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本技术提供一种流量控制器和半导体工艺设备，流量控制器包括流体通道、控制阀、第一压力传感器和控制器，流体通道中具有喉口，流体通道还包括位于喉口前端的变径段，流体通道在变径段的横截面积沿靠近喉口方向逐渐增大；第一压力传感器用于检测喉口前端的流体...
该专利属于北京七星华创流量计有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京七星华创流量计有限公司授权不得商用。

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