一种可用于沉积碳的化学气相沉积炉工装制造技术

技术编号:40623280 阅读:19 留言:0更新日期:2024-03-12 22:46
本申请涉及制备盘装碳/碳复合材料工装的领域,尤其是涉及一种可用于沉积碳的化学气相沉积炉工装,其包括底炉盘、顶炉盘、底炉盘上的进气孔与顶炉盘上的出气孔、缓流底盘与缓流顶盘,缓流底盘的外壁与底炉盘内壁贴合;缓流口,缓流口穿设在缓流底盘的中心,用于引导工艺气体进入缓流部;缓流底环,缓流底环同轴不同径设置有多个,缓流底环设置在缓流底盘的顶侧;通气孔,通气孔靠近缓流底盘边缘穿设,通气孔周向等间距分布有多个;缓流顶环,缓流顶环同轴不同径设置有多个,且与缓流底环相间分布,缓流顶环与缓流底环之间形成缓流通道。本技术具有改善工艺原料气体在沉积过程中密度均匀性差,区域密度差距大的问题的效果。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及制备盘装碳/碳复合材料工装的领域,尤其是涉及一种可用于沉积碳的化学气相沉积炉工装


技术介绍

1、碳/碳复合材料是指以碳作为基体,以碳纤维作为增强体的一类复合材料。碳/碳复合材料具有低密度、高强度、高比模、低烧蚀率、高抗热震性、低热膨胀系数、零湿膨胀、不放气、在2000℃以内强度和模量随温度升高而增加、良好的抗疲劳性能、优异的摩擦损耗性能和生物相容性(组织成分及力学性能上均相容)、对宇宙辐射不敏感及在核辐射下强度增加等性能,尤其是碳/碳复合材料的强度随温度升高不降反升的独特性能,使其作为高性能发动机热端部件和使用于高超声速飞行器热防护系统具有其他材料难以比拟的优势。

2、cvd(或cvi)是碳/碳复合材料常见的一种制备工艺,cvd即化学气相法,是应用气态物质在固体上产生化学反应和传输反应并产生固态沉积物的一种工艺,在碳/碳复合材料的制备中,选用化学气相沉积炉作为制备主体。

3、碳/碳材料制备过程中,将工艺气体通入化学气相沉积炉内部,在炉体内部通过热辐射的形式升温并在炉体出口处热分解为碳、氢分子团,其中碳分子团在碳材料表体沉本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种可用于沉积碳的化学气相沉积炉工装,包括底炉盘(1)、顶炉盘(4)、开设在底炉盘(1)上的多个进气孔(11)与开设在顶炉盘(4)上的多个出气孔(41),其特征在于:还包括;

2.根据权利要求1所述的一种可用于沉积碳的化学气相沉积炉工装,其特征在于:所述缓流口(22)侧壁顶端与每个所述缓流底环(21)顶侧的高度相等。

3.根据权利要求1所述的一种可用于沉积碳的化学气相沉积炉工装,其特征在于:所述缓流顶盘(3)侧壁呈阶梯状设置,且其半径与所述底炉盘(1)的半径相等,缓流顶盘(3)的侧壁与底炉盘(1)的侧壁贴合,贴合面与所述缓流底盘(2)的顶端面、底端面交错。...

【技术特征摘要】

1.一种可用于沉积碳的化学气相沉积炉工装,包括底炉盘(1)、顶炉盘(4)、开设在底炉盘(1)上的多个进气孔(11)与开设在顶炉盘(4)上的多个出气孔(41),其特征在于:还包括;

2.根据权利要求1所述的一种可用于沉积碳的化学气相沉积炉工装,其特征在于:所述缓流口(22)侧壁顶端与每个所述缓流底环(21)顶侧的高度相等。

3.根据权利要求1所述的一种可用于沉积碳的化学气相沉积炉工装,其特征在于:所述缓流顶盘(3)侧壁呈阶梯状设置,且其半径与所述底炉盘(1)的半径相等,缓流顶盘(3)的侧壁与底炉盘(1)的侧壁贴合,贴合面与所述缓流底盘(2)的顶端面、底端面交错。

4.根据权利要求1所述的一种可用于沉积碳的化学气相沉积炉工装,其特征在于:相邻的所述缓流底环(21)之间形成缓...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴佩芳张从权丁存光杜勇吴鹏
申请(专利权)人:江油天启智和科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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