【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示，尤其涉及一种缓冲装置及转移装置。
技术介绍
1、在将微型发光器件(例如微米发光二极管)由生长基板转移至承接基板上时，存在微型发光器件在承接基板发生偏移或损坏的情况。
2、因此，如何提高转移后的微型发光器件的位置形态良率是亟需解决的问题。
技术实现思路
1、鉴于上述现有技术的不足，本申请的目的在于提供一种缓冲装置及转移装置，旨在解决如何提高转移后的微型发光器件的位置形态良率。
2、本申请实施例提供一种缓冲装置，包括承载件、第一开口部、第二开口部、第一定位结构以及第二定位结构；承载件具有用于容纳缓冲介质的空腔；第一开口部和第二开口部相对地设置于承载件沿第一方向的两侧，且分别与空腔相连通；第一定位结构用于将设有微型发光器件的第一基板定位于第一开口部处，第二定位结构用于将第二基板定位于第二开口部处，第二基板用于承载第一基板释放的微型发光器件；其中，缓冲介质填充满空腔。
3、上述缓冲装置，通过将第一基板定位于第一开口部处以及将第二基板定位于第二...
【技术保护点】
1.一种缓冲装置，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的缓冲装置，其特征在于，所述缓冲介质为流体。
3.如权利要求2所述的缓冲装置，其特征在于，所述缓冲介质为气体，所述缓冲介质被配置为能够使所述空腔内具有预设气压。
4.如权利要求2所述的缓冲装置，其特征在于，所述缓冲介质为液体，所述缓冲介质被配置为具有预设密度。
5.如权利要求1-4任一项所述的缓冲装置，其特征在于，所述第一定位结构包括与所述第一开口部连通且与所述第一基板形状适配的第一台阶部。
6.如权利要求5所述的缓冲装置，其特征在于，所述第一定位结构...
【技术特征摘要】
1.一种缓冲装置，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的缓冲装置，其特征在于，所述缓冲介质为流体。
3.如权利要求2所述的缓冲装置，其特征在于，所述缓冲介质为气体，所述缓冲介质被配置为能够使所述空腔内具有预设气压。
4.如权利要求2所述的缓冲装置，其特征在于，所述缓冲介质为液体，所述缓冲介质被配置为具有预设密度。
5.如权利要求1-4任一项所述的缓冲装置，其特征在于，所述第一定位结构包括与所述第一开口部连通且与所述第一基板形状适配的第一台阶部。
6.如权利要求5所述的缓冲装置，其特征在于，所述第一定位结构还包括设置于所述第一台阶部的台阶面上的第一真空吸附口。
7.如权利要求5所述的缓冲装置，其特征在于，所述第一定位结构还包括滑动件；
8.如权利要求1-4任一项所述的缓冲装置，其特征在于，所述第二定...
【专利技术属性】
技术研发人员：王斌，萧俊龙，范春林，汪庆，詹蕊绮，
申请(专利权)人：重庆康佳光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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