰融科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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