【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体工艺设备领域,具体地,涉及一种流量控制器。
技术介绍
1、气体流量控制器是一种装在气路上,实时的测量和控制气路中气体流量的仪表。是工业测量中最重要的仪表之一。它们在半导体和集成电路工艺、特种材料学科、化学工业、石油工业、医药、航空、环保和真空等多种领域的科研和生产中有着重要的应用。其典型的应用场合包括:微电子工艺设备,如扩散、氧化、外延、化学气相沉积(cvd)、等离子刻蚀、溅射、离子注入;以及镀膜设备、光纤熔炼、微反应装置、混气配气系统、气体取样、毛细管测量、气相色谱仪及其它分析仪器。
2、常用的气体流量控制器包括热式气体流量控制器、压力式气体流量控制器、压差式气体流量控制器等,压力式气体流量控制器是其中很常用的一种,其主要由流量检测传感器、流体通道、流量控制阀和放大控制电路等部件组成。其主要原理是使气体通过一个限流孔(喉口)被加速到音速。在此状态下,气体的流量和限流孔之前的压力成线性关系。其中,保证气体被加速到音速状态很重要,如果气体没有达到音速,则流量将不再和前端压力成线性,则测出的流量值可能产生偏差。<
...【技术保护点】
1.一种流量控制器,其特征在于,所述流量控制器包括流体通道、控制阀、第一压力传感器和控制器,所述流体通道中具有喉口,所述流体通道还包括位于所述喉口前端的变径段,所述流体通道在所述变径段的横截面积沿靠近所述喉口方向逐渐增大;
2.根据权利要求1所述的流量控制器,其特征在于,所述变径段的内壁形状为锥形。
3.根据权利要求1或2所述的流量控制器,其特征在于,所述流量控制器还包括固定座块,所述流体通道形成在所述固定座块中,所述控制阀、所述第一压力传感器和所述控制器均固定设置在所述固定座块上。
4.根据权利要求3所述的流量控制器,其特征在于,
...【技术特征摘要】
1.一种流量控制器,其特征在于,所述流量控制器包括流体通道、控制阀、第一压力传感器和控制器,所述流体通道中具有喉口,所述流体通道还包括位于所述喉口前端的变径段,所述流体通道在所述变径段的横截面积沿靠近所述喉口方向逐渐增大;
2.根据权利要求1所述的流量控制器,其特征在于,所述变径段的内壁形状为锥形。
3.根据权利要求1或2所述的流量控制器,其特征在于,所述流量控制器还包括固定座块,所述流体通道形成在所述固定座块中,所述控制阀、所述第一压力传感器和所述控制器均固定设置在所述固定座块上。
4.根据权利要求3所述的流量控制器,其特征在于,所述固定座块包括控制阀座块和控制器座块,所述控制阀固定设置在所述控制阀座块上,所述第一压力传感器和所述控制器均固定设置在所述控制器座块上;
5.根据权利要求4所述的流量控制器,其特征在于,所述控制阀座块的侧面还形成有环绕所述出流口的密封圈槽,和/或所述控制器座块的侧面还形成有环绕所述入流口的密封圈槽;所述密封圈槽中设置有环形密封圈,以将所述出流口与所述入流口密封连接。
6.根据权利要求4所述的流量控制器,其特征在于,所述控制器座块中还形成有喉口安装腔,所述喉口安装腔中固定设置有喉口件,所述喉口形成在所述喉口件上,所述变径段通过所述连接段以及所述喉口与所述喉口安装腔连...
【专利技术属性】
技术研发人员:李春玉,张海洋,杜井庆,耿振,
申请(专利权)人:北京七星华创流量计有限公司,
类型:新型
国别省市:
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